CN107400879A - 一种显示面板成膜设备及方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板成膜设备及方法。该显示面板成膜设备包括：至少一个真空腔体，每个真空腔体形成有真空腔室；气体输送系统，与真空腔体连接，用于将气体输送至真空腔室；待成膜基板，设置于真空腔室中；气体流速调控装置，设置于真空腔室中，位于待成膜基板成膜的一侧，且与待成膜基板具有一定间距，输入真空腔室的气体流经气体流速调控装置后，在待成膜基板上成膜；气体流速调控装置用于调控流经气体流速调控装置的不同位置的气体的流速。本发明实施例解决了成膜设备的成膜膜厚及膜质存在差异性的问题，实现了在整张基板不同位置和在不同基板之间成膜的一致性。

Description

一种显示面板成膜设备及方法

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板成膜设备及方法。

背景技术

在液晶显示技术领域，多采用等离子体化学气相沉积设备(成膜设备)在显示基板上沉积膜层。目前的等离子体化学气相沉积设备包括形成有真空腔室的真空腔体，设置于真空腔室中的上部电极和下部电极，待反应的气体通过真空腔体上部的进气口到达上部电极，该上部电极设有很多通孔，从而使气体通过通孔从上部电极进入反应区域，上部电极与射频电源相连用于产生等离子体；当处于一定压力下的气体通过上部电极后，在射频电源的作用下产生等离子体，并在上部电极与下部电极之间的电场作用下，气体发生反应并沉积到下部电极承载的基板上，从而形成致密的沉积结构。

但是，由于同一真空腔室内气体压力分布不均，使得气体分子间的碰撞出现位置上的差异性，进而导致整张基板上局部位置成膜速度快，局部位置成膜速度慢，造成整张基板不同位置的膜厚及膜质存在差异性，影响显示设备的稳定性；另外，多个基板可以分别在不同的真空腔室同时进行成膜，但由于不同的真空腔室存在差异性，导致基板与基板之间的膜厚及膜质存在差异性；再者，在成膜形成同型号不同批次的显示面板时，由于成膜环境(如气压)的改变，目前的成膜设备无法控制同型号不同批次的显示面板成膜膜厚及膜质的一致性，导致同型号不同批次的显示面板存在差异性。

发明内容

本发明提供一种显示面板成膜设备及方法，以解决成膜设备的成膜膜厚及膜质存在差异性的问题，实现在整张基板不同位置和在不同基板之间成膜的一致性。

一方面，本发明实施例提供了一种显示面板成膜设备，包括：

至少一个真空腔体，每个所述真空腔体形成有真空腔室；

气体输送系统，与所述真空腔体连接，用于将气体输送至所述真空腔室；

待成膜基板，设置于所述真空腔室中；

气体流速调控装置，设置于所述真空腔室中，位于所述待成膜基板成膜的一侧，且与所述待成膜基板具有一定间距，输入所述真空腔室的所述气体流经所述气体流速调控装置后，在所述待成膜基板上成膜；

所述气体流速调控装置用于调控流经所述气体流速调控装置的不同位置的气体的流速。

另一方面，本发明实施例还提供了一种显示面板成膜方法，采用上述一方面所述的显示面板成膜设备制备显示面板的膜层，包括：

将所述待成膜基板固定于所述真空腔体中；

将所述气体通过所述气体输送系统输送至所述真空腔室；

所述气体经所述气体流速调控装置后，在所述待成膜基板上成膜；

其中，所述气体流速调控装置用于调控流经所述气体流速调控装置的不同位置的气体的流速。

本发明实施例通过在显示面板成膜设备的真空腔室中设置气体流速调控装置，对输入真空腔室的流经气体流速调控装置不同位置的气体的流速进行调控，经调控后的气体在待成膜基板上成膜，由此，可预先根据每个真空腔体内各测试基板上不同位置的成膜膜厚，通过气体流速调控装置调控气体的流速，从而调节在基板上的成膜速率，使得测试基板不同位置的成膜具有一致性，以及不同测试基板之间的成膜具有一致性，据此设定好每个真空腔体中的气体流速调控装置的调控状态，从而在对待成膜基板成膜时，可实现在整张待成膜基板不同位置和在不同待成膜基板之间成膜的一致性。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种显示面板成膜设备的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示面板成膜设备中上部电极的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的通气孔开合单元位于通气孔靠近气体扩散腔一侧的示意图；

图4为本发明实施例提供的设置于通气孔一侧的通气孔开合单元的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种通气孔开合单元的内部结构示意图；

图6为本发明实施例提供的又一种通气孔开合单元的内部结构示意图；

图7为本发明实施例提供的第一控制部与通气孔开合单元的连接结构示意图；

图8为本发明实施例提供的通气孔控制单元与通气孔开合单元的连接结构示意图；

图9为本发明实施例提供的又一种通气孔控制单元与通气孔开合单元的连接结构示意图；

图10为本发明实施例提供的又一种显示面板成膜设备的结构示意图；

图11为本发明实施例提供的又一种显示面板成膜设备的俯视图；

图12为本发明实施例提供的又一种通气孔开合单元的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的又一种通气孔开合单元的结构示意图；

图14为本发明实施例提供的气动驱动装置与第二控制部连接的结构示意图；

图15为本发明实施例提供的筛网单元的结构示意图；

图16为本发明实施例提供的又一种显示面板成膜设备的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板成膜设备的结构示意图。如图1所示，本发明实施例提供的显示面板成膜设备，包括：

至少一个真空腔体10，每个真空腔体10形成有真空腔室101；

气体输送系统11，与真空腔体10连接，用于将气体输送至真空腔室101；

待成膜基板12，设置于真空腔室101中；

气体流速调控装置，设置于真空腔室101中，位于待成膜基板12成膜的一侧，且与待成膜基板12具有一定间距d，即d＞0，输入真空腔室101的气体流经气体流速调控装置后，在待成膜基板12上成膜；

气体流速调控装置用于调控流经气体流速调控装置的不同位置的气体的流速。

基于上述方案，本发明实施例通过在显示面板成膜设备的真空腔室中设置气体流速调控装置，对输入真空腔室的流经气体流速调控装置不同位置的气体的流速进行调控，经调控后的气体在待成膜基板上成膜，由此，可预先根据每个真空腔体内各测试基板上不同位置的成膜膜厚，通过气体流速调控装置调控气体的流速，从而调节在基板上的成膜速率，使得测试基板不同位置的成膜具有一致性，以及不同测试基板之间的成膜具有一致性，据此设定好每个真空腔体中的气体流速调控装置的调控状态，从而在对待成膜基板成膜时，可实现在整张待成膜基板不同位置和在不同待成膜基板之间成膜的一致性。

上述方案中，气体流速调控装置与待成膜基板12具有一定间距d，该距离d可以为固定距离，也可以根据测试的气体流速或成膜膜厚进行调节，不同真空腔体中的气体流速调控装置与待成膜基板的距离可以相同，也可以不同，只要保证整张待成膜基板不同位置成膜的一致性，以及不同待成膜基板之间成膜的一致性即可。

参考图1，本发明实施例中的显示面板成膜设备还可包括上部电极14，位于真空腔室101中，其中，

结合图2，图2为本发明实施例提供的显示面板成膜设备中上部电极的结构示意图，上部电极14包括气体扩散腔141，气体输送系统11与气体扩散腔141相连；示例性的，气体输送系统11可包括气体流量计111、气体混合箱112和气体输送管道113，气体流量计111用于对流经气体输送管道113的气体的流量进行控制，气体混合箱112用于将待成膜的气体进行充分混合，将混合后的气体通过气体输送管道113输送至上部电极14的气体扩散腔141。

上述气体扩散腔141靠近待成膜基板12的一侧形成有多个通气孔142，通入气体扩散腔141的气体经通气孔142和气体流速调控装置输出到待成膜基板12。其中，通气孔142可均匀分布，通气孔142的尺寸可相同。此时，继续参考图1，实线矩形框a表示气体流速调控装置位于通气孔142所在层远离待成膜基板12的一侧，虚线矩形框b表示气体流速调控装置位于通气孔142所在层靠近待成膜基板12的一侧。

需要说明的是，上述待成膜基板可被划分为多个待成膜区域，在该待成膜基板上成膜时，每个待成膜区域对应的位置均可设置至少一个与上部电极连接的气体输送管道113，以使混合气体在真空腔室内较均匀地分布，利于整张待成膜基板不同位置成膜的一致性。

可选的，继续参考图1，基于上述方案，本发明实施例中的显示面板成膜设备还可包括射频电源15，与上部电极14电连接，用作等离子体的配套电源；下部电极16，与上部电极14相对设置，用于承载待成膜基板12，并配合上部电极，使混合气体在上部电极14与下部电极16之间的电场作用下发生反应，沉积到待成膜基板12的成膜表面；边缘压板17，用于将待成膜基板固定在下部电极16上；升降机18，与下部电极16远离待成膜基板12的一侧连接，用于调节下部电极16的高度，进而改变上部电极14与下部电极16之间的电场强度；抽气泵19，用于抽出真空腔室101内多余的气体，稳定真空腔室101的气压。

本发明实施例中，气体流速调控装置可包括：

通气孔开合单元，与通气孔对应设置，用于调节通气孔的可通气区域的大小。可选的，通气孔开合单元与通气孔一一对应设置，每个通气孔孔口处被一个通气孔开合单元覆盖，通气孔的可通气区域为未被通气孔开合单元遮挡的区域，通过控制通气孔开合单元的开合程度，控制调节通气孔的可通气区域的大小，当通气孔的可通气区域变大时，通过该通气孔的气体的流量变大，反之，当通气孔的可通气区域变小时，通过该通气孔的气体的流量变小。通气孔开合单元可对位于上部电极的局部的通气孔的可通气区域的大小进行调节，从而调节局部的气体的流速，可以影响待成膜基板上对应区域的成膜速率，可以根据需求调节通过通气孔的气体的流速，便于满足在不同情况下对位于上部电极不同位置的通气孔的可通气区域大小的不同需求。

可选的，气体流速调控装置还可包括：

通气孔控制单元，连接于通气孔开合单元，用于控制通气孔开合单元的开合程度和开合状态。其中，开合程度包括通气孔开合单元从完全闭合到完全打开的变化范围，通气孔开合单元完全闭合时，对应的通气孔不通气，通气孔开合单元完全打开时，对应的通气孔的可通气区域为该通气孔本身的大小；开合状态包括打开状态和闭合状态，通气孔控制单元控制通气孔开合单元打开时，对应的通气孔的可通气区域逐渐增大，通气孔控制单元控制通气孔开合单元闭合时，对应的通气孔的可通气区域逐渐减小。由此，通过通气孔控制单元控制通气孔开合单元的开合程度和开合状态，调节通气孔的可通气区域的大小，进而调控流经气体流速调控装置的不同位置的气体的流速，便于实现对通气孔可通气区域的大小的自主控制。

可选的，通气孔开合单元和通气孔控制单元位于通气孔靠近气体扩散腔一侧或位于通气孔远离气体扩散腔一侧。示例性的，图3为本发明实施例提供的通气孔开合单元位于通气孔靠近气体扩散腔一侧的示意图。如图3所示，通气孔开合单元13和通气孔控制单元c位于通气孔142靠近气体扩散腔141一侧，可在确保实现对通气孔142可通气区域的大小的控制的同时，减小通气孔开合单元13和通气孔控制单元c的存在对位于通气孔142远离气体扩散腔141一侧的气体反应区的影响。另外，通气孔开合单元和通气孔控制单元也可位于通气孔远离气体扩散腔一侧，可减小对气体扩散腔的密封性的影响，简化通气孔开合单元和通气孔控制单元的设计和实现。本申请对通气孔开合单元和通气孔控制单元的具体位置不作限定，只要可以调节通气孔的可通气区域的大小即可。

示例性的，如图4和图5所示，图4为本发明实施例提供的设置于通气孔一侧的通气孔开合单元的结构示意图，图5为本发明实施例提供的一种通气孔开合单元的内部结构示意图，通气孔开合单元13包括至少一个旋转叶片131和至少一个固定轴132，固定轴132设置于通气孔142的周边，旋转叶片131套于固定轴132上并可绕固定轴132转动，用于调节通气孔142的可通气区域的大小。采用此设计，调节通气孔的可通气区域的大小的操作更加简便，使得通气孔的可通气区域介于通气孔本身的大小与通气孔完全被遮挡两种情况之间的任意一种状态，且可确保通气孔开合单元对通气孔的可通气区域的遮挡的严密性。

可选的，参考图5，通气孔开合单元可包括沿通气孔142的一周依次排布的多个旋转叶片131和多个固定轴132，旋转叶片131与固定轴132一一对应设置，旋转叶片131绕固定轴132旋转，多个旋转叶片131向通气孔开合单元的中心旋进或旋出，用于调节通气孔142的可通气区域的大小。示例性的，各旋转叶片131远离开合单元中心的一侧形成有至少一个锯齿，一联动齿轮133围绕所有旋转叶片131设置，联动齿轮133转动时或旋转叶片131旋转(旋进或旋出)时，旋转叶片131上的锯齿与联动齿轮133上的锯齿相配合。可选的，可控制联动齿轮133转动，以带动各旋转叶片131旋转；亦可控制任一旋转叶片131旋转，以带动联动齿轮133转动，进而带动其他各旋转叶片131旋转。上述通气孔开合单元的结构仅为示例性说明，本发明实施例对旋转叶片的旋转机构及方法不作限定，只要可以使旋转叶片向通气孔开合单元的中心旋进或旋出即可。采用此设计，调节通气孔的可通气区域的大小的操作更加简便，使得通气孔的可通气区域介于通气孔本身的大小与通气孔完全被遮挡两种情况之间的任意一种状态，且可确保通气孔开合单元对通气孔的可通气区域的遮挡的严密性。

另外，如图6所示，图6为本发明实施例提供的又一种通气孔开合单元的内部结构示意图，通气孔开合单元可包括沿通气孔142的周边设置的一个旋转叶片131和一个固定轴132，旋转叶片131绕固定轴132旋转，该旋转叶片131可向通气孔开合单元旋进或旋出，用于调节通气孔142的可通气区域的大小。其中，旋转叶片131可以为任意形状，只要可以遮挡通气孔142即可。采用此设计，在实现调节通气孔的可通气区域的大小介于通气孔本身的大小与通气孔完全被遮挡两种情况之间的任意一种状态的同时，使得通气孔开合单元的结构更加简单，便于设计和应用。

可选的，如图7所示，图7为本发明实施例提供的第一控制部与通气孔开合单元的连接结构示意图，上述通气孔控制单元可包括第一控制部201，第一控制部201与通气孔开合单元13对应设置，且与通气孔开合单元13连接，第一控制部201的旋转带动通气孔开合单元13中的旋转叶片绕固定轴转动。示例性的，第一控制部201可以为控制杆，该控制杆可与一旋转叶片连接。

可选的，其特征在于，通气孔控制单元还包括第二控制部；

第二控制部与至少一个第一控制部铰接；

第二控制部沿第一方向的移动，带动第二控制部转动。

示例性的，如图8所示，图8为本发明实施例提供的通气孔控制单元与通气孔开合单元的连接结构示意图，第二控制部202、第一控制部201与通气孔开合单元13位于同一平面，第一控制部201的一端与通气孔开合单元13的旋转叶片131固定连接，另一端直接与第二控制部202铰接。可选地，第一控制部201的一端与通气孔开合单元13的联动齿轮133固定连接，另一端与第二控制部202铰接。

示例性的，如图9所示，图9为本发明实施例提供的又一种通气孔控制单元与通气孔开合单元的连接结构示意图，第一控制部201与通气孔开合单元13位于同一平面，第二控制部202位于通气孔开合单元13远离待成膜基板的一侧，第二控制部202与第一控制部201通过连接部203连接，连接部203的一端固定在第二控制部202上，另一端与第一控制部201的一端铰接，第一控制部201的另一端与通气孔开合单元13的旋转叶片131固定连接。图9中示出了连接部203与第一控制部201之间的一种连接方式，连接部203与第一控制部201连接的一端具有一轴(如图中虚线所示)，第一控制部201的一端具有一孔，连接部203上的轴位于第一控制部201的孔中。可选的，第二控制部202可位于上部电极的气体扩散腔中，或者位于真空腔体外；当第二控制部202位于上部电极的气体扩散腔中时，为控制第二控制部202移动，且防止线路在真空腔室中被化学气体腐蚀，第二控制部202的至少一端穿过气体扩散腔与真空腔体的侧壁，暴露于真空腔体外部；当第二控制部202位于真空腔体外时，第二控制部202的移动会带动连接部203相应移动，为保证真空腔体的密封性，必须在真空腔体上设置密封机构，以配合连接部203的移动，始终保持真空腔体处于密封状态。

可选的，通气孔沿行方向和列方向均匀分布，第二控制部沿行方向或列方向延伸，同一行或同一列的通气孔对应的通气孔开合单元耦接同一个第二控制部；如图10和图11所示，图10为本发明实施例提供的又一种显示面板成膜设备的结构示意图，图11为本发明实施例提供的又一种显示面板成膜设备的俯视图，第二控制部202沿行方向延伸，同一行的通气孔142对应的通气孔开合单元13通过第一控制部201及连接部连接到同一个第二控制部202，第二控制部202横穿上部电极14的气体扩散腔。另外，为保证真空腔体10的密封性，第二控制部202的移动方向即第一方向，与行方向或列方向平行。图10及图11中，第一方向与行方向平行。可实现对通气孔开合单元13的统一控制，便于操作。可选地，位于同一行或同一列的通气孔对应的通气孔开合单元可分别耦接至两个第二控制部，如位于同一行中的通气孔按序排列，位于同一行中前半段的通气孔对应的通气孔开合单元与其中一个第二控制部耦接，位于同一行中后半段的通气孔对应的通气孔开合单元与另一个第二控制部耦接。可选地，位于同一行或同一列的通气孔对应的通气孔开合单元可分别耦接至多个第二控制部，以实现对不同通气孔的可通气区域的大小进行灵活控制。

考虑到耦接同一个第二控制部的多个通气孔开合单元对应的第一控制部，在第二控制部的带动下，偏转的角度均相同，若上述多个通气孔开合单元的初始开合程度都相同，则无法实现对多个对应上部电极不同位置的通气孔的气体流速的不同调节，进而无法实现整张待成膜基板成膜的一致性或一张显示面板成膜膜厚的均匀性。因此，本发明实施例中耦接同一个第二控制部的多个通气孔开合单元中，至少部分通气孔开合单元的初始开合程度不同。例如，在制备边缘膜厚与中部膜厚相同的显示面板时，若气体输送管道的输气口位于显示面板中部对应的区域，此时，气体扩散腔中的中部区域气压大于边缘区域气压，相应的，应设置边缘区域的通气孔开合单元的初始打开程度大于中部区域的通气孔开合单元的初始打开程度，即边缘区域的通气孔可通气区域大于中部区域的通气孔可通气区域，以使到达显示面板边缘与中部的气体流速相同，实现显示面板边缘膜厚与中部膜厚相同。

本发明实施例中，通气孔开合单元也可包括至少一个推拉门和与推拉门对应设置的至少两个推拉槽，推拉槽设置于通气孔的周边且位于通气孔的相对两侧，推拉门相对的两端设置于推拉槽中，且沿推拉槽的延伸方向滑动，用于调节通气孔的可通气区域的大小。示例性的，如图12所示，图12为本发明实施例提供的又一种通气孔开合单元的结构示意图，通气孔开合单元包括一个推拉门134和与推拉门对应设置的两个推拉槽135，推拉槽135设置于通气孔142的周边且位于通气孔142的相对两侧，推拉门134相对的两端设置于推拉槽135中，且沿推拉槽135的延伸方向滑动，用于调节通气孔142的可通气区域的大小。另外，如图13所示，图13为本发明实施例提供的又一种通气孔开合单元的结构示意图，通气孔开合单元包括两个推拉门134和与推拉门对应设置的两个推拉槽135。本实施例对推拉门的形状不作限制，只要可以遮挡通气孔142即可。

可选的，通气孔控制单元包括第一控制部，第一控制部与通气孔开合单元对应设置，且与通气孔开合单元连接，第一控制部的移动带动通气孔开合单元的推拉门作相同的移动。

可选的，通气孔控制单元还包括第二控制部；

第二控制部与至少一个第一控制部固定连接；

第二控制部沿第一方向的移动，带动第二控制部移动。

可选的，通气孔沿行方向和列方向均匀分布，第二控制部沿行方向或列方向延伸，同一行或同一列的通气孔对应的通气孔开合单元耦接同一个第二控制部；

第一方向与行方向或列方向平行。

可选的，耦接同一个第二控制部的多个通气孔开合单元中，至少部分通气孔开合单元的初始开合程度不同。

本实施例中第一控制部与第二控制部的结构、设置以及通气孔开合单元的初始开合程度设置与前述实施例类似，此处不再赘述。

基于上述各实施例，本发明实施例的第二控制部可由电动驱动装置或气动驱动装置驱动沿第一方向移动。其中，电动驱动装置可以为直线马达，气动驱动装置可以为气缸。可选的，如图14所示，图14为本发明实施例提供的气动驱动装置与第二控制部连接的结构示意图，气动驱动装置可以为气缸21，气缸21包括缸体211，位于缸体211内且可沿缸体211长度方向滑动的活塞212，以及设置在缸体211上与活塞相对的一侧的气管213，至少在活塞212与气管213之间的空间形成密封空间，第二控制部202固定于活塞212远离气管213的一侧。本实施例通过气管213进气与抽气实现活塞212滑动，进而带动第二控制部202移动。

另外，如图15和图16所示，图15为本发明实施例提供的筛网单元的结构示意图，图16为本发明实施例提供的又一种显示面板成膜设备的结构示意图，气体流速调控装置也可包括：

至少一个筛网单元23，设置于真空腔室101中，该筛网单元23类似于“卷帘门”结构，包括多层筛网231，筛网单元23用于控制每层筛网231在平行于待成膜基板12的平面上进行展开，通过控制每层筛网231的展开长度，以调控流经筛网231的气体的气体流速。可选的，筛网231展开后位于上部电极14靠近待成膜基板12的一侧，每层筛网231的展开与卷收均可单独电动控制。本实施例中，可通过设置不同位置的筛网层数不同来调节气体流速，例如，筛网层数越多，流经该多层筛网的气体的气体流速越慢。

可选的，每层筛网的网孔相同。

可选的，不同层筛网的网孔尺寸可以不相同。

可选的，继续参考图15和图16，筛网单元23包括固定于真空腔体10的内壁上的壳体232，壳体232内设置卷收轴(图中未示出)，用于将筛网卷收于壳体232内。

可选的，与壳体所在内壁相邻的两内壁上沿筛网展开方向设置有滑槽，在筛网展开时，筛网的边缘位于滑槽内，以避免筛网受重力发生弯折，保证筛网在平行于待成膜基板的平面上展开。

本发明还提供了一种显示面板成膜方法，采用上述任一实施例的显示面板成膜设备制备显示面板的膜层，该显示面板成膜方法包括：

将待成膜基板固定于真空腔体中；

将气体通过气体输送系统输送至真空腔室；

气体经气体流速调控装置后，在待成膜基板上成膜；

其中，气体流速调控装置用于调控流经气体流速调控装置的不同位置的气体的流速。

本实施例未详尽描述的内容请参考上述实施例，此处不再赘述。

本发明实施例提供的显示面板成膜方法，通过在显示面板成膜设备的真空腔室中设置气体流速调控装置，对输入真空腔室的流经气体流速调控装置不同位置的气体的流速进行调控，经调控后的气体在待成膜基板上成膜，由此，可预先根据每个真空腔体内各测试基板上不同位置的成膜膜厚，通过气体流速调控装置调控气体的流速，从而调节在基板上的成膜速率，使得测试基板不同位置和不同测试基板之间的成膜具有一致性，据此设定好每个真空腔体中的气体流速调控装置的调控状态，从而在对待成膜基板成膜时，可实现整张待成膜基板不同位置和不同待成膜基板之间成膜的一致性。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (18)

1.一种显示面板成膜设备，其特征在于，包括：

至少一个真空腔体，每个所述真空腔体形成有真空腔室；

气体输送系统，与所述真空腔体连接，用于将气体输送至所述真空腔室；

待成膜基板，设置于所述真空腔室中；

气体流速调控装置，设置于所述真空腔室中，位于所述待成膜基板成膜的一侧，且与所述待成膜基板具有一定间距，输入所述真空腔室的所述气体流经所述气体流速调控装置后，在所述待成膜基板上成膜；

所述气体流速调控装置用于调控流经所述气体流速调控装置的不同位置的气体的流速。

2.根据权利要求1所述的显示面板成膜设备，其特征在于，还包括上部电极，位于所述真空腔室中，其中，

所述上部电极包括气体扩散腔，所述气体输送系统与所述气体扩散腔相连；

所述气体扩散腔靠近所述待成膜基板的一侧形成有多个通气孔，通入所述气体扩散腔的气体经所述通气孔和所述气体流速调控装置输出到所述待成膜基板；

所述气体流速调控装置包括：

通气孔开合单元，与所述通气孔对应设置，用于调节所述通气孔的可通气区域的大小。

3.根据权利要求2所述的显示面板成膜设备，其特征在于，还包括：

通气孔控制单元，连接于所述通气孔开合单元，用于控制所述通气孔开合单元的开合程度和开合状态。

4.根据权利要求3所述的显示面板成膜设备，其特征在于，

所述通气孔开合单元和所述通气孔控制单元位于所述通气孔靠近所述气体扩散腔一侧或位于所述通气孔远离所述气体扩散腔一侧。

5.根据权利要求3所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述通气孔开合单元包括至少一个旋转叶片和至少一个固定轴，所述固定轴设置于所述通气孔的周边，所述旋转叶片套于所述固定轴上并可绕所述固定轴转动，用于调节所述通气孔的可通气区域的大小。

6.根据权利要求5所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述通气孔开合单元包括沿所述通气孔的一周依次排布的多个旋转叶片和多个固定轴，所述旋转叶片与所述固定轴一一对应设置，所述旋转叶片绕所述固定轴旋转，多个所述旋转叶片向所述通气孔开合单元的中心旋进或旋出，用于调节所述通气孔的可通气区域的大小。

7.根据权利要求6所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述通气孔控制单元，包括第一控制部，所述第一控制部与所述通气孔开合单元对应设置，且与所述通气孔开合单元连接，所述第一控制部的旋转带动所述通气孔开合单元中的旋转叶片绕所述固定轴转动。

8.根据权利要求3所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述通气孔开合单元包括至少一个推拉门和与所述推拉门对应设置的至少两个推拉槽，所述推拉槽设置于所述通气孔的周边且位于所述通气孔的相对两侧，所述推拉门相对的两端设置于所述推拉槽中，且沿所述推拉槽的延伸方向滑动，用于调节所述通气孔的可通气区域的大小。

9.根据权利要求8所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述通气孔控制单元包括第一控制部，所述第一控制部与所述通气孔开合单元对应设置，且与所述通气孔开合单元连接，所述第一控制部的移动带动所述通气孔开合单元的推拉门作相同的移动。

10.根据权利要求7或9所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述通气孔控制单元还包括第二控制部；

所述第二控制部与至少一个所述第一控制部铰接或固定连接；

所述第二控制部沿第一方向的移动，带动所述第二控制部转动或移动。

11.根据权利要求10所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述通气孔沿行方向和列方向均匀分布，所述第二控制部沿所述行方向或所述列方向延伸，同一行或同一列的所述通气孔对应的所述通气孔开合单元耦接同一个所述第二控制部；

所述第一方向与所述行方向或所述列方向平行。

12.根据权利要求11所述的显示面板成膜设备，其特征在于，耦接同一个所述第二控制部的多个所述通气孔开合单元中，至少部分所述通气孔开合单元的初始开合程度不同。

13.根据权利要求10所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述第二控制部由电动驱动装置或气动驱动装置驱动沿所述第一方向移动。

14.根据权利要求1所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述气体流速调控装置包括：

至少一个筛网单元，设置于所述真空腔室中，包括多层筛网，所述筛网单元用于控制每层所述筛网在平行于所述待成膜基板的平面上进行展开，通过控制每层所述筛网的展开长度，以调控流经所述筛网的所述气体的气体流速。

15.根据权利要求14所述的显示面板成膜设备，其特征在于，每层所述筛网的网孔相同。

16.根据权利要求14所述的显示面板成膜设备，其特征在于，所述筛网单元包括固定于所述真空腔体的内壁上的壳体，所述壳体内设置卷收轴，用于将所述筛网卷收于所述壳体内。

17.根据权利要求16所述的显示面板成膜设备，其特征在于，与所述壳体所在内壁相邻的两内壁上沿所述筛网展开方向设置有滑槽，在所述筛网展开时，所述筛网的边缘位于所述滑槽内。

18.一种显示面板成膜方法，其特征在于，采用如权利要求1-17任一项所述的显示面板成膜设备制备显示面板的膜层，包括：

将所述待成膜基板固定于所述真空腔体中；

将所述气体通过所述气体输送系统输送至所述真空腔室；

所述气体经所述气体流速调控装置后，在所述待成膜基板上成膜；

其中，所述气体流速调控装置用于调控流经所述气体流速调控装置的不同位置的气体的流速。