CN107300729A - 高洁净度光学薄膜保护方法 - Google Patents

Abstract

高洁净度光学薄膜保护方法，属于光学薄膜制作领域，本发明为解决卷材保护过程中因受力挤压造成光学薄膜表面微结构发生变形，不利于长时间保存的问题。本发明方法包括以下步骤：步骤一、在光学薄膜的光学结构侧覆盖保护膜；步骤二、在光学结构和保护膜之间的空隙内填充胶水；步骤三、将填充的胶水固化，使得光学薄膜平坦化；步骤四、将平坦化光学薄膜以卷材方式进行收卷；步骤五、使用光学薄膜时，首先裁切卷材，然后将裁切下来的光学薄膜进行脱模操作，所述脱模操作的过程包括：沿保护膜与胶水边缘撕起，将整面保护膜、连带固化后的胶水从光学结构上脱离。

Description

高洁净度光学薄膜保护方法

技术领域

本发明属于光学薄膜制作领域，涉及光学薄膜运输、存储期间的保护技术。

背景技术

高洁净度光学薄膜因其加工精细，表面洁净度达纳米级别，光学薄膜保护有其特殊的要求，要求保护其光学表面不被挤压变形、不被长时间保存发生形变等，因此高洁净度光学薄膜的保护是光学薄膜大批量生产、运输所需要的。

在现有的光学薄膜保护工艺中，较为常见的方式是将光学薄膜表面覆上一层不同粘度的保护膜(如图1所示)，然后进行收卷以卷材方式进行保护(如图2所示)。使用这种保护方式，在短时间保存条件下，光学薄膜的表面洁净度影响不大，但随时间增加，由于保护膜与光学薄膜之间接触不均，导致光学薄膜表面局部受力挤压，加上光学薄膜表面上存上一些成分扩散，则光学薄膜表面的微结构发生变形或者一些分子聚集，造成光学薄膜表面洁净度下降，大大影响了光学效果。

另一保护方式是采用平放式保存，通过表面放置无粘度的保护膜(纸)，将光学薄膜进行隔层放置，以平放方式进行保存，放置一定数量后再以隔板隔开，实现片材的保存，参见图3所示。这种方式批量保存成本高，体积大不易运输。

以上两种技术存在的问题主要如下：

1、受力挤压造成光学薄膜表面微结构发生变形，不利于长时间保存。

2、保护膜与光学薄膜表面有空隙的部分容易发生分子迁移，造成表面污染，影响光学薄膜光学效果。

3、单片保存的方式保存成本高，保寸装置大，成本高，不易运输。

发明内容

本发明目的是为了解决现有技术的不足，提供了一种高洁净度光学薄膜保护方法。

本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法，该方法包括以下步骤：

步骤一、在光学薄膜的光学结构侧覆盖保护膜；

步骤二、在光学结构和保护膜之间的空隙内填充胶水；

步骤三、将填充的胶水固化，使得光学薄膜平坦化；

步骤四、将平坦化光学薄膜以卷材方式进行收卷；

步骤五、使用光学薄膜时，首先裁切卷材，然后将裁切下来的光学薄膜进行脱模操作，所述脱模操作的过程包括：沿保护膜与胶水边缘撕起，将整面保护膜、连带固化后的胶水从光学结构上脱离。

优选地，光学薄膜的制作方式为：通过模具转印方式在PET基材上面成型光学结构来制作光学薄膜。

优选地，步骤二填充的胶水为氟改性胶水或含有机硅胶水。

优选地，步骤三中的胶水固化后与保护膜具有附着性，与光学薄膜的光学结构具有互可脱模特性。

优选地，步骤三中胶水固化采用UV光照射固化方式。

本发明的有益效果：

1、对精细光学薄膜结构进行有效保护，防止压伤等不良影响；

2、通过无间隙保护，使光学薄膜表面不被污染，保持原有特性；

3、可大批量被存储与运输。

附图说明

图1是背景技术中提及的第一种光学薄膜保护方式的原理图；

图2是背景技术中提及的第一种光学薄膜保护方式的卷材过程原理图；

图3是背景技术中提及的第二种光学薄膜保护方式的原理图；

图4是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的流程图；

图5是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的原理图；

图6是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的卷材过程原理图；

图7是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的撕除保护膜原理图。

具体实施方式

以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本发明中的实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。

实施例：

通过模具转印方式在PET基材上面成型光学结构的光学薄膜。

在光学结构上覆上保护膜，则保护膜与光学结构之间形成空隙，在二者之间的空隙处填充胶水，利用UV灯照射将胶水固化。所述胶水为氟改性胶水或含有机硅胶水，它具有特性为：胶水固化后与保护膜具有很好的附着性，与光学薄膜的光学结构具有互可脱模特性，其与光学薄膜表面光学结构较容易分离。通过UV光照射将填充胶水固化并填平整个结构，如图5所示，使光学薄膜平坦化后进行卷材保存，如图6所示，收卷后便于运输和保存。上述方式保存的光学薄膜，在无人为撕离的时候保持着基材、光学结构、填充胶水、保护膜为复合膜结构，待光学薄膜进行应用时将其裁切、裁切使用时只需将保护膜与填充胶水边缘撕起，并将整面保护膜从光学微结构上脱离，保持光学表面洁净、不变形，如图7所示，撕离时，固化后的胶水因与保护膜之间有很好的附着性，因此，二者连带在一起动作，同时由于固化后的胶水与光学结构均为胶水，二者之间有互可脱模特性，因此，固化后的胶水与光学结构能快速脱模，最终得到需要使用的光学薄膜，并能保证光学结构表面原有形状及高洁净度。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容只是为了便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属技术领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (5)

1.高洁净度光学薄膜保护方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、在光学薄膜的光学结构侧覆盖保护膜；

步骤二、在光学结构和保护膜之间的空隙内填充胶水；

步骤三、将填充的胶水固化，使得光学薄膜平坦化；

步骤四、将平坦化光学薄膜以卷材方式进行收卷；

步骤五、使用光学薄膜时，首先裁切卷材，然后将裁切下来的光学薄膜进行脱模操作，所述脱模操作的过程包括：沿保护膜与胶水边缘撕起，将整面保护膜、连带固化后的胶水从光学结构上脱离。

2.根据权利要求1所述高洁净度光学薄膜保护方法，其特征在于，光学薄膜的制作方式为：通过模具转印方式在PET基材上面成型光学结构来制作光学薄膜。

3.根据权利要求1所述高洁净度光学薄膜保护方法，其特征在于，步骤二填充的胶水为氟改性胶水或含有机硅胶水。

4.根据权利要求1或3所述高洁净度光学薄膜保护方法，其特征在于，步骤三中的胶水固化后与保护膜具有附着性，与光学薄膜的光学结构具有互可脱模特性。

5.根据权利要求1所述高洁净度光学薄膜保护方法，其特征在于，步骤三中胶水固化采用UV光照射固化方式。