CN107287561A - 防止堵塞的坩埚 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体，其特征在于，还包括设在所述坩埚本体上的阻隔部件，所述阻隔部件上设有贯穿上下表面的开口，所述开口的尺寸小于在坩埚本体中的材料的尺寸，所述阻隔部件将在坩埚本体中的材料与外界隔开。实施本发明的技术方案，阻隔部件可以确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体结构，结构简单，容易加工，坩埚本体外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。

Description

防止堵塞的坩埚

技术领域

本发明涉及实验器具领域，尤其是涉及一种防止堵塞的坩埚，该坩埚主要用于OLED有机镀膜工艺中蒸发金属电极材料镁。

背景技术

在OLED有机发光器件中，为了将电子有效地注入有机材料，阴极必须是低功函数的金属，具有较低功函数的金属镁是OLED器件中常用的阴极材料。通过真空蒸镀工艺，镁料从坩埚中受热蒸发，在衬底上制备得到镁薄膜(阴极)，但在镁蒸发过程中，如图1所示，会出现镁颗粒局部受热不均弹出坩埚(即“跳舟”)并在坩埚口持续聚集现象，坩埚口口径变化甚至堵死，影响镀膜速率的控制，导致膜厚偏差，最终引起器件色坐标和亮度发生偏移。堵塞发生后，还需要开腔室处理，严重影响设备的产能。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术中的上述缺陷，提供一种新的坩埚结构，可有效地解决蒸镀工艺过程中堵塞的问题，提高工艺稳定性和设备产能。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体，还包括设在坩埚本体上的阻隔部件，阻隔部件上设有贯穿上下表面的开口，开口的尺寸小于在坩埚本体中的材料的尺寸，阻隔部件将在坩埚本体中的材料与外界隔开。

优选地，阻隔部件设在坩埚本体内侧并与坩埚本体内表面配合。

优选地，阻隔部件设在坩埚本体3/4高度的位置。

优选地，坩埚本体内侧壁设有凸出的用于支承阻隔部件的支承部。

优选地，支承部为环形台阶。

优选地，阻隔部件呈片状。

优选地，开口包括阵列分布在阻隔部件上的若干开口。

优选地，开口为小孔。

优选地，阻隔部件的材料与坩埚本体材料相同。

实施本发明的技术方案，至少具有以下的有益效果：阻隔部件可以确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体结构，结构简单，容易加工，坩埚本体外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：

图1是现有的坩埚的结构示意图(镁颗粒局部受热不均弹出坩埚)。

图2是本技术方案的一优选实施例中的防止堵塞的坩埚的剖视示意图。

图3是图2中的防止堵塞的坩埚的阻隔部件的俯视图。

其中，1.坩埚本体，1a.坩埚出口，2.阻隔部件，3.支承部，4.弹起的镁颗粒，5.镁料颗粒，6.开口。

具体实施方式

为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本发明的具体实施方式。在本发明的防止堵塞的坩埚的描述中，需要理解的是，“前”、“后”、“上”、“下”、“正面”、“背面”等术语仅是为了便于描述本发明的技术方案，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位，因此不能理解为对本发明的限制。

如图2-3所示，本发明一个优选实施方式中的防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体1，还包括设在坩埚本体1上的阻隔部件2，阻隔部件2上设有贯穿上下表面的开口6，开口6的尺寸小于在坩埚本体1中的材料的尺寸，阻隔部件2将在坩埚本体1中的材料与外界隔开，以确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体1结构，结构简单，容易加工，坩埚本体1外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。图2示出了弹起的镁颗粒4。

优选地，阻隔部件2设在坩埚本体1内侧并与坩埚本体1内表面配合，换言之，对于圆形的坩埚，阻隔部件2也呈圆形。该遮挡帘能够阻挡蒸镀工艺过程中弹起的镁颗粒44，而镁蒸气流则可以顺利地通过小孔6，然后从坩埚出口1a处蒸发出来；该坩埚使用时，先用镊子取出阻隔部件2，往坩埚本体1内加入实验材料后，将阻隔部件2放回坩埚本体1中，即可像原有坩埚一样，放入加热源中使用。阻隔部件2的设置方式除此之外，也可以设在坩埚出口1a中或覆盖在坩埚出口1a上。

阻隔部件2设在坩埚本体1的3/4高度的位置，以留有足够的空间给实验材料。

坩埚本体1内侧壁设有凸出的用于支承阻隔部件2的支承部3。优选地，支承部3为环形台阶，台阶位于坩埚本体1的3/4高度的位置。该坩埚使用时，先用镊子取出阻隔部件2，往坩埚本体1内加入实验材料后，将阻隔部件2放置到凸起的环形台阶上，然后盖上盖子，即可像原有坩埚一样，放入加热源中使用。

阻隔部件2呈片状。开口6包括阵列分布在阻隔部件2上的若干开口6。开口6为小孔。例如，阻隔部件2可以是分布有一定数量小孔的遮挡帘。

阻隔部件2的材料与坩埚本体1材料相同，以便创造符合条件的实验条件。

综上所述，本技术方案中的防止堵塞的坩埚，能够确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体1结构，结构简单，容易加工，坩埚本体1外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改、组合和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的权利要求范围之内。

Claims (9)

1.一种防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体(1)，其特征在于，还包括设在所述坩埚本体(1)上的阻隔部件(2)，所述阻隔部件(2)上设有贯穿上下表面的开口(6)，所述开口(6)的尺寸小于在坩埚本体(1)中的材料的尺寸，所述阻隔部件(2)将在坩埚本体(1)中的材料与外界隔开。

2.如权利要求1所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述阻隔部件(2)设在所述坩埚本体(1)内侧并与所述坩埚本体(1)内表面配合。

3.如权利要求2所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述阻隔部件(2)设在所述坩埚本体(1)的3/4高度的位置。

4.如权利要求2所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述坩埚本体(1)内侧壁设有凸出的用于支承所述阻隔部件(2)的支承部(3)。

5.如权利要求3所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述支承部(3)为环形台阶。

6.如权利要求2-5任一项所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述阻隔部件(2)呈片状。

7.如权利要求2-5任一项所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述开口(6)包括阵列分布在所述阻隔部件(2)上的若干开口(6)。

8.如权利要求7所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述开口(6)为小孔。

9.如权利要求2-5任一项所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述阻隔部件(2)的材料与所述坩埚本体(1)材料相同。