CN206033867U - 蒸镀坩埚及蒸镀设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀设备,其中所述蒸镀坩埚包括:坩埚本体,所述坩埚本体具有一用于容置有机材料的容置腔;设置在所述坩埚本体的容置腔内的防爆沸板;及设置在所述坩埚本体的容置腔的开口处的盖体,所述盖体上设有喷嘴;所述防爆沸板上分布有多个通孔,所述通孔的内径小于预设值。本实用新型所提供的蒸镀坩埚,通过对蒸镀坩埚内的防爆沸板进行改进,将防爆粉板设计为内孔式结构,在其上分布多个通孔,可以解决现有技术中由于防爆沸板的开孔面积较大而易导致材料飞溅或者材料灰化产生的杂质直接蒸镀到器件表面上或者蒸镀到传感器上导致器件产生不良或蒸镀速率波动等问题,提高器件整体良率,确保器件性能。

Description

蒸镀坩埚及蒸镀设备
技术领域
本实用新型涉及OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)制备技术领域,特别涉及一种蒸镀坩埚及蒸镀设备。
背景技术
有机电致(Organic Light-Emitting Diode,OLED)由于同时具备自发光、不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制作过程较简单等优异之特性,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。OLED分为PMOLED和AMOLED,即被动式和主动式,其中,AMOLED是目前主流产品,AMOLED显示的实现方式有背板+金属掩膜板方式,此方式多用于中小尺寸的显示面板,应用与手机和移动产品。目前,此方法已经初步成熟,步入了量产阶段。
目前,有机OLED线性蒸发源包括蒸镀坩埚,如图1所示,蒸镀坩埚主要包括坩埚本体10、设置在坩埚本体10内的防爆沸板(Inner plate)20以及设置在坩埚本体10上的喷嘴(Nozzle)30。在蒸镀时,坩埚本体10加热,盛放在坩埚本体10内的有机材料在高温下蒸发或升华为气体,气体上升通过防爆沸板(Inner plate)20均一化后,经过喷嘴30,并遇到位于喷嘴30上方的LTPS基板,在LTPS基板上发生凝华,从而将有机材料蒸镀到LTPS基板上。
如图2所示,现有技术中蒸镀坩埚中所使用的防爆沸板20采用的是线性矩形块排布的方式,包括间隔设置的宽矩形块21和窄矩形块22,其中窄矩形块22与坩埚本体10内壁之间形成用于使得气体通过的开孔空间。目前采用这种防爆沸板存在以下问题:
由于窄矩形块与坩埚本体的内壁之间形成的开孔空间面积较大,容易引起材料飞溅,材料灰化产生的异物(Particle)直接蒸镀到器件表面上或者蒸镀到传感器(RateSensor)上导致器件产生不良或者导致蒸镀速率发生波动等问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种蒸镀坩埚及蒸镀设备,通过对防爆沸板进行改进,可以有效的降低材料飞溅或者因材料灰化产生异物影响器件良率,提高器件整体良率,确保器件性能。
本实用新型所提供的技术方案如下:
一种蒸镀坩埚,包括:
坩埚本体,所述坩埚本体具有一用于容置有机材料的容置腔;
设置在所述坩埚本体的容置腔内的防爆沸板;
以及,设置在所述坩埚本体的容置腔的开口处的盖体,所述盖体上设有喷嘴;
所述防爆沸板上分布有多个通孔,所述通孔的内径小于预设值。
进一步的,所述防爆沸板包括四周边缘区域和中间区域,所述多个通孔均匀分布于整个所述中间区域。
进一步的,所述防爆沸板包括四周边缘区域和中间区域,其中,所述中间区域包括与所述喷嘴正对的第一区域,其中所述多个通孔设置在所述中间区域,并位于所述第一区域之外的区域。
进一步的,所述盖体上设有多个喷嘴,且多个喷嘴在第一方向上呈线性依次排列;
所述防爆沸板为沿第一方向延伸的长条形板结构,在所述防爆沸板上间隔设置有与多个喷嘴一一对应的多个所述第一区域。
进一步的,所述第一区域在所述第一方向上的宽度大于所述喷嘴在所述第一方向上的宽度。
进一步的,在所述坩埚本体内分层设置有至少两层所述防爆沸板。
进一步的,至少两层所述防爆沸板中,相邻的两层所述防爆沸上的通孔不重合。
进一步的,在所述坩埚本体内设置有三层所述防爆沸板。
一种蒸镀设备,包括如上所述的蒸镀坩埚。
本实用新型的有益效果如下:
本实用新型所提供的蒸镀坩埚及蒸镀设备,通过对蒸镀坩埚内的防爆沸板进行改进,将防爆粉板设计为内孔式结构,在其上分布多个通孔,可以解决现有技术中由于防爆沸板的开孔面积较大而易导致材料飞溅或者材料灰化产生的杂质直接蒸镀到器件表面上或者蒸镀到传感器上导致器件产生不良或蒸镀速率波动等问题,提高器件整体良率,确保器件性能。
附图说明
图1表示现有技术中蒸镀坩埚的结构示意图;
图2表示现有技术中蒸镀坩埚的防爆沸板的结构示意图;
图3表示本实用新型所提供的蒸镀坩埚的结构示意图;
图4表示本实用新型第一种实施例所提供的蒸镀坩埚中防爆沸板的结构示意图;
图5表示本实用新型第二种实施例所提供的蒸镀坩埚中防爆沸板的结构示意图;
图6表示本实用新型第三种实施例所提供的蒸镀坩埚的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例的附图,对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
针对现有技术中蒸镀坩埚中所使用的防爆沸板采用线性矩形块排布的结构,易导致材料飞溅或材料灰化产生的异物(Particle)直接蒸镀到器件表面上或者蒸镀到传感器(Rate Sensor)上导致器件产生不良或者导致蒸镀速率发生波动等问题,本实用新型提供了一种蒸镀坩埚,其通过对防爆沸板的结构进行改进,可以有效的降低材料飞溅或者因材料灰化产生异物影响器件良率,提高器件整体良率,确保器件性能。
如图3所示,本实用新型所提供的蒸镀坩埚包括:
坩埚本体100,所述坩埚本体100具有一用于容置有机材料的容置腔;
设置在所述坩埚本体100的容置腔内的防爆沸板200;
以及,设置在所述坩埚本体100的容置腔的开口处的盖体300,所述盖体300上设有喷嘴301;
其中所述防爆沸板200上分布有多个通孔201,所述通孔201的内径小于预设值。
上述方案中,蒸镀坩埚中坩埚本体100内的有机材料在高温下蒸发或升华为气体,防爆沸板200起到将气体进行均一化的作用,气体经防爆沸板200均一化之后再经过喷嘴301而蒸镀到基板上。在本实用新型所提供的蒸镀坩埚中,对防爆沸板200进行了结构改进,具体地,将现有技术中防爆沸板200的线性矩形块排布的结构改进为在防爆沸板200上分布多个通孔201的结构,且通孔201的内径小于预设值,也就是说,通孔201的开孔面积较小,能够有效的阻止有机材料飞溅或灰化产生的异物,不易产生蒸镀速率波动等问题,进而有效的减少现有技术中器件由于防爆沸板200上开孔面积大而产生的器件不良现象发生,提高器件整体良率,确保器件性能。
以下说明本实用新型所提供的蒸镀坩埚的几种优选实施例。
实施例1
如图4所示为本实用新型所提供的蒸镀坩埚的第一种实施例中所采用的防爆沸板的结构示意图。
如图4所示,在本实施例中,所述防爆沸板200包括四周边缘区域和中间区域,所述多个通孔201均匀分布于整个所述中间区域。
采用上述方案,在所述防爆沸板200的中间区域均匀分布有多个通孔201,该多个通孔201优选为采用矩阵方式排列,如此设计,可以进一步的使得有机材料在蒸发或升华后的气体能够经过该防爆沸板200之后提高均一化程度。
实施例2
如图5所示为本实用新型所提供的蒸镀坩埚的第一种实施例中所采用的防爆沸板的结构示意图。
如图5所示,在本实施例中,所述防爆沸板200包括四周边缘区域和中间区域,其中,所述中间区域包括与所述喷嘴301正对的第一区域202,其中所述多个通孔201设置在所述中间区域,并位于所述第一区域202之外的区域。
采用上述方案,在所述防爆沸板200上对应于蒸镀坩埚上的多个喷嘴301的位置,则不设置通孔201,可以使得坩埚本体100内有机材料蒸发或升华后的气体在经过第一区域202之外的区域所对应的通孔201之后再进入喷嘴301,而不可以直接进入喷嘴301,一方面避免了有机材料飞溅或者材料灰化产生的杂质直接进入喷嘴301而导致器件产生不良,另一方面由于气体经过第一区域202之外的区域所设置的通孔201后再进入喷嘴301,更有利于气压均一化。
此外,在本实施例中,优选的,如图3所示,所述盖体300上设有多个喷嘴301,且多个喷嘴301在第一方向上呈线性依次排列;如图5所示,所述防爆沸板200为沿第一方向延伸的长条形板结构,在所述防爆沸板200上间隔设置有与多个喷嘴301一一对应的多个所述第一区域202,且所述第一区域202在所述第一方向上的宽度大于所述喷嘴301在所述第一方向上的宽度。
在上述方案中,所述蒸镀坩埚为线性蒸镀坩埚,多个喷嘴301呈线性排列,所述防爆沸板200上的第一区域202相应的排列有多个,并且,所述第一区域202在所述第一方向上的宽度大于所述喷嘴301在所述第一方向上的宽度,以进一步的保证材料飞溅或灰化产生的杂质不易进入到喷嘴301内。
实施例3
如图6所示为本实用新型所提供的蒸镀坩埚的第三种实施例的结构示意图。如图6所示,在本实施例中,在所述坩埚本体100内分层设置有至少两层所述防爆沸板200。
采用上述方案,将所述坩埚本体100内设置有至少两层所述防爆沸板200,可以进一步的保证材料飞溅或者材料灰化产生的杂质不会直接进入到喷嘴301,而蒸镀到器件表面上或者传感器上,以及,进一步避免了蒸镀速率波动等问题,提高器件整体良率,确保器件性能。
在本实施例中,优选的,至少两层所述防爆沸板200中,相邻的两层所述防爆沸上的通孔201不重合。优选的,在所述坩埚本体100内设置有三层所述防爆沸板200。
采用上述方案,将两层或三层防爆沸板200组合在一起,优点在于,两层或者三层防爆沸板200上的通孔201都不是重合的,是相互独立的,蒸镀出的材料经过两层或三层防爆沸板200的通孔201后,可以均匀的蒸镀出去,进而可以有效的防止材料飞溅或者因材料灰化产生杂质,有效的减小器件因该部分杂质引起的器件不良;并且,也进一步的保证了气体的气压均一性,蒸镀速率更为均匀。
在本实用新型的实施例中还提供了一种蒸镀设备,其包括如上所述的蒸镀坩埚。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和替换,这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种蒸镀坩埚,包括:
坩埚本体,所述坩埚本体具有一用于容置有机材料的容置腔;
设置在所述坩埚本体的容置腔内的防爆沸板;
以及,设置在所述坩埚本体的容置腔的开口处的盖体,所述盖体上设有喷嘴;
其特征在于,所述防爆沸板上分布有多个通孔,所述通孔的内径小于预设值。
2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,
所述防爆沸板包括四周边缘区域和中间区域,所述多个通孔均匀分布于整个所述中间区域。
3.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,
所述防爆沸板包括四周边缘区域和中间区域,其中,所述中间区域包括与所述喷嘴正对的第一区域,其中所述多个通孔设置在所述中间区域,并位于所述第一区域之外的区域。
4.根据权利要求3所述的蒸镀坩埚,其特征在于,
所述盖体上设有多个喷嘴,且多个喷嘴在第一方向上呈线性依次排列;
所述防爆沸板为沿第一方向延伸的长条形板结构,在所述防爆沸板上间隔设置有与多个喷嘴一一对应的多个所述第一区域。
5.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚,其特征在于,
所述第一区域在所述第一方向上的宽度大于所述喷嘴在所述第一方向上的宽度。
6.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,
在所述坩埚本体内分层设置有至少两层所述防爆沸板。
7.根据权利要求6所述的蒸镀坩埚,其特征在于,
至少两层所述防爆沸板中,相邻的两层所述防爆沸上的通孔不重合。
8.根据权利要求7所述的蒸镀坩埚,其特征在于,
在所述坩埚本体内设置有三层所述防爆沸板。
9.一种蒸镀设备,其特征在于,包括如权利要求1至8任一项所述的蒸镀坩埚。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107287561A (zh) * 2017-05-22 2017-10-24 茆胜 防止堵塞的坩埚
CN107686968A (zh) * 2017-08-14 2018-02-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀系统
CN109468596A (zh) * 2019-01-07 2019-03-15 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀坩埚及蒸镀装置
WO2019056626A1 (zh) * 2017-09-21 2019-03-28 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置
CN113388814A (zh) * 2021-06-24 2021-09-14 上海天马有机发光显示技术有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107287561A (zh) * 2017-05-22 2017-10-24 茆胜 防止堵塞的坩埚
CN107686968A (zh) * 2017-08-14 2018-02-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀系统
WO2019056626A1 (zh) * 2017-09-21 2019-03-28 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置
CN109468596A (zh) * 2019-01-07 2019-03-15 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀坩埚及蒸镀装置
CN113388814A (zh) * 2021-06-24 2021-09-14 上海天马有机发光显示技术有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀装置
CN113388814B (zh) * 2021-06-24 2023-09-12 武汉天马微电子有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀装置

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