CN106025102A - 一种蒸镀坩埚 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种蒸镀坩埚，以解决现有的真空热蒸镀技术中，以解决熔融型金属材料进行蒸镀时出现的升华速率不稳定所导致的蒸镀效率低和烧坏蒸镀坩埚的问题。所述蒸镀坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体的底部的内表面形成有网格状的凸起结构。

Description

一种蒸镀坩埚

技术领域

本发明涉及有机电致发光显示技术制程领域，尤其涉及一种蒸镀坩埚。

背景技术

平板显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平板显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crysta1Disp1ay，LCD)及有机电致发光显示器件(Organic Light Emitting Disp1ay，OLED)。其中，OLED显示器件相较于LCD，不仅具有十分优异的显示性能，还具有全固态、白发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、室温工作、低功耗及易于实现柔性显示和3D显示等优点，得到了各大显示器厂家的青睐。

OLED显示器件通常由阳极、阴极、以及夹在阳极和阴极之间的有机电致发光材料层构成，有机电致发光材料层又包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、及电子注入层。OLED显示器件的发光机理是从阴、阳两级分别注入电子和空穴，被注入的电子和空穴经传输在发光层内复合，从而激发发光层分子产生单态激子，单态激子辐射衰减而发光。

目前，制备OLED显示器件主流的主要方式是真空热蒸镀技术，即在真空腔体内使用蒸镀坩埚加热OLED材料，使其在一定温度下升华或者熔融汽化成蒸汽，透过金属掩膜板上的开孔沉积在基板上。真空热蒸镀技术是在低于5x10-5Pa的真空环境下，通过加热的方式将材料由固态变为蒸汽状态，高速运动的气态分子到达基板并在基板上沉积固化，再变回为OLED材料的固体薄膜。对于熔融型金属材料，其受热后会由固态变为液态最后变为气态分子，但是由于液体金属表面张力的作用，液滴呈球状与蒸镀坩埚内壁的接触面积较小，导致升华的速率不稳，降低蒸镀效率；如果设备运行在速率固定模式下，为保持升华速率，设备会不断加热以提高温度，这样极有可能出现蒸镀坩埚烧坏的现象。

发明内容

本发明的目的是提供一种蒸镀坩埚，以解决现有的真空热蒸镀技术中，以解决熔融型金属材料进行蒸镀时出现的升华速率不稳定所导致的蒸镀效率低和烧坏蒸镀坩埚的问题。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

本发明实施例提供一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体的底部的内表面形成有网格状的凸起结构。

本实施例中，在所述坩埚本体的底部的内表面设置网格状的所述凸起结构，即便液体金属由于表面张力的作用而成球状，但是网格状的所述凸起结构能够的边沿仍然能够接触球状的液体金属，而且网格状的所述凸起结构还能够部分的减小液体金属由于表面张力的影响，因此可以较大程度的增大所述坩埚本体的接触面积，从而使升华的速率稳定，提高蒸镀效率并避免蒸镀坩埚烧坏的现象。

优选的，所述凸起结构之上形成有导热膜层。本实施例中，所述导热膜层能够使加热均匀。

优选的，所述凸起结构的每一条凸起线段的横截面的宽度为0.5～1毫米。本实施例中，凸起线段的横截面的宽度为0.5～1毫米，能够有效分散液滴体积，且使液体金属的整体不会被完全被分隔开几部分。

优选的，所述凸起结构的高度为1～2毫米。本实施例中，高度为1～2毫米的所述凸起结构接近液体金属所形成液滴的直径，能有效分散液滴体积。

优选的，所述凸起结构围设的多个凹陷图形为规则的几何图形。

优选的，所述凹陷图形包括矩形、菱形、圆形、三角形、扇形、正五边形和正六边形中的至少一种。

优选的，所述导热膜层的厚度为0.5～3微米。

优选的，所述导热膜层为氧化铝膜层。

优选的，所述凸起结构与所述坩埚本体为一体结构。

优选的，所述凸起结构的材料为钛合金、钼或钨。

本发明实施例有益效果如下：在所述坩埚本体的底部的内表面设置网格状的所述凸起结构，即便液体金属由于表面张力的作用而成球状，但是网格状的所述凸起结构能够的边沿仍然能够接触球状的液体金属，而且网格状的所述凸起结构还能够部分的减小液体金属由于表面张力的影响，因此可以较大程度的增大所述坩埚本体的接触面积，从而使升华的速率稳定，提高蒸镀效率并避免蒸镀坩埚烧坏的现象。

附图说明

图1为本发明实施例提供的蒸镀坩埚的结构示意图；

图2为图1所示的蒸镀坩埚在AB处的剖面示意图；

图3为图1所示的蒸镀坩埚在CD处的剖面示意图；

图4为图1所示的网格状的凸起结构上形成有导热膜层的剖面示意图；

图5为本发明实施例中凸起结构的凸起线段的宽度和高度的示意图；

图6为本发明实施例中凸起结构围设的凹陷图形为矩形的示意图。

具体实施方式

下面结合说明书附图对本发明实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

参见图1至图3，本发明实施例提供一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体1，坩埚本体1的底部的内表面形成有网格状的凸起结构2。

图2为图1所示蒸镀坩埚在AB处的剖面示意图，图3为图1所示蒸镀坩埚在CD处的剖面示意图，显然该凸起结构2形成于坩埚本体1的底部的内表面，即便液体金属由于表面张力的作用而成球状，但是网格状的凸起结构2能够的边沿仍然能够接触球状的液体金属，而且网格状的凸起结构2还能够部分的减小液体金属由于表面张力的影响，因此可以较大程度的增大坩埚本体1的接触面积，从而使升华的速率稳定，提高蒸镀效率并避免蒸镀坩埚烧坏的现象。

为了蒸镀坩埚加热更均匀，如图4所示，在凸起结构2之上形成有导热膜层3，该导热膜层3能够有效的传导热能，使蒸镀坩埚对液体金属的加热更均匀，有利于升华的速率稳定，从而提高蒸镀效率。该导热膜层3可以选择多种利于导热且具有较高熔点的材料制备，例如以氧化铝形成的氧化铝膜层作为导热膜层3。优选的，导热膜层3的厚度为0.5～3微米。

基于有效分散液滴体积，且使液体金属的整体不会被完全被分隔开几部分的考虑，优选的，凸起结构2的每一条凸起线段的横截面的宽度为0.5～1毫米，凸起结构2的高度为1～2毫米。如图5所示，凸起线段的横截面的宽度W为0.5～1毫米，凸起结构2的高度H为1～2毫米，实际上凸起结构2的高度H也即凸起线段的高度。需要说明的是，本实施例中凸起线段的横截面的宽度W和高度H只是为了对本发明进行说明，本发明并不以此为限，在实际应用中，该凸起线段的横截面的宽度W和高度H可以考虑接近液体金属所形成液滴的直径，这样有利于有效分散液滴体积。

凸起结构2围设的多个凹陷图形可以为各种几何图形。以规则的几何图形较佳，便于设计和实现，其中规定的几何图形可以为矩形、菱形、圆形、三角形、扇形、正五边形和正六边形中的至少一种或者组合，在此不再赘述。优选的，如图6所示，坩埚本体1的底部的内壁形成有凸起结构2，凸起结构2围设的凹陷图形4为矩形，矩形的宽度为2～3毫米，矩形的长度为3～4毫米。

需要说明的是，凸起结构2与坩埚本体1可以为一体结构，也可以是凸起结构2在坩埚本体1的底部单独形成或者连接于坩埚本体1的底部，这并不影响本发明的实施。优选的，凸起结构2的材料为钛合金、钼或钨。

本发明实施例有益效果如下：在坩埚本体的底部的内表面设置网格状的凸起结构，即便液体金属由于表面张力的作用而成球状，但是网格状的凸起结构能够的边沿仍然能够接触球状的液体金属，而且网格状的凸起结构还能够部分的减小液体金属由于表面张力的影响，因此可以较大程度的增大坩埚本体的接触面积，从而使升华的速率稳定，提高蒸镀效率并避免蒸镀坩埚烧坏的现象。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体，其特征在于，所述坩埚本体的底部的内表面形成有网格状的凸起结构。

2.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凸起结构之上形成有导热膜层。

3.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凸起结构的每一条凸起线段的横截面的宽度为0.5～1毫米。

4.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凸起结构的高度为1～2毫米。

5.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凸起结构围设的多个凹陷图形为规则的几何图形。

6.如权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凹陷图形包括矩形、菱形、圆形、三角形、扇形、正五边形和正六边形中的至少一种。

7.如权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述导热膜层的厚度为0.5～3微米。

8.如权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述导热膜层为氧化铝膜层。

9.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凸起结构与所述坩埚本体为一体结构。

10.如权利要求1至9任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凸起结构的材料为钛合金、钼或钨。