CN107250081B - 低k值和中k值ltcc介电组合物及装置 - Google Patents

低k值和中k值ltcc介电组合物及装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107250081B
CN107250081B CN201680009889.7A CN201680009889A CN107250081B CN 107250081 B CN107250081 B CN 107250081B CN 201680009889 A CN201680009889 A CN 201680009889A CN 107250081 B CN107250081 B CN 107250081B
Authority
CN
China
Prior art keywords
weight
free
dielectric
composition
firing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201680009889.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107250081A (zh
Inventor
小沃尔特·J·赛姆斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of CN107250081A publication Critical patent/CN107250081A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107250081B publication Critical patent/CN107250081B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/495Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on vanadium, niobium, tantalum, molybdenum or tungsten oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. vanadates, niobates, tantalates, molybdates or tungstates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/6261Milling
    • C04B35/6262Milling of calcined, sintered clinker or ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62685Treating the starting powders individually or as mixtures characterised by the order of addition of constituents or additives
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics
    • H01G4/1209Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
    • H01G4/1254Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on niobium or tungsteen, tantalum oxides or niobates, tantalates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3201Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3203Lithium oxide or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3208Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3213Strontium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3215Barium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3232Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3232Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
    • C04B2235/3234Titanates, not containing zirconia
    • C04B2235/3236Alkaline earth titanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3258Tungsten oxides, tungstates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3281Copper oxides, cuprates or oxide-forming salts thereof, e.g. CuO or Cu2O
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3284Zinc oxides, zincates, cadmium oxides, cadmiates, mercury oxides, mercurates or oxide forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3409Boron oxide, borates, boric acids, or oxide forming salts thereof, e.g. borax
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3418Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3427Silicates other than clay, e.g. water glass
    • C04B2235/3436Alkaline earth metal silicates, e.g. barium silicate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/44Metal salt constituents or additives chosen for the nature of the anions, e.g. hydrides or acetylacetonate
    • C04B2235/442Carbonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/44Metal salt constituents or additives chosen for the nature of the anions, e.g. hydrides or acetylacetonate
    • C04B2235/444Halide containing anions, e.g. bromide, iodate, chlorite
    • C04B2235/445Fluoride containing anions, e.g. fluosilicate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54Particle size related information
    • C04B2235/5418Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5445Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/72Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74Physical characteristics
    • C04B2235/77Density

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

由包含前体材料混合物的介电组合物制备的LTCC装置,所述组合物经烧制形成包含钡‑钨‑硅基体的介电材料。

Description

低K值和中K值LTCC介电组合物及装置
技术领域
本发明涉及介电组合物,且更特别地涉及介电常数K=6-12或者高达约50同时具有非常高Q因子的钡-硅-钨酸盐基介电组合物,其可用于具有贵金属金属化的低温共烧陶瓷(LTCC)应用。
背景技术
现有技术中用于无线应用的LTCC系统的材料使用介电常数K=4-8并且在1MHz的测量频率下的Q因子为约500-1,000的电介质。这通常通过使用混合有高浓度的BaO-CaO-B2O3低软化温度玻璃的陶瓷粉末来实现,所述高浓度的BaO-CaO-B2O3低软化温度玻璃使得陶瓷能够低温致密(875℃或更低)。这种大量的玻璃具有降低所述陶瓷Q值的不利影响。
发明内容
本发明涉及介电组合物,且更特别地涉及钡-硅-钨酸盐基的介电组合物,其具有介电常数K=6-12或者高达约50,例如约1至约50,或约6至约45同时具有非常高的Q因子,并且可用于具有贵金属金属化的低温共烧陶瓷(LTCC)应用。Q因子=1/Df,其中Df为介电损耗角正切。用于高频应用的具有大于1,000的非常高的Q值的介电材料的需求不断增长。
本发明还涉及一种介电材料组合物,其在烧制成致密陶瓷体时符合COG规范的行业标准,同时保持高Q值,例如Q值(在1MHz的测量频率下)大于1000、2000、5000、10000、15000、20000、30000、40000、50000或上述值之间的任何值,或甚至更高。
广泛地说,本发明的陶瓷材料包含一个基体,所述基体通过将合适量的BaCO3、WO3和SiO2混合,并将这些材料在水性介质中一起研磨至粒度D50为约0.2至1.5微米来制成。将该浆料干燥并在约800至1000℃下煅烧约1至5小时以形成包含BaO、WO3和SiO2的基体材料。然后将所得的基体材料机械粉碎并与助熔剂混合,并再次在水性介质中研磨至粒度D50为约0.5至1.0μm。将研磨过的陶瓷粉末干燥并粉碎以制备精细的粉末。可将所得的粉末压制成圆柱形粒料并在约775至约900℃、优选约800至约890℃、更优选约800至约875℃、更优选约825至约875℃、或者约845至约885℃、甚至更优选约840至约860℃或850℃至860℃的温度下烧制。最优选的单值为850℃或880℃。烧制进行的时间为约1至约200分钟,优选约5至约100分钟,更优选约10至约50分钟,还更优选约20至约40分钟,和最优选约30分钟。
本发明的一个实施方案是包含前体材料混合物的组合物,该组合物经烧制形成钡-钨-硅氧化物基体材料,该基体材料不含铅且不含镉,并且自身可以或与其他氧化物结合形成介电材料。
在一个优选的实施方案中,基体材料不含铅。在另一个优选的实施方案中,基体材料不含镉。在一个更优选的实施方案中,基体材料不含铅且不含镉。
在一个优选的实施方案中,基体材料包含(i)30-45重量%、优选37-44重量%的BaO,(ii)50-60重量%、优选51-58重量%的WO3,以及(iii)1-10重量%、优选3-7重量%的SiO2
在一个优选的实施方案中,基体材料包含(i)30-50重量%、优选30-45重量%、更优选37-44重量%的BaO,(ii)40-70重量%、优选45-65重量%、更优选51-58重量%的WO3,以及(iii)0.1-15重量%、优选1-10重量%、更优选3-7重量%的SiO2
在一个优选的实施方案中,基体材料包含(i)30-50重量%、优选30-45重量%、更优选37-44重量%的BaO,(ii)40-70重量%、优选45-65重量%、更优选51-58重量%的WO3,以及(iii)0.1-15重量%、优选1-10重量%、更优选3-7重量%的SiO2
在另一个实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及5-15重量%的BaSiO3、0.1-4重量%的BaCO3、0.1-4重量%的H3BO3和0.1-2重量%的LiF,或上述物质的等同物。可任选地包含至多1重量%的CuO。
在一个优选的实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及8-13重量%的BaSiO3、0.5-3重量%的BaCO3、0.5-3重量%的H3BO3和0.1-1重量%的LiF,或上述物质的等同物。可任选地包含至多0.5重量%的CuO。在又一个优选的实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及9-11重量%的BaSiO3、1-2重量%的BaCO3、1-2重量%的H3BO3和0.2-0.9重量%的LiF,或上述物质的等同物。此外,可任选地包含至多0.5重量%的CuO,例如0.1至5重量%。
在另一个实施方案中,本发明的介电组合物包含90-99.9重量%的本文中的任何基体材料以及0.2-3重量%的BaCO3、0-3重量%的H3BO3、0.1重量%的LiF、0-0.5重量%的CuO、0-1.5重量%的Li2CO3和0-1重量%的SiO2,或上述任何物质的氧化物等同物。在本段的所有实施方案中,基体材料以介电组合物70-99.99重量%,优选75-99.9重量%,更优选80-99.9重量%,和还更优选90-99.9重量%的比例存在。在又一个更优选的实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及10-11重量%的BaSiO3、1.2-1.8重量%的BaCO3、1.1-1.7重量%的H3BO3和0.3-0.8重量%的LiF,或上述物质的等同物。如本领域所已知的,等同物意指金属的最终烧制氧化物形式,例如B2O3相对于H3BO3或BaO相对于BaCO3
在另一个实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及0.1-3重量%的BaCO3和0.5-4重量%的H3BO3,或上述物质的等同物。可任选地包含至多2重量%的LiF,1重量%的CuO,至多2重量%的Li2CO3和/或至多2重量%的SiO2。在一个优选的实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及0.5-2重量%的BaCO3和0.7-2重量%的H3BO3,或上述物质的等同物。可任选地包含至多1重量%的LiF,0.5重量%的CuO,至多1重量%的Li2CO3和/或至多1重量%的SiO2。在本段的所有实施方案中,基体材料以介电组合物80-99.99重量%,优选85-99.9重量%,和更优选90-99重量%的比例存在。在又一个更优选的实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及1.2-1.8重量%的BaCO3、1.1-1.7重量%的H3BO3和0.3-0.8重量%的LiF,或上述物质的等同物。
在另一个实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及0.5-2重量%的BaCO3和0.1-2重量%的H3BO3和0.1-1重量%的Li2CO3,或上述物质的等同物。可任选地包含至多2重量%的LiF、至多1重量%的CuO、至多7重量%的SiO2、至多2重量%的ZrO2和至多15重量%或至多50重量%的CaTiO3。在一个优选实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及0.8-1.5重量%的BaCO3和0.3-1重量%的H3BO3和0.1-0.8重量%的Li2CO3,或上述物质的等同物。可任选地包含至多1重量%的LiF、0.5重量%的CuO、5重量%的SiO2、1重量%的ZrO2和/或10重量%的CaTiO3。在这些实施方案中,基体材料以介电组合物80-99.99重量%,优选85-99.9重量%,和更优选84-99重量%的比例存在。
在另一个实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及0.2-2重量%的BaCO3和0.5-5重量%的H3BO3,和0.1-2重量%的Li2CO3,和0.01-0.5重量%的SiO2,和1-10重量%的ZnO,和0.1-3重量%的CuO,和30-50重量%的CaTiO3,或上述物质的等同物。在一个优选的实施方案中,介电组合物包含本文其他处公开的任何基体材料以及0.5-1重量%的BaCO3和2-4重量%的H3BO3,和0.5-1.4重量%的Li2CO3,和0.03-0.07重量%的SiO2,和5-8重量%的ZnO,和0.3-0.7重量%的CuO,和35-45重量%的CaTiO3,或上述物质的等同物。在这些实施方案中,基体材料以介电组合物30-60重量%,优选40-55重量%,和更优选45-50重量%的比例存在。
在另一个实施方案中,介电组合物包含(a)20-70重量%的BaO,(b)20-70重量%的WO3,(c)0.1-10重量%的SiO2,(d)0-10重量%的CaO,(d)0-10重量%的TiO2,(e)0.1-5重量%的B2O3,(f)0.1-5重量%的Li2O和(g)0-5重量%的LiF。
在另一个实施方案中,介电组合物包含(a)20-70重量%的BaO,(b)20-70重量%的WO3,(c)0.1-10重量%的SiO2,(d)1-15重量%的SrO,(d)0.1-10重量%的TiO2,(e)0.1-5重量%的B2O3,(f)0.1-5重量%的Li2O和(g)0.1-1重量%的CuO。
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:(a)80-99重量%的基体材料,该基体材料包含(i)30-45重量%的BaO,(ii)50-60重量%的WO3,(iii)1-10重量%的SiO2,(iv)不含铅和(v)不含镉,以及(b)8-13重量%的BaSiO3,(c)0.5-3重量%的BaCO3,(d)0.5-3重量%的H3BO3,(e)0.1-1重量%的LiF和(f)0至0.5重量%的CuO,或上述任何物质的氧化物等同物。
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:(a)90-99.9重量%的基体材料,该基体材料包含(i)30-45重量%的BaO,(ii)50-60重量%的WO3,(iii)1-10重量%的SiO2,(iv)不含铅和(v)不含镉,以及(b)0.5-2重量%的BaCO3,(c)1-3重量%的H3BO3,(d)0.1-1重量%的LiF和(e)0至0.5重量%的CuO,0-1重量%的Li2CO3和0-1重量%的SiO2,或上述任何物质的氧化物等同物。
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:(a)87-99.9重量%的基体材料,该基体材料包含(i)30-45重量%的BaO,(ii)50-60重量%的WO3,(iii)1-10重量%的SiO2,(iv)不含铅和(v)不含镉,以及(b)0.8-1.5重量%的BaCO3,(c)0.3-1重量%的H3BO3,(d)0-1重量%的LiF和(e)0至0.5重量%的CuO,(f)0.1-0.8重量%的Li2CO3,(g)0.1-0.7重量%的SiO2,(h)0-1重量%的ZrO2,(i)0-10重量%的CaTiO3,或上述任何物质的氧化物等同物。
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:(a)37-99.7重量%的基体材料,该基体材料包含(i)30-50重量%的BaO,(ii)45-65重量%的WO3,(iii)1-10重量%的SiO2,(iv)不含铅和(v)不含镉,以及(b)0.1-2重量%的BaCO3,(c)0.1-5重量%的H3BO3,(d)0-1重量%的CuO,(e)0.1-2重量%的Li2CO3,(f)0-5重量%的SiO2,(g)0-1重量%的ZrO2,(h)0-10重量%的CaTiO3,或上述任何物质的氧化物等同物。
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:(a)87-99.9重量%的基体材料,其包含(i)30-45重量%的BaO,(ii)50-60重量%的WO3,(iii)1-10重量%的SiO2,(iv)不含铅和(v)不含镉,以及(b)0.8-1.5重量%的BaCO3,(c)0.3-1重量%的H3BO3,(d)0-1重量%的LiF和(e)0至0.5重量%的CuO,(f)0.1-0.8重量%的Li2CO3,(g)0.5重量%的SiO2,(h)0-1重量%的ZrO2,(i)0-10重量%的CaTiO3,或上述任何物质的氧化物等同物。HEREHEREHERE
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:(a)85-99重量%的基体材料,其包含(i)30-45重量%的BaO,(ii)50-60重量%的WO3,(iii)1-10重量%的SiO2,(iv)不含铅和(v)不含镉,以及(b)0.7-1.7重量%的BaCO3,(c)0.1-1重量%的H3BO3,(d)0.1-1重量%的LiF,(e)0至0.7重量%的CuO,(f)0.1-0.8重量%的Li2CO3,(g)0.01-0.6重量%的SiO2,(i)4-13的ZnO,(i)0-15重量%的SrTiO3,(j)0-50重量%的CaTiO3,或上述任何物质的氧化物等同物。
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其包含:(a)10-55重量%的BaO,(b)15-60重量%的WO3,(c)0.5-15重量%的SiO2,(d)0-27重量%的CaO,(e)0-35重量%的TiO2,(f)0-15重量%的SrO,(g)0.05-5重量%的B2O3,(h)0.05-5重量%的Li2O,(i)0-5重量%的LiF,(j)0-5重量%的CuO和(k)0-10重量%的ZnO。
本发明的一个实施方案是一种不含铅且不含镉的介电组合物,其包含:(a)20-70重量%的BaO,(b)20-70重量%的WO3,(c)0.1-10重量%的SiO2,(d)0-10重量%的CaO,(e)0-10重量%的TiO2,(f)0.1-5重量%的B2O3,(g)0.1-5重量%的Li2O3和h)0.05-5重量%的Li2O,(i)0-5重量%的LiF,(j)0-5重量%的CuO和(k)0-10重量%的ZnO。
对于每一个由0重量%所界定的组成范围,该范围被认为还教导了具有0.01重量%或0.1重量%下限的范围。诸如60-90重量%的Ag+Pd+Pt+Au的教导意指任何或所有标明的组分可以以所述范围存在于组合物中。
在另一个实施方案中,本发明涉及不含铅和不含镉的介电组合物,其在烧制前包含本文其他处公开的任何基体材料。
在另一个实施方案中,本发明涉及一种电气或电子部件,其烧制前包含本文公开的任何介电糊料,以及包括以下物质的导电糊料:(a)60-90重量%的Ag+Pd+Pt+Au,(b)1-10重量%的选自过渡金属的硅化物、碳化物、氮化物和硼化物的添加剂,(c)0.5-10重量%的至少一种玻璃料,和(d)10-40重量%的有机物部分。电气或电子部件可为高Q谐振器、带通滤波器、无线封装系统及其组合。
在另一个实施方案中,本发明涉及一种形成电子部件的方法,该方法包括:将本文公开的任何介电糊料施加到基底上;并在足以烧结该介电材料的温度下烧制该基底。
在另一个实施方案中,本发明涉及一种形成电子部件的方法,该方法包括将本文公开的任何介电材料的颗粒施加到基底上,并在足以烧结该介电材料的温度下烧制该基底。
在另一个实施方案中,本发明的方法包括形成电子部件,该方法包括:
(a1)将本文公开的任何介电组合物施加到基底上,或
(a2)将包含本文公开的任何介电组合物的带材(tape)施加到基底上,或
(a3)把本文公开的任何介电组合物的多个颗粒压实以形成单片复合基底;以及
(b)在足以烧结该介电材料的温度下烧制该基底。
本发明的方法是将至少一层本文公开的介电常数大于10的任何介电材料与至少一个介电常数小于10的带材或糊料的交替的单独的层结合共烧制以形成多层基底的方法,其中交替的层具有不同的介电常数。
可以理解为,本文中的每个数值(百分比、温度等)均认为前面带有“约”。在本文的任何实施方案中,介电材料均可包含不同的相,例如任何比值的结晶相和非结晶相,例如1:99至99:1,(结晶:非结晶)以mol%或重量%表示。其他比值包括10:90、20:80、30:70、40:60、50:50、60:40、70:30、80:20和90:10以及其间的所有值。在一个实施方案中,介电糊料包含10-30重量%的结晶电介质和70-90重量%的非晶电介质。
本发明的上述和其他的特征在下文中会更充分地描述并在权利要求书中具体指出,以下的描述详细阐述了本发明的某些说明性实施方案,但是这些仅仅表示采用本发明原理的各种方式中的一些。
具体实施方式
LTCC(低温共烧陶瓷)是一种多层玻璃陶瓷基底技术,其是在相对低的烧制温度(低于1000℃)下与低电阻金属导体如Ag、Au、Pt或Pd或其组合共烧制的。有时它被称为“玻璃陶瓷”,因为它的主要成分可由玻璃和氧化铝或其他陶瓷填料组成。一些LTCC配方是重结晶玻璃。本文中的玻璃可以玻璃料的形式提供,该玻璃料可以原位形成或添加到组合物中形成。在某些情况下,可使用贱金属如镍及其合金,理想地在非氧化气氛中,例如10-12至10-8个大气压的氧气分压。“贱金属”是除金、银、钯和铂以外的任何金属。合金化金属可包含Mn、Cr、Co和/或Al。
对由介电材料的浆料铸成的带材进行切割,并且形成被称为通孔的孔,以实现各层之间的电连接。通孔用导电糊料填充。然后根据需要印刷电路图案以及共烧电阻器。将多层印刷基底堆叠。施加热和压力至堆层以将各层结合在一起。然后进行低温(<1000℃)烧结。将烧结的堆层锯成最终尺寸,并根据需要完成后烧制处理。
用于汽车应用的多层结构可具有约5个陶瓷层,例如3-7个或4-6个。在RF应用中,结构可具有10-25个陶瓷层。作为布线基底,可使用5-8个陶瓷层。
介电糊料。用于形成介电层的糊料可以通过将有机载体与如本文所公开的介电材料原料混合来获得。也可使用上文所述的经烧制转化为这些氧化物和复合氧化物的前体化合物(碳酸盐、硝酸盐、硫酸盐、磷酸盐)。通过选择含有这些氧化物或这些氧化物的前体的化合物,并以适当的比例将它们混合来得到介电材料。确定介电材料原料中这些化合物的比例以使烧制后可以得到期望的介电层组合物。介电材料原料(如本文其他处公开的)通常以粉末形式来使用,平均粒度为约0.1至约3微米、更优选约1微米或更小。
有机载体。本文中的糊料包含有机物部分。所述有机物部分是或包含有机载体,该有机载体为有机溶剂中的粘合剂或水中的粘合剂。本文所用粘合剂的选择并不是关键的;常规粘合剂如乙基纤维素、聚乙烯基丁醇、乙基纤维素和羟丙基纤维素及其组合,合适与溶剂一起使用。有机溶剂也不是关键的,并且可根据具体的施用方法(即印刷或成片(sheeting))选自常规的有机溶剂如丁基卡必醇、丙酮、甲苯、乙醇、二甘醇丁醚;2,2,4-三甲基戊二醇单异丁酸酯
Figure BDA0001376221780000091
α-萜品醇;β-萜品醇;γ-萜品醇;十三醇;二甘醇乙醚
Figure BDA0001376221780000092
二甘醇丁醚(Butyl
Figure BDA0001376221780000093
)和丙二醇;以及其共混物,以
Figure BDA0001376221780000094
商标销售的产品购自Eastman Chemical Company,Kingsport,TN;那些以
Figure BDA0001376221780000095
Figure BDA0001376221780000096
商标销售的产品购自Dow Chemical Co.,Midland,MI。
对于本发明介电糊料的有机物部分没有特别的限制。在一个实施方案中,本发明的介电糊料包含约10重量%至约40重量%的有机载体;在另一个实施方案中,包含约10重量%至约30重量%的有机载体。通常糊料含有约1至5重量%的粘合剂和约10至50重量%的有机溶剂,其余为介电组分(固体部分)。在一个实施方案中,本发明的介电糊料包含约60至约90重量%的其他处公开的固体部分,和约10重量%至约40重量%的本段和前段中描述的有机物部分。如果需要,本发明的糊料可含有至多约10重量%的其他添加剂,例如分散剂、增塑剂、介电化合物和绝缘化合物。
填料。为了最小化不同介电组合物的带层之间的膨胀失配,可将填料如堇青石、氧化铝、锆石、熔融石英、铝硅酸盐及其组合加入到一个或更多个本文的介电糊料中,其量为1-30重量%、优选2-20重量%和更优选2-15重量%。
烧制。然后在一种气氛中烧制介电叠层(两层或更多层),根据内部电极层形成糊料中的导体的类型来确定该气氛。当内部电极层由贱金属导体如镍和镍合金的形成时,烧制气氛可具有约10-12至约10-8atm的氧气分压。应避免在低于约10-12atm的分压下进行烧结,因为在这样的低压下,导体可能异常烧结并可能与介电层分离。在大于约10-8atm的氧气分压下,内部电极层可能被氧化。最优选约10-11至约10-9atm的氧气分压。也可在环境空气中烧制本文公开的介电组合物。然而,还原性气氛(H2、N2或H2/N2)可能不期望地将介电糊料中的Bi2O3还原成金属铋。
本文公开的LTCC组合物和装置的应用包括带通滤波器(高通或低通),用于电信的无线发射机和接收机,其包括蜂窝式应用、功率放大器模块(PAM)、RF前端模块(FEM)、WiMAX2模块、LTE高级模块,传输控制单元(TCU),电子助力转向(EPS),发动机管理系统(EMS),各种传感器模块,雷达模块,压力传感器,摄像机模块,小型调谐器模块,用于装置和部件的薄型模块以及IC测试板。带通滤波器包含两个主要部分,一个是电容器而另一个是电感器。低K材料对于设计电感器是有利的,但不适合设计电容器,因为需要更多的有源区域来产生足够的电容。高K材料会产生相反的结果。本发明人发现,低K(4-8)/中K(10-100)的LTCC材料可以共烧并被放入一个部件,低K材料可用于设计电感器区域而高K材料可用于设计电容器区域以具有优化的性能。
实施例
提供以下实施例来说明本发明的优选方面,并不意图限制本发明的范围。
如下表所示,将适量的BaCO3、WO3和SiO2混合,然后在水性介质中一起研磨至粒度D50为约0.2至1.5μm。将该浆料干燥并在约800至1000℃煅烧约1至5小时以形成包含BaO、WO3和SiO2的基体材料。然后将所得的基体材料机械粉碎并与助熔剂混合,并再次在水性介质中研磨至粒度D50为约0.5至1.0μm。将研磨过的陶瓷粉末干燥并粉碎以制备精细的粉末。将所得的粉末压制成圆柱形粒料并在约850℃的温度下烧制约30分钟,只有配方24在约880℃烧制约30分钟。配方以重量百分数表示。
表1.基体组合物。
Figure BDA0001376221780000101
表2.介电配方1和2。
Figure BDA0001376221780000102
Figure BDA0001376221780000111
表3.介电配方3-9。
配方 3 4 5 6 7 8 9
基体B 96.454 96.261 96.580 96.704 96.829 96.266 98.131
BaCO<sub>3</sub> 1.570 1.567 1.570 1.570 1.570 1.559 0.778
H<sub>3</sub>BO<sub>3</sub> 1.476 1.473 1.476 1.476 1.476 1.466 0.731
LiF 0.500 0.499 0.374 0.250 0.125 0.000 0.000
CuO 0.000 0.200 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000
Li<sub>2</sub>CO<sub>3</sub> 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.710 0.360
SiO<sub>2</sub> 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000
表4.介电配方10-17。
配方 10 11 12 13 14 15 16 17
基体B 97.208 98.165 95.800 97.686 98.306 97.898 97.792 98.587
BaCO<sub>3</sub> 1.720 0.516 1.552 1.118 0.783 1.743 1.431 0.700
H<sub>3</sub>BO<sub>3</sub> 0.718 0.484 1.458 0.601 0.421 0.000 0.300 0.250
LiF 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000
CuO 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000
Li<sub>2</sub>CO<sub>3</sub> 0.354 0.360 0.718 0.357 0.250 0.359 0.358 0.358
SiO<sub>2</sub> 0.000 0.475 0.472 0.238 0.240 0.000 0.119 0.105
表5.介电配方18-22。
配方 18 19 20 21 22
基体C 97.919 93.256 97.123 92.499 88.934
BaCO<sub>3</sub> 1.121 1.067 1.111 1.058 1.111
H<sub>3</sub>BO<sub>3</sub> 0.602 0.574 0.599 0.570 0.599
LiF 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000
CuO 0.000 0.000 0.000 0.000 0.000
Li<sub>2</sub>CO<sub>3</sub> 0.358 0.341 0.356 0.339 0.356
SiO<sub>2</sub> 0.000 4.762 0.000 0.000 0.000
ZrO<sub>2</sub> 0.000 0.000 0.811 0.772 0.000
CaTiO<sub>3</sub> 0.000 0.000 0.000 4.762 9.000
表6.介电配方23-24。
配方 23 24
基体B 87.7 47.473
BaCO<sub>3</sub> 1.28 0.694
Li<sub>2</sub>CO<sub>3</sub> 0.32 0.886
H<sub>3</sub>BO<sub>3</sub> 0.22 3.11
SiO<sub>2</sub> 0.09 0.05
SrTiO<sub>3</sub> 9.98 -
ZnO - 6.33
CuO 0.43 0.5
CaTiO<sub>3</sub> - 40.957
下表7和表8示出了表1-5所列的配方的性质和性能数据。
表7.配方1-24的密度、K和Q:
Figure BDA0001376221780000121
Figure BDA0001376221780000131
表8.配方17和20-23的TCC数据:
配方 17 20 21 22 23
TCC PPM@-55℃ P133 P150 P069 N021 N026
TCC PPM@85℃ P139 P141 P078 P023 P013
TCC PPM@125℃ P145 P146 P087 P029 P020
表9包括在850℃烧结30分钟后(配方24在约880℃烧制约30分钟)的所选择的介电配方(以重量%表示):
表9
配方 13 22 23 24
BaO 42.335 39.913 38.2 20.969
WO<sub>3</sub> 50.511 47.566 45.3 24.877
SiO<sub>2</sub> 6.669 2.972 5.86 3.218
SrO - - 5.67 -
CaO - 3.739 - 17.243
TiO<sub>2</sub> - 5.326 4.37 24.568
B<sub>2</sub>O<sub>3</sub> 0.34 0.339 0.13 1.788
Li<sub>2</sub>O 0.145 0.145 0.13 0.365
CuO - - 0.43 0.510
ZnO - - - 6.462
本领域技术人员将容易想到其他的优点和修改。因此,本发明在其更广泛的方面不限于本文所示和描述的具体细节和说明性实施例。因此,在不脱离由所附权利要求及其等同方案所限定的总体发明构思的精神或范围的情况下,可进行各种修改。
本发明的其它实施方案在以下项目中示出。
项目1:一种包含前体材料混合物的组合物,其经烧制形成包含钡-钨-硅氧化物基体材料的不含铅且不含镉的介电材料。
项目2:根据项目1所述的组合物,其中所述介电材料的介电常数为1至50。
项目3:根据项目1所述的组合物,其中所述介电材料的介电常数为6至45。
项目4:一种基体材料,其包含:
(i)30-50重量%的BaO,
(ii)45-65重量%的WO3
(iii)1-10重量%的SiO2
(iv)不含铅,以及
(v)不含镉。
项目5:一种不含铅且不含镉的介电材料,其在烧制前包含:
(a)80-99.9重量%的项目4所述的基体材料以及
(b)8-13重量%的BaSiO3
(c)0.5-3重量%的BaCO3
(d)0.5-3重量%的H3BO3
(e)0.1-1重量%的LiF和
(f)0至0.5重量%的CuO,
或上述任何物质的氧化物等同物。
项目6:一种不含铅且不含镉的介电材料,其在烧制前包含:
(a)90-99.9重量%的项目4所述的基体材料以及
(b)0.2-3重量%的BaCO3
(c)10-3重量%的H3BO3
(d)0-1重量%的LiF,
(e)0-0.5重量%CuO,
(f)0-1.5重量%的Li2CO3
(g)0-1重量%的SiO2
或上述任何物质的氧化物等同物。
项目7:一种不含铅且不含镉的介电材料,其在烧制前包含:
(a)37-99.7重量%的项目4所述的基体材料以及
(b)0.1-2重量%的BaCO3
(c)0.1-5重量%的H3BO3
(d)0至1重量%的CuO,
(e)0.1-2重量%的Li2CO3
(f)0-5重量%的SiO2
(g)0-1重量%的ZrO2
(h)0-10重量%的ZnO,
(i)0-15重量%的SrTiO3,和
(j)0-50重量%的CaTiO3
或上述任何物质的氧化物等同物。
项目8:一种不含铅且不含镉的组合物,其包含前体混合物,所述组合物经烧制形成不含铅且不含镉的包含以下物质的介电材料:
(a)10-55重量%的BaO,
(b)15-60重量%的WO3
(c)0.5-15重量%的SiO2
(d)0-27重量%的CaO,
(e)0-35重量%的TiO2
(f)0-15重量%的SrO,
(g)0.05-5重量%的B2O3
(h)0.05-5重量%的Li2O,
(i)0-5重量%的LiF,
(j)0-5重量%的CuO,和
(k)0-10重量%的ZnO。
项目9:项目1-8中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料,其中烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的Q值为至少20000。
项目10:项目1-8中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料,其中烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的介电损耗角正切Df小于0.00005。
项目11:项目1-8中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料,其中烧制后,经烧制的组合物的介电常数K为6-45。
项目12:一种电气或电子部件,其在烧制前包含项目1-8中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料,以及包含以下物质的导电糊料:
a.60-90重量%的Ag+Pd+Pt+Au,
b.1-10重量%的选自过渡金属的硅化物、碳化物、氮化物和硼化物的添加剂,
c.0.5-10重量%的至少一种玻璃料,
d.10-40重量%的有机物部分。
项目13:项目12所述的电气或电子部件,其中所述电气或电子部件选自高Q谐振器、电磁干扰滤波器、带通滤波器、无线封装系统及其组合。
项目14:一种形成电子部件的方法,其包括:
(a1)将项目1-8中任一项所述的介电组合物施加到基底上,或
(a2)将包含项目1-8中任一项所述的介电组合物的带材施加到基底上,或
(a3)将项目1-8中任一项所述的介电组合物的多个颗粒压实以形成单片复合基底;以及
(b)在足以烧结该介电材料的温度下烧制该基底。
项目15:项目14所述的方法,其中所述烧制在约800℃至约900℃的温度下进行。
项目16:项目14所述的方法,其中所述烧制在约845℃至约885℃的温度下进行。
项目17:项目14-16中任一项所述的方法,其中所述烧制在空气中进行。
项目18:将至少一层项目1-8中任一项所述的介电常数大于10的介电材料与至少一个介电常数小于10的带材或糊料的交替的单独的层结合共烧制以形成多层基底的方法,其中交替的层具有不同的介电常数。
项目19:项目18所述的方法,其中所述烧制在约800℃至约900℃的温度下进行。
项目20:项目18所述的方法,其中所述烧制在约845℃至约885℃的温度下进行。
项目21:项目18-20中任一项所述的方法,其中所述烧制在空气中进行。
项目22:一种包含前体材料混合物的组合物,其经烧制形成包含钡-钨-硅氧化物基体材料的不含铅且不含镉的介电材料。
项目23:根据项目22所述的组合物,其中所述介电材料的介电常数为1至20。
项目24:根据项目22所述的组合物,其中所述介电材料的介电常数为6至12。
项目25:一种基体材料,其包含:
(i)30-45重量%的BaO,
(ii)50-60重量%的WO3
(iii)1-10重量%的SiO2
(iv)不含铅,以及
(v)不含镉。
项目26:一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:
(a)80-99.9重量%的项目4所述的基体材料以及
(b)8-13重量%的BaSiO3
(c)0.5-3重量%的BaCO3
(d)0.5-3重量%的H3BO3
(e)0.1-1重量%的LiF和
(f)0至0.5重量%的CuO,
或上述任何物质的氧化物等同物。
项目27:一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:
(a)90-99.9重量%的项目4所述的基体材料以及
(b)0.5-2重量%的BaCO3
(c)1-3重量%的H3BO3
(d)0-1重量%的LiF和
(e)0至0.5重量%CuO,
(f)0-1重量%的Li2CO3
(g)0-1重量%的SiO2
或上述任何物质的氧化物等同物。
项目28:一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:
(a)87-99.9重量%的项目4所述的基体材料以及
(b)0.8-1.5重量%的BaCO3
(c)0.3-1重量%的H3BO3
(d)0-1重量%的LiF,
(e)0至0.5重量%的CuO,
(f)0.1-0.8重量%的Li2CO3
(g)0-5重量%的SiO2
(h)0-1重量%的ZrO2
(i)-10重量%的0CaTiO3
或上述任何物质的氧化物等同物。
项目29:一种不含铅且不含镉的介电组合物,其包含:
(a)20-70重量%的BaO,
(b)20-70重量%的WO3
(c)0.1-10重量%的SiO2
(d)0-10重量%的CaO,
(e)0-10重量%的TiO2
(f)0.10-5重量%的B2O3
(g)0.1-5重量%的Li2O3,和
(h)0.1-5重量%的LiF。
项目30:项目22-29中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料,其中烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的Q值为至少20000。
项目31:项目22-29中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料,其中烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的介电损耗角正切Df小于0.00005。
项目32:项目22-29中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料,其中烧制后,经烧制的组合物的介电常数K为6-12。
项目33:一种电气或电子部件,其在烧制前包含项目22-29中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料或介电糊料,以及包含以下物质的导电糊料:
(a)60-90重量%的Ag+Pd+Pt+Au,
(b)1-10重量%的选自过渡金属的硅化物、碳化物、氮化物和硼化物的添加剂,
e.0.5-10重量%的至少一种玻璃料,
f.10-40重量%的有机物部分。
项目34:项目33所述的电气或电子部件,其中所述电气或电子部件选自高Q谐振器、带通滤波器、无线封装系统及其组合。
项目35:一种形成电子部件的方法,其包括:
(a1)将项目22-29中任一项所述的介电组合物施加到基底上,或
(a2)将包含项目22-29中任一项所述介电组合物的带材施加到基底上,或
(a3)将项目22-29中任一项所述的介电组合物的多个颗粒压实以形成单片复合基底;以及
(f)在足以烧结该介电材料的温度下烧制该基底。
项目36:项目35所述的方法,其中所述烧制在约800℃至约900℃的温度下进行。
项目37:项目35所述的方法,其中所述烧制在约825℃至约875℃的温度下进行。
项目38:项目35-37中任一项所述的方法,其中所述烧制在空气中进行。
项目39:将至少一层项目22-29中任一项所述的介电材料与至少一个介电常数大于12的带材或糊料的交替的单独的层结合共烧制以形成多层基底的方法,其中交替的层具有不同的介电常数。
项目40:项目39所述的方法,其中所述烧制在约800℃至约900℃的温度下进行。
项目41:项目39所述的方法,其中所述烧制在约825℃至约875℃的温度下进行。
项目42:项目39-41中任一项所述的方法,其中所述烧制在空气中进行。
项目43:一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:
(a)85-99重量%的项目4所述的基体材料以及
(b)0.7-1.7重量%的BaCO3
(c)0.1-1重量%的H3BO3
(d)0.1-1重量%的LiF,
(e)0至0.7重量%的CuO,
(f)0.1-0.8重量%的Li2CO3
(g)0.01-6重量%的SiO2
(h)4-13重量%的SrTiO3
或上述任何物质的氧化物等同物。
项目44:一种不含铅且不含镉的介电组合物,其包含:
(a)20-70重量%的BaO,
(b)20-70重量%的WO3
(c)0.1-10重量%的SiO2
(d)1-15重量%的SrO,
(e)0.1-10重量%的TiO2
(f)0.1-5重量%的B2O3
(g)0.1-5重量%的Li2O,以及
(h)0.1-1重量%的CuO。

Claims (22)

1.一种不含铅且不含镉的介电材料,其在烧制前是包含以下组分的组合物:
(a)80-99.9重量%的基体材料以及
(b)8-13重量%的BaSiO3
(c)0.5-3重量%的BaCO3
(d)0.5-3重量%的H3BO3
(e)0.1-1重量%的LiF和
(f)0至0.5重量%的CuO,
或上述任何物质的氧化物等同物;
其中,所述基体材料包含:
(i)30-50重量%的BaO,
(ii)45-65重量%的WO3
(iii)1-10重量%的SiO2
(iv)不含铅,以及
(v)不含镉。
2.一种不含铅且不含镉的介电材料,其在烧制前是包含以下组分的组合物:
(a)90-99.9重量%的权利要求1所述的基体材料以及
(b)0.2-3重量%的BaCO3
(c)0-3重量%的H3BO3
(d)0-1重量%的LiF,
(e)0-0.5重量%CuO,
(f)0-1.5重量%的Li2CO3
(g)0-1重量%的SiO2
或上述任何物质的氧化物等同物。
3.一种不含铅且不含镉的介电材料,其在烧制前是包含以下组分的组合物:
(a)37-99.7重量%的权利要求1所述的基体材料以及
(b)0.1-2重量%的BaCO3
(c)0.1-5重量%的H3BO3
(d)0-1重量%的CuO,
(e)0.1-2重量%的Li2CO3
(f)0-5重量%的SiO2
(g)0-1重量%的ZrO2
(h)0-10重量%的ZnO,
(i)0-15重量%的SrTiO3,和
(j)0-50重量%的CaTiO3
或上述任何物质的氧化物等同物。
4.一种不含铅且不含镉的组合物,其包含前体混合物,所述组合物经烧制形成不含铅且不含镉的包括以下物质的介电材料:
(a)10-55重量%的BaO,
(b)15-60重量%的WO3
(c)0.5-15重量%的SiO2
(d)0-27重量%的CaO,
(e)0-35重量%的TiO2
(f)0-15重量%的SrO,
(g)0.05-5重量%的B2O3
(h)0.05-5重量%的Li2O,
(i)0-5重量%的LiF,
(j)0-5重量%的CuO,和
(k)0-10重量%的ZnO。
5.一种不含铅且不含镉的介电材料,所述介电材料是根据权利要求1-3中任一项所述的介电材料,或者是根据权利要求4所述的组合物形成的介电材料,其中,烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的Q值为至少20000。
6.一种不含铅且不含镉的介电材料,所述介电材料是根据权利要求1-3中任一项所述的介电材料,或者是根据权利要求4所述的组合物形成的介电材料,其中,烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的介电损耗角正切Df小于0.00005。
7.一种不含铅且不含镉的介电材料,所述介电材料是根据权利要求1-3中任一项所述介电材料,或者是根据权利要求4所述的组合物形成的介电材料,其中,烧制后,经烧制的组合物的介电常数K为6-45。
8.一种电气或电子部件,其在烧制前包含权利要求1-3中任一项所述的不含铅且不含镉的介电材料或者包含根据权利要求4所述的组合物形成的不含铅且不含镉的介电材料,以及一种导电糊料,所述导电糊料包括以下物质:
a.60-90重量%的Ag+Pd+Pt+Au,
b.1-10重量%的选自过渡金属的硅化物、碳化物、氮化物和硼化物的添加剂,
c.0.5-10重量%的至少一种玻璃料,
d.10-40重量%的有机物部分。
9.根据权利要求8所述的电气或电子部件,其中所述电气或电子部件选自高Q谐振器、电磁干扰滤波器、带通滤波器、无线封装系统及其组合。
10.一种形成电子部件的方法,其包括:
(a1)将权利要求1-4中任一项所述的介电的组合物施加到基底上,或
(a2)将包含权利要求1-4中任一项所述介电的组合物的带材施加到基底上,或
(a3)将权利要求1-4中任一项所述介电的组合物的多个颗粒压实以形成单片复合基底;以及
(b)在足以烧结所述介电材料的温度下烧制所述基底。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述烧制在800℃至900℃的温度下进行。
12.一种形成多层基底的方法,所述方法包括将至少一层介电常数大于10的介电材料与至少一个介电常数小于10的带材或糊料的交替的单独的层结合共烧制,所述介电常数大于10的介电材料是权利要求1-3中任一项所述的介电材料或者是根据权利要求4所述的组合物经烧制形成的介电材料,其中交替的层具有不同的介电常数。
13.根据权利要求12所述的形成多层基底的方法,其中所述烧制在800℃至900℃的温度下进行。
14.一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:
(a)80-99.9重量%的基体材料以及
(b)8-13重量%的BaSiO3
(c)0.5-3重量%的BaCO3
(d)0.5-3重量%的H3BO3
(e)0.1-1重量%的LiF和
(f)0至0.5重量%的CuO,
或上述任何物质的氧化物等同物;
其中,所述基体材料包含:
(a)30-45重量%的BaO,
(b)50-60重量%的WO3
(c)1-10重量%的SiO2
(d)不含铅,以及
(e)不含镉。
15.一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:
(a)90-99.9重量%的基体材料以及
(b)0.5-2重量%的BaCO3
(c)1-3重量%的H3BO3
(d)0-1重量%的LiF和
(e)0至0.5重量%CuO,
(f)0-1重量%的Li2CO3
(g)0-1重量%的SiO2
或上述任何物质的氧化物等同物;
其中,所述基体材料包含:
(a)30-45重量%的BaO,
(b)50-60重量%的WO3
(c)1-10重量%的SiO2
(d)不含铅,以及
(e)不含镉。
16.一种不含铅且不含镉的介电组合物,其在烧制前包含:
(a)87-99.9重量%的基体材料以及
(b)0.8-1.5重量%的BaCO3
(c)0.3-1重量%的H3BO3
(d)0-1重量%的LiF,
(e)0至0.5重量%的CuO,
(f)0.1-0.8重量%的Li2CO3
(g)0-5重量%的SiO2
(h)0-1重量%的ZrO2
(i)0-10重量%的CaTiO3
或上述任何物质的氧化物等同物;
其中,所述基体材料包含:
(i)30-50重量%的BaO,
(ii)45-65重量%的WO3
(iii)1-10重量%的SiO2
(iv)不含铅,以及
(v)不含镉。
17.根据权利要求14-16中任一项所述的不含铅且不含镉的介电组合物,其中,烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的Q值为至少20000。
18.根据权利要求14-16中任一项所述的不含铅且不含镉的介电组合物,其中,烧制后,经烧制的组合物在1MHz条件下测量时的介电损耗角正切Df小于0.00005。
19.根据权利要求14-16中任一项所述的不含铅且不含镉的介电组合物,其中,烧制后,经烧制的组合物的介电常数K为6-12。
20.一种电气或电子部件,其在烧制前包含权利要求14-19中任一项所述的不含铅且不含镉的介电组合物,以及一种导电糊料,所述导电糊料包括以下物质:
(a)60-90重量%的Ag+Pd+Pt+Au,
(b)1-10重量%的选自过渡金属的硅化物、碳化物、氮化物和硼化物的添加剂,
(c)0.5-10重量%的至少一种玻璃料,
(d)10-40重量%的有机物部分。
21.根据权利要求20所述的电气或电子部件,其中所述电气或电子部件选自高Q谐振器、带通滤波器、无线封装系统及其组合。
22.一种形成多层基底的方法,所述方法包括将至少一层权利要求14-19中任一项所述的介电组合物与至少一个介电常数大于12的带材或糊料的交替的单独的层结合共烧制,其中交替的层具有不同的介电常数。
CN201680009889.7A 2015-02-27 2016-02-17 低k值和中k值ltcc介电组合物及装置 Active CN107250081B (zh)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562121582P 2015-02-27 2015-02-27
US62/121,582 2015-02-27
US201562132632P 2015-03-13 2015-03-13
US62/132,632 2015-03-13
US201562222254P 2015-09-23 2015-09-23
US62/222,254 2015-09-23
PCT/US2016/018190 WO2016137790A1 (en) 2015-02-27 2016-02-17 Low-k and mid-k ltcc dielectric compositions and devices

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107250081A CN107250081A (zh) 2017-10-13
CN107250081B true CN107250081B (zh) 2020-09-11

Family

ID=56789059

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680009889.7A Active CN107250081B (zh) 2015-02-27 2016-02-17 低k值和中k值ltcc介电组合物及装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10287211B2 (zh)
JP (1) JP6438594B2 (zh)
KR (1) KR102005291B1 (zh)
CN (1) CN107250081B (zh)
TW (1) TWI615375B (zh)
WO (1) WO2016137790A1 (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3166905B1 (en) 2014-07-09 2020-09-02 Ferro Corporation Mid-k ltcc compositions and devices
KR102005291B1 (ko) 2015-02-27 2019-07-30 페로 코포레이션 로우-k 및 미드-k ltcc 유전체 조성물 및 소자
TWI634092B (zh) 2015-07-23 2018-09-01 菲洛公司 與鎳電極倂用之cog介電組成物及形成電子組件之方法
US10065894B2 (en) 2015-08-05 2018-09-04 Ferro Corporation High-K LTCC dielectric compositions and devices
WO2020014035A1 (en) * 2018-07-11 2020-01-16 Ferro Corporation High q ltcc dielectric compositions and devices
WO2020176584A1 (en) * 2019-02-27 2020-09-03 Ferro Corporation Ltcc dielectric compositions and devices having high q factors
CN110229004B (zh) * 2019-07-05 2021-09-24 电子科技大学 一种低温烧结微波介质陶瓷材料及其制备方法
CN113045314A (zh) * 2019-12-27 2021-06-29 奇力新电子股份有限公司 具薄型化适用高频组件的陶瓷粉末
US20220119315A1 (en) * 2020-02-05 2022-04-21 Ferro Corporation M7 LTCC-Silver System And Related Dielectric Compositions For High Frequency Applications
CN115215639A (zh) * 2022-07-28 2022-10-21 深圳市麦捷微电子科技股份有限公司 一种低温烧结微波介质陶瓷材料及其制备方法
KR20240061036A (ko) 2022-10-31 2024-05-08 주식회사 태멘테크 저온 동시 소성용 바륨-스트론튬-텅스텐계 세라믹 조성물 및 그 제조 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030052461A (ko) * 2001-12-21 2003-06-27 한국과학기술연구원 Ltcc용 저유전율 세라믹 조성물
CN101100367A (zh) * 2007-07-06 2008-01-09 清华大学 氮化铝/硼硅酸盐玻璃低温共烧陶瓷基板材料及其制备方法
CN101284732A (zh) * 2007-04-12 2008-10-15 Tdk株式会社 电介质陶瓷组合物和电子部件
CN101560094A (zh) * 2009-05-27 2009-10-21 武汉理工大学 一种高温稳定型多层陶瓷电容器介质材料及其制备方法
CN101589004A (zh) * 2007-01-17 2009-11-25 费罗公司 与镍电极使用的x8r介电组合物
JP2011150982A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Tdk Corp 導電性ペーストおよび電子部品の製造方法

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3586522A (en) * 1967-06-01 1971-06-22 Du Pont Glass-ceramics containing baal2si208 crystalline phase
US4379319A (en) 1982-02-18 1983-04-05 Ferro Corporation Monolithic ceramic capacitors and improved ternary ceramic compositions for producing same
US4540676A (en) 1984-05-23 1985-09-10 Tam Ceramics Low temperature fired dielectric ceramic composition with flat TC characteristic and method of making
JPS61275164A (ja) 1985-05-03 1986-12-05 タム セラミツクス インコ−ポレイテツド 誘電体セラミック組成物
US4816430A (en) 1987-06-09 1989-03-28 Tam Ceramics, Inc. Dielectric ceramic composition
US5258335A (en) 1988-10-14 1993-11-02 Ferro Corporation Low dielectric, low temperature fired glass ceramics
US5296426A (en) 1990-06-15 1994-03-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Low-fire X7R compositions
US5601673A (en) 1995-01-03 1997-02-11 Ferro Corporation Method of making ceramic article with cavity using LTCC tape
US5661882A (en) 1995-06-30 1997-09-02 Ferro Corporation Method of integrating electronic components into electronic circuit structures made using LTCC tape
US5571767A (en) 1995-08-21 1996-11-05 Ferro Corporation Low fire X7R dielectric compositions and capacitors made therefrom
DE19546237A1 (de) 1995-12-12 1997-06-19 Philips Patentverwaltung Vielschichtkondensator mit Dielektrikum aus modifiziertem Bariumstrontiumtitanat
WO1997047567A1 (en) 1996-06-14 1997-12-18 Philips Electronics N.V. Ceramic multilayer capacitor
JPH10294020A (ja) 1997-04-21 1998-11-04 Oki Electric Ind Co Ltd マイクロ波誘電体セラミックス
US6043174A (en) 1997-06-26 2000-03-28 Mra Laboratories High dielectric constant X7R ceramic capacitor, and powder for making
JP3305626B2 (ja) 1997-07-22 2002-07-24 太陽誘電株式会社 誘電体磁器組成物とこの誘電体磁器組成物を用いたセラミック電子部品
DE19737324A1 (de) 1997-08-28 1999-03-04 Philips Patentverwaltung Vielschichtkondensator mit silber- und seltenerdmetalldotiertem Bariumtitanat
US6185087B1 (en) 1999-04-08 2001-02-06 Kemet Electronics Corp. Multilayer ceramic chip capacitor with high reliability compatible with nickel electrodes
US6723673B2 (en) 2000-08-31 2004-04-20 Mra Laboratories, Inc. High dielectric constant very low fired X7R ceramic capacitor, and powder for making
EP1435651B1 (en) * 2003-01-02 2012-11-07 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for the constrained sintering of asymetrically configured dielectric layers
WO2004094338A1 (ja) * 2003-04-21 2004-11-04 Asahi Glass Company, Limited 誘電体形成用無鉛ガラス、誘電体形成用ガラスセラミックス組成物、誘電体および積層誘電体製造方法
JP3992647B2 (ja) 2003-05-28 2007-10-17 Tdk株式会社 抵抗体ペースト、抵抗体および電子部品
JP2005035870A (ja) * 2003-07-01 2005-02-10 Ngk Spark Plug Co Ltd 低温焼成誘電体磁器及びその製造方法
JP4706228B2 (ja) * 2004-10-27 2011-06-22 旭硝子株式会社 無鉛ガラス、ガラスセラミックス組成物および誘電体
US20060163768A1 (en) * 2005-01-26 2006-07-27 Needes Christopher R Multi-component LTCC substrate with a core of high dielectric constant ceramic material and processes for the development thereof
US7230817B2 (en) 2005-04-15 2007-06-12 Ferro Corporation Y5V dielectric composition
JP2006315876A (ja) * 2005-05-10 2006-11-24 Sanyo Electric Co Ltd 積層セラミック基板
US7161795B1 (en) 2005-09-26 2007-01-09 Ferro Corporation COG dielectric composition for use with copper electrodes
US7858548B2 (en) 2006-09-13 2010-12-28 Ferro Corporation COG dielectric composition for use with nickel electrodes
US7585474B2 (en) * 2005-10-13 2009-09-08 The Research Foundation Of State University Of New York Ternary oxide nanostructures and methods of making same
US7547369B2 (en) 2006-08-31 2009-06-16 Ferro Corporation Method of making multilayer structures using tapes on non-densifying substrates
KR100808472B1 (ko) * 2006-12-01 2008-03-03 (주)써모텍 유전체 세라믹 조성물 및 그 제조방법
US7541306B2 (en) 2007-01-17 2009-06-02 Ferro Corporation X8R dielectric composition for use with nickel electrodes
US7521390B2 (en) 2007-03-05 2009-04-21 Ferro Corporation Ultra low temperature fixed X7R and BX dielectric ceramic composition and method of making
WO2009061627A1 (en) 2007-11-06 2009-05-14 Ferro Corporation Lead and cadmium free, low temperature fired x7r dielectric ceramic composition and method of making
US20130186463A1 (en) * 2011-12-06 2013-07-25 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive silver paste for a metal-wrap-through silicon solar cell
KR20140118557A (ko) * 2013-03-29 2014-10-08 삼성전기주식회사 유전체 자기 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 캐패시터
US9704650B2 (en) 2013-10-30 2017-07-11 Ferro Corporation COG dielectric composition for use with nickel electrodes
KR102005291B1 (ko) 2015-02-27 2019-07-30 페로 코포레이션 로우-k 및 미드-k ltcc 유전체 조성물 및 소자
US10065894B2 (en) 2015-08-05 2018-09-04 Ferro Corporation High-K LTCC dielectric compositions and devices

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030052461A (ko) * 2001-12-21 2003-06-27 한국과학기술연구원 Ltcc용 저유전율 세라믹 조성물
CN101589004A (zh) * 2007-01-17 2009-11-25 费罗公司 与镍电极使用的x8r介电组合物
CN101284732A (zh) * 2007-04-12 2008-10-15 Tdk株式会社 电介质陶瓷组合物和电子部件
CN101100367A (zh) * 2007-07-06 2008-01-09 清华大学 氮化铝/硼硅酸盐玻璃低温共烧陶瓷基板材料及其制备方法
CN101560094A (zh) * 2009-05-27 2009-10-21 武汉理工大学 一种高温稳定型多层陶瓷电容器介质材料及其制备方法
JP2011150982A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Tdk Corp 導電性ペーストおよび電子部品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US10287211B2 (en) 2019-05-14
CN107250081A (zh) 2017-10-13
JP6438594B2 (ja) 2018-12-19
JP2018513085A (ja) 2018-05-24
WO2016137790A1 (en) 2016-09-01
US20180022650A1 (en) 2018-01-25
TWI615375B (zh) 2018-02-21
KR102005291B1 (ko) 2019-07-30
TW201714856A (zh) 2017-05-01
KR20170121254A (ko) 2017-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107250081B (zh) 低k值和中k值ltcc介电组合物及装置
KR102014336B1 (ko) 고유전 상수-k ltcc 유전성 조성물 및 장치
TWI594971B (zh) 介電糊料組成物及形成電子組件之方法
CN112823144B (zh) 高q ltcc介电组合物和器件
KR102640378B1 (ko) 높은 q인자를 갖는 ltcc 유전체 조성물 및 장치
JP7352651B2 (ja) 高周波用途用m7 ltcc-銀システム及び関連する誘電体組成物

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant