CN107190237A - 蒸发源加热系统 - Google Patents
蒸发源加热系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107190237A CN107190237A CN201710495891.6A CN201710495891A CN107190237A CN 107190237 A CN107190237 A CN 107190237A CN 201710495891 A CN201710495891 A CN 201710495891A CN 107190237 A CN107190237 A CN 107190237A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- heating
- source
- container
- equal thermosphere
- evaporation source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/543—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on the vapor source
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明公开了一种蒸发源加热系统,其特征在于,包括真空的加热容器、绕所述加热容器外周面设置的第一加热源以及设于所述加热容器内的均热层,所述均热层与所述加热容器内壁相对设置,以均匀传导所述加热容器内壁发出的热量。本发明通过在蒸发源加热系统的加热容器内设置有均热层,一方面避免了局部温度过高引起的材料裂解的风险,另一方面也提高了加热均匀性。另外,通过对加热容器内的均热层进行加热,大幅缩短了实现均匀加热所需的时间,也更方便实时控制系统的加热状态。
Description
技术领域
本发明涉及有机电致发光器件技术领域,尤其涉及一种蒸发源加热系统。
背景技术
有机电致发光器件(即OLED)以其自发光、全固态、高对比度、柔性显示等优点,已逐渐成为目前显示市场最具发展前景的技术。目前业内普遍采用真空蒸镀技术制备OLED器件,在蒸镀的过程中,有机材料置于坩埚中,通过控制加热系统使材料气化而沉积在玻璃基板上,此过程中有机材料蒸镀所需要的能量通过坩埚侧壁传导获得,其中,坩埚外的一圈加热线圈通电后使装有有机材料的坩埚升温,热量由坩埚侧壁开始向内部扩散。
然而,实际蒸镀过程中存在以下问题:
(1)坩埚内的有机材料需要长时间缓慢加热才能实现材料均匀受热;
(2)距离坩埚侧壁较近的材料存在因局部温度过高而发生裂解的风险。
因此,有必要提供一种更好的蒸镀加热系统。
发明内容
鉴于现有技术存在的不足,本发明提供了一种新的蒸发源加热系统,可以实现对坩埚内的有机材料的均匀加热,并能避免坩埚内的有机材料因局部温度过高而发生裂解。
为了实现上述的目的,本发明采用了如下的技术方案:
一种蒸发源加热系统,包括真空的加热容器、绕所述加热容器外周面设置的第一加热源以及设于所述加热容器内的均热层,所述均热层与所述加热容器内壁相对设置,以均匀传导所述加热容器内壁发出的热量。
作为其中一种实施方式,所述的蒸发源加热系统还包括第二加热源,所述第二加热源用于对所述均热层加热。
作为其中一种实施方式,所述均热层为筒体。
作为其中一种实施方式,所述均热层与所述加热容器内壁贴合。
作为其中一种实施方式,所述均热层包括自中心径向延伸的多片均热翅,多片所述均热翅在所述均热层的周向上间隔布置。
作为其中一种实施方式,所述第一加热源为螺旋形的电阻式加热线圈,在所述加热容器的高度方向上环绕在所述加热容器的外围。
作为其中一种实施方式,所述的蒸发源加热系统还包括保温盖和反射板,所述反射板为筒体,间隔地环绕在所述第一加热源的外围;所述保温盖盖设于所述反射板顶部。
作为其中一种实施方式,所述第二加热源包括环绕地设于所述第一加热源外侧的感应线圈,通过对所述第二加热源通入交变电流使所述均热层发热。
作为其中一种实施方式,所述第二加热源与所述第一加热源之间还设有隔热层。
作为其中一种实施方式,所述的蒸发源加热系统还包括用于检测所述加热容器内的材料蒸镀速率的采集单元,所述第一加热源的加热功率根据所述采集单元检测的蒸镀速率调整。
本发明通过在蒸发源加热系统的加热容器内设置有均热层,一方面避免了局部温度过高引起的材料裂解的风险,另一方面也提高了加热均匀性。另外,通过对加热容器内的均热层进行加热,大幅缩短了实现均匀加热所需的时间,也更方便实时控制系统的加热状态。
附图说明
图1为根据本发明实施例1的一种蒸发源加热系统的结构示意图;
图2为根据本发明实施例2的一种蒸发源加热系统的结构示意图;
图3为根据本发明实施例3的均热层的使用状态示意图;
图4为根据本发明实施例3的均热层的放置状态示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例1
参阅图1,本实施例的蒸发源加热系统包括真空的加热容器10、绕加热容器10外周面设置的第一加热源20以及设于加热容器10内的均热层30,加热容器10内用于放置蒸镀用的有机材料,该均热层30与加热容器10内壁相对设置,最好是与加热容器10的内壁呈贴合状态,以最大程度且均匀地传导加热容器10的内壁发出的热量。
这里,加热容器10为坩埚,坩埚大致呈圆柱形容器构造,相应地,均热层30为筒体,第一加热源20为螺旋形的电阻式加热线圈,在加热容器10的高度方向上环绕在加热容器10的外围,第一加热源20产生的热量在对其内部的有机材料进行加热前,首先经过加热容器10的侧壁辐射至均热层30,间接利用均热层30对有机材料进行蒸镀加热,保证了加热均匀性,也能避免位于最靠近加热容器10的侧壁的有机材料因局部温度过高而分解。
在第一加热源20周围还设置有保温盖40和反射板50,具体是在第一加热源20的外围间隔地环绕设置有反射板50,该反射板50为筒体构造,采用阻热保温材料制成,可以防止热量朝外辐射,以提高热量利用率。保温盖40盖设于反射板50的顶部,避免第一加热源20的热量溢出造成热损失。
进一步地,为了实时掌握加热容器10内有机材料的蒸镀速率,本实施例在蒸发源加热系统内还设有用于检测加热容器10内的材料蒸镀速率的采集单元(图未示),在实际蒸镀过程中,系统可以根据采集单元采集的蒸镀速率实时调整第一加热源20的加热功率,以保持恒定的蒸镀速率。
实施例2
如图2所示,在实施例1的基础上,本实施例的蒸发源加热系统还具有第二加热源60,该第二加热源60用于对均热层30加热,由于均热层30位于加热容器10内,相比第一加热源20更靠近有机材料,可以更明显地提升加热速度。
第二加热源60具有环绕地设于第一加热源20外侧的感应线圈,通过对第二加热源60通入交变电流即可使均热层30发热。该第二加热源60位于反射板50的外侧,并且,在第二加热源60与反射板50之间还设有隔热层70。第二加热源60可以使用非接触的方式即可对加热容器10内的均热层30加热,而且隔热层70的存在避免了第一加热源20对感应线圈的损坏和干扰,当第一加热源20无法第一时间使加热容器10内壁快速升温时,第二加热源60可以发挥其优势,以最快的速度同时对加热容器10和有机材料加热,缩短系统的启动时间,当系统启动后,第二加热源60的加热温度可以根据需要降低,仍将第一加热源20作为主加热源。在蒸镀过程中,采集单元仍实时检测加热容器10内的材料蒸镀速率,系统据此实时调节第一加热源20的加热功率,以保持恒定的蒸镀速率。
实施例3
如图3和图4所示,作为其中的均热层30的一种构造,本实施例的均热层30为四片均热翅300一体形成的“十”字形结构,可以理解的是,均热层30内均热翅300的数量并不限于4片,多片均热翅300自均热层30的中心径向延伸形成叶轮结构,即多片均热翅300在均热层30的周向上间隔布置,相邻的两片均热翅300之间形成的间隔可以用来放置待加热的有机材料,最好是每两片相邻的均热翅300之间的夹角相同,使得加热更均匀,各均热翅300产生的热量可以更好地辐射到相应的有机材料上,在一定程度上提高了加热速度。
本发明通过在蒸发源加热系统的加热容器内设置有均热层,一方面避免了局部温度过高引起的材料裂解的风险,另一方面也提高了加热均匀性。另外,通过对加热容器内的均热层进行加热,大幅缩短了实现均匀加热所需的时间,也更方便实时控制系统的加热状态。
以上所述仅是本申请的具体实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
Claims (10)
1.一种蒸发源加热系统,其特征在于,包括真空的加热容器(10)、绕所述加热容器(10)外周面设置的第一加热源(20)以及设于所述加热容器(10)内的均热层(30),所述均热层(30)与所述加热容器(10)内壁相对设置,以均匀传导所述加热容器(10)内壁发出的热量。
2.根据权利要求1所述的蒸发源加热系统,其特征在于,还包括第二加热源(60),所述第二加热源(60)用于对所述均热层(30)加热。
3.根据权利要求2所述的蒸发源加热系统,其特征在于,所述均热层(30)为筒体。
4.根据权利要求3所述的蒸发源加热系统,其特征在于,所述均热层(30)与所述加热容器(10)内壁贴合。
5.根据权利要求2所述的蒸发源加热系统,其特征在于,所述均热层(30)包括自中心径向延伸的多片均热翅(300),多片所述均热翅(300)在所述均热层(30)的周向上间隔布置。
6.根据权利要求2所述的蒸发源加热系统,其特征在于,所述第一加热源(20)为螺旋形的电阻式加热线圈,在所述加热容器(10)的高度方向上环绕在所述加热容器(10)的外围。
7.根据权利要求2所述的蒸发源加热系统,其特征在于,还包括保温盖(40)和反射板(50),所述反射板(50)为筒体,间隔地环绕在所述第一加热源(20)的外围;所述保温盖(40)盖设于所述反射板(50)顶部。
8.根据权利要求2-7任一所述的蒸发源加热系统,其特征在于,所述第二加热源(60)包括环绕地设于所述第一加热源(20)外侧的感应线圈,通过对所述第二加热源(60)通入交变电流使所述均热层(30)发热。
9.根据权利要求8所述的蒸发源加热系统,其特征在于,所述第二加热源(60)与所述第一加热源(20)之间还设有隔热层(70)。
10.根据权利要求8所述的蒸发源加热系统,其特征在于,还包括用于检测所述加热容器(10)内的材料蒸镀速率的采集单元,所述第一加热源(20)的加热功率根据所述采集单元检测的蒸镀速率调整。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710495891.6A CN107190237A (zh) | 2017-06-26 | 2017-06-26 | 蒸发源加热系统 |
PCT/CN2017/092255 WO2019000484A1 (zh) | 2017-06-26 | 2017-07-07 | 蒸发源加热系统 |
US15/738,981 US10954592B2 (en) | 2017-06-26 | 2017-07-07 | Evaporation source heating system with soaking layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710495891.6A CN107190237A (zh) | 2017-06-26 | 2017-06-26 | 蒸发源加热系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107190237A true CN107190237A (zh) | 2017-09-22 |
Family
ID=59881554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710495891.6A Pending CN107190237A (zh) | 2017-06-26 | 2017-06-26 | 蒸发源加热系统 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10954592B2 (zh) |
CN (1) | CN107190237A (zh) |
WO (1) | WO2019000484A1 (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108130513A (zh) * | 2017-12-14 | 2018-06-08 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
CN111962027A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-11-20 | 云谷(固安)科技有限公司 | 一种蒸镀喷嘴及蒸镀点源装置 |
CN112575295A (zh) * | 2019-09-27 | 2021-03-30 | 佳能特机株式会社 | 蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1421542A (zh) * | 2001-11-29 | 2003-06-04 | 电子科技大学 | 有机材料蒸发源 |
JP2007262478A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Fujifilm Corp | 加熱蒸発装置および多元蒸着方法 |
CN102268642A (zh) * | 2011-07-22 | 2011-12-07 | 上海奕瑞光电子科技有限公司 | 电阻加热式蒸发源 |
CN205473956U (zh) * | 2016-01-04 | 2016-08-17 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种用于oled的蒸镀坩埚 |
CN106835029A (zh) * | 2016-12-28 | 2017-06-13 | 武汉华星光电技术有限公司 | 高频感应蒸发源装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1975436A (en) * | 1929-11-08 | 1934-10-02 | Ugine Infra | Method of heating by induction and furnace therefor |
JPS6451619A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Dainippon Screen Mfg | Heat treatment equipment for substrate |
JP2000012218A (ja) * | 1998-06-23 | 2000-01-14 | Tdk Corp | 有機el素子の製造装置および製造方法 |
US20010005553A1 (en) * | 1999-11-10 | 2001-06-28 | Witzman Matthew R. | Linear aperture deposition apparatus and coating process |
FR2956411B1 (fr) * | 2010-02-16 | 2012-04-06 | Astron Fiamm Safety | Systeme de chauffage d'une source de depot en phase vapeur |
CN103757591B (zh) * | 2013-12-31 | 2016-03-30 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种坩埚设备及其在液晶面板生产中的应用 |
CN103849837B (zh) * | 2014-03-24 | 2016-02-10 | 四川虹视显示技术有限公司 | 一种蒸发源装置 |
CN105132865B (zh) * | 2015-08-20 | 2017-12-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸发源装置及蒸镀设备 |
CN105603365B (zh) * | 2016-01-29 | 2018-07-10 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 真空蒸镀加热装置 |
CN106222614A (zh) * | 2016-09-21 | 2016-12-14 | 铜陵市铜创电子科技有限公司 | 一种真空镀膜机的蒸镀坩埚 |
-
2017
- 2017-06-26 CN CN201710495891.6A patent/CN107190237A/zh active Pending
- 2017-07-07 WO PCT/CN2017/092255 patent/WO2019000484A1/zh active Application Filing
- 2017-07-07 US US15/738,981 patent/US10954592B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1421542A (zh) * | 2001-11-29 | 2003-06-04 | 电子科技大学 | 有机材料蒸发源 |
JP2007262478A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Fujifilm Corp | 加熱蒸発装置および多元蒸着方法 |
CN102268642A (zh) * | 2011-07-22 | 2011-12-07 | 上海奕瑞光电子科技有限公司 | 电阻加热式蒸发源 |
CN205473956U (zh) * | 2016-01-04 | 2016-08-17 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种用于oled的蒸镀坩埚 |
CN106835029A (zh) * | 2016-12-28 | 2017-06-13 | 武汉华星光电技术有限公司 | 高频感应蒸发源装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108130513A (zh) * | 2017-12-14 | 2018-06-08 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
CN112575295A (zh) * | 2019-09-27 | 2021-03-30 | 佳能特机株式会社 | 蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法 |
CN112575295B (zh) * | 2019-09-27 | 2023-04-07 | 佳能特机株式会社 | 蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法 |
CN111962027A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-11-20 | 云谷(固安)科技有限公司 | 一种蒸镀喷嘴及蒸镀点源装置 |
CN111962027B (zh) * | 2020-07-31 | 2022-09-06 | 云谷(固安)科技有限公司 | 一种蒸镀喷嘴及蒸镀点源装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180371606A1 (en) | 2018-12-27 |
US10954592B2 (en) | 2021-03-23 |
WO2019000484A1 (zh) | 2019-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107190237A (zh) | 蒸发源加热系统 | |
CN204825031U (zh) | 一种高温蒸发源 | |
CN202274720U (zh) | 微波真空干燥设备 | |
WO2015100984A1 (zh) | 一种镀膜机坩埚设备 | |
CN105714245B (zh) | 反应腔室 | |
CN108129011A (zh) | 一种大尺寸光学玻璃用精密退火炉 | |
CN109402340A (zh) | 卧式真空气氛保护退火炉 | |
CN204445453U (zh) | 煲盖及电饭煲 | |
CN200969687Y (zh) | 带温度控制开关装置的电磁炉专用烹饪容器 | |
CN207704965U (zh) | 真空管式微波加热被碳炉 | |
CN103968664B (zh) | 用于太阳能电池的感应烧结炉 | |
CN208968280U (zh) | 一种电磁辐射式模具加热炉 | |
CN202232911U (zh) | 一种带加热的熟化器 | |
CN205425063U (zh) | 烹饪器具和加热盘 | |
CN203423819U (zh) | 高频感应式预热炉 | |
CN206018735U (zh) | 一种炉具 | |
CN108955256A (zh) | 一种电磁辐射式模具加热炉 | |
CN206524995U (zh) | 一种温控电磁水煮炉 | |
CN205808113U (zh) | 一种耐高温砖的热处理装置 | |
CN204483879U (zh) | 盖板、煲盖及电饭煲 | |
CN207831906U (zh) | 一种真空烧结炉上的加热体装置 | |
CN206064780U (zh) | 一种用于开关面板预热的红外加热设备 | |
CN108172354A (zh) | 真空管式微波加热被碳炉 | |
CN202792885U (zh) | 带辅助机构的全自动隧道式微波化纤纸管干燥设备 | |
CN211108963U (zh) | 一种微波烧结试验用保温桶 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20171102 Address after: 518132 No. 9-2 Ming Avenue, Gongming street, Guangming District, Guangdong, Shenzhen Applicant after: Shenzhen Huaxing photoelectric semiconductor display technology Co., Ltd. Address before: 518132 9-2, Guangming Road, Guangming New District, Guangdong, Shenzhen Applicant before: Shenzhen Huaxing Optoelectronic Technology Co., Ltd. |
|
TA01 | Transfer of patent application right | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20170922 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |