CN107168002A - 柔性薄膜幕、制备方法、投影方法以及投影仪 - Google Patents

柔性薄膜幕、制备方法、投影方法以及投影仪 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种柔性薄膜幕、制备方法、投影方法以及投影仪，通过设置底层石墨烯薄膜、形成于底层石墨烯薄膜上的纳米薄膜、以及形成于纳米薄膜表面的顶层石墨烯薄膜，当光线进入顶层石墨烯薄膜后，继续入射到纳米薄膜上，经纳米薄膜反射回穿透出顶层石墨烯薄膜，从而可以作为呈现投影图案的屏幕；或者继续入射到底层石墨烯薄膜而穿透底层石墨烯薄膜，可以应用于投影仪中，作为光源的增透放大器，并且使光源的光线辐射出或平行射出，可以针对不同的应用采用不同材料的纳米薄膜。此外本发明的柔性薄膜幕还具有超薄、超轻和便携性的优势。

Description

柔性薄膜幕、制备方法、投影方法以及投影仪
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，具体涉及一种用于接收投影的柔性薄膜幕及其制备方法，采用该薄膜幕呈现投影的方法以及一种投影仪。
背景技术
传统投影用的幕布大部分都采用布料，随着科技的发展，逐渐采用电子白板、LED投影屏等新屏幕，然而，这些屏幕虽然可以满足大投影面积的需求，但是，由于体积较大、质量较重，运输、携带不方便。并且，随着小体积投影的出现，随时随地的投影理念已经逐渐深入人们的生活、工作和学习中，如果只有小体积投影设备，而在想要投影的时候还要到处寻找投影幕布、或者只有在固定的具有投影幕布的地方才能进行投影，反而严重限制了小体积投影设备的灵活便捷应用，给其使用带来限制。
发明内容
为了克服以上问题，本发明旨在提供一种轻质、体积小、可折叠的柔性薄膜幕。
为了达到上述目的，本发明提供了一种用于接收投影的柔性薄膜幕，包括：底层石墨烯薄膜、形成于底层石墨烯薄膜上的纳米薄膜、以及形成于纳米薄膜表面的顶层石墨烯薄膜。
优选地，所述纳米薄膜含有垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米结构阵列以及位于纳米结构阵列底部覆盖在所述底层石墨烯薄膜表面的底部纳米薄膜。
优选地，所述底部纳米薄膜和纳米结构阵列是一体形成的。
优选地，所述纳米结构阵列呈多个同心环形或回形阵列排布。
优选地，多个同心环形或回形中，相邻环形或回形的间距相同。
优选地，环形或回形阵列中的纳米结构分布密度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向递减。
优选地，每个环形或回形中的纳米结构的横向宽度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大。
优选地，每个环形或回形中的纳米结构的纵向高度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低。
优选地，所述纳米结构阵列为纳米花阵列或垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米线阵列。
优选地，所述纳米结构阵列之间还填充有增透材料或反射材料。
优选地，所述底层石墨烯薄膜为单层原子层石墨烯薄膜，所述顶层石墨烯薄膜为单层原子层石墨烯薄膜。
优选地，所述纳米薄膜的厚度为不大于1000nm。
优选地，所述纳米薄膜为白色纳米薄膜。
优选地，所述纳米薄膜的材料为纳米ZnO或TiO2。
优选地，在所述底层石墨烯薄膜表面还形成有一层反射层，在反射层表面形成所述纳米薄膜。
为了达到上述目的，本发明还提供了一种用于接收投影的柔性薄膜幕的制备方法，包括：
步骤01：提供一衬底，其中，衬底表面形成有一底层石墨烯薄膜；
步骤02：在底层石墨烯薄膜表面形成一层纳米薄膜；
步骤03：在纳米薄膜表面形成一顶层石墨烯薄膜。
优选地，所述步骤02中，具体包括：首先，在底层石墨烯薄膜上覆盖一层掩膜，并刻蚀掩膜，在掩膜中形成呈多个同心环形或回形阵列排布的图案，这些图案底部暴露出底层石墨烯薄膜；然后，在暴露的底层石墨烯薄膜表面形成种子层，从而形成呈多个同心环形或回形阵列排布的种子层图案；再以种子层为基，以掩膜为模板，生长出纳米结构阵列，这些纳米结构阵列呈多个同心环形或回形阵列排布；最后，去除掩膜。
优选地，在刻蚀掩膜时，在掩膜中刻蚀出每个环形或回形的横向宽度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大。
优选地，在刻蚀掩膜时，在掩膜中刻蚀出每个环形或回形的纵向高度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低。
优选地，所述掩膜的材料为光刻胶，采用光刻工艺来刻蚀掩膜。
优选地，所述步骤02中，采用水溶液法或化学气相沉积法，在底层石墨烯薄膜上生长出垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米结构阵列。
优选地，所述纳米结构阵列为纳米花阵列或垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米线阵列。
优选地，所述步骤02中，在形成所述纳米薄膜之前，还包括：在所述底层石墨烯薄膜表面形成一层反射层，然后在反射层表面形成所述纳米薄膜。
为了达到上述目的，本发明提供了一种采用上述的柔性薄膜幕呈现投影的方法，包括：
步骤001：打开一投影仪的镜头对准薄膜幕的顶层石墨烯薄膜；
步骤002：投影光线透射到顶层石墨烯薄膜上，然后入射到纳米薄膜上；
步骤003：经纳米薄膜反射，反射光线回穿过顶层石墨烯薄膜，从而在薄膜幕上形成投影仪所投出的影像。
优选地，所述步骤002具体包括：投影光线透射到顶层石墨烯薄膜上，然后入射到纳米结构阵列上和部分入射到底部纳米薄膜上；所述步骤003中，经纳米薄膜反射包括经纳米结构阵列和底部纳米薄膜反射。
优选地，在底层石墨烯薄膜表面还形成有反射层，纳米薄膜形成于反射层表面；所述步骤002具体包括：所述投影光线透射到顶层石墨烯薄膜上，然后入射到纳米薄膜上以及部分入射到反射层上；所述步骤003具体包括：经纳米薄膜和反射层反射，反射光线回穿过顶层石墨烯薄膜。
为了达到上述目的，本发明还提供了一种投影仪，具有光源，其特征在于，在光源向外投射光线的通路上，设置有上述的柔性薄膜幕；其中，光源的光线入射到顶层石墨烯薄膜上，然后继续入射到纳米薄膜上和部分入射到底层石墨烯薄膜上；再透过纳米薄膜以及底层石墨烯薄膜后辐射或平行投射出去。
优选地，光源的光线入射到纳米结构阵列上、部分入射到底部纳米薄膜上和部分入射到底层石墨烯薄膜上；经纳米薄膜反射包括经纳米结构阵列和底部纳米薄膜反射。
本发明的用于接收投影的柔性薄膜幕，通过设置底层石墨烯薄膜、形成于底层石墨烯薄膜上的纳米薄膜、以及形成于纳米薄膜表面的顶层石墨烯薄膜，当光线进入顶层石墨烯薄膜后，继续入射到纳米薄膜上，经纳米薄膜反射回穿透出顶层石墨烯薄膜，从而可以应用于呈现投影图案；或者继续入射到底层石墨烯薄膜而穿透底层石墨烯薄膜，可以应用于投影仪中，作为光源的增透放大器，并且使光源的光线辐射出或平行射出，也即是针对不同的应用采用不同材料的纳米薄膜；进一步的，纳米薄膜含有垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米结构阵列以及位于纳米结构阵列底部覆盖在所述底层石墨烯薄膜表面的底部纳米薄膜，可以增加透射效果或反射效果；进一步的，纳米结构阵列呈多个同心环形或回形阵列排布，优选地，每个环形或回形中的纳米结构的横向宽度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大，以及每个环形或回形的纵向高度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低，能够增加薄膜幕的反射效果和透过效果，并且避免出现投影幕所投射的图案或呈现的图案出现边缘区域模糊的问题。
附图说明
图1为本发明的一个较佳实施例的柔性薄膜幕的截面结构示意图
图2为本发明的一个较佳实施例的纳米花阵列的俯视结构示意图
图3为本发明的一个较佳实施例的纳米线阵列的俯视结构示意图
图4为本发明的一个较佳实施例的柔性薄膜幕的制备方法的流程示意图
图5为本发明的一个较佳实施例的柔性薄膜幕呈现投影的方法的原理示意图
图6为本发明的一个较佳实施例的具有柔性薄膜幕的投影仪的结构示意图
具体实施方式
为使本发明的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本发明的内容作进一步说明。当然本发明并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本发明的保护范围内。
本发明的用于接收投影的柔性薄膜幕包括：底层石墨烯薄膜、形成于底层石墨烯薄膜上的纳米薄膜、以及形成于纳米薄膜表面的顶层石墨烯薄膜。
较佳的，纳米薄膜的厚度在纳米级别，纳米薄膜中可以具有任何形式的纳米晶体结构，例如纳米线、纳米花，底层石墨烯薄膜和顶层石墨烯薄膜均具有良好的柔性也就是良好的可弯曲性。
以下结合附图1～6和具体实施例对本发明作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式、使用非精准的比例，且仅用以方便、清晰地达到辅助说明本实施例的目的。
请参阅图1，本实施的柔性薄膜幕包括底层石墨烯薄膜01、形成于底层石墨烯薄膜01上的纳米薄膜02、以及形成于纳米薄膜02表面的顶层石墨烯薄膜03；纳米薄膜02含有垂直于底层石墨烯薄膜01的纳米结构阵列021以及位于纳米结构阵列021底部覆盖在底层石墨烯薄膜01表面的底部纳米薄膜022；这里的底部纳米薄膜022和纳米结构阵列021可以是一体形成的，例如，同时生长形成底部纳米薄膜和纳米结构，这一点将在后续的制备方法中做详细描述。需要说明的是，如图1所示，由于纳米薄膜02的纳米结构阵列中纳米结构的高度和宽度不相同，使得顶层石墨烯薄膜03覆盖于纳米薄膜02上由于保型性会出现相应的弯曲，但是，由于纳米结构阵列的尺寸都是纳米级别的，从宏观上来看，顶层纳米薄膜还是平坦的，所以，这里的弯曲只是微观上来看。
本实施例中，纳米结构阵列可以为纳米花阵列也可以为纳米线阵列。具体的，请参阅图2，图2为本发明的一个较佳实施例的纳米花(nanoflower)阵列的俯视结构示意图。当用作投影的幕布用于呈现图案时，为了使光源发来的光线向各个方向散射，也就是提高漫反射，当用作光源的"凸透镜"为了使光源发来的光线在穿过纳米薄膜时形成辐射或平行光线，较佳的，纳米花(nanoflower)阵列可以设置呈多个同心环形阵列排布；多个同心环形中，相邻环形的间距可以相同，也可以不相同；此外，为了避免本实施例的柔性薄膜幕边缘呈现的图案模糊的问题，环形阵列中的纳米花(nanoflower)分布密度在纳米薄膜边缘区域的密度大于纳米薄膜中心区域的密度，较佳的，环形阵列中的纳米花(nanoflower)分布密度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向递减。为了更好的克服本实施例的柔性薄膜幕边缘呈现的图案模糊的问题，每个环形中的纳米花(nanoflower)的横向宽度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大，每个环形中的纳米花(nanoflower)的纵向高度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低，如图2所示。
此外，请参阅图3，图3为本发明的一个较佳实施例的纳米线(nanowire)阵列的俯视结构示意图；与上述纳米花阵列同理，当用作投影的幕布用于呈现图案时，为了使光源发来的光线向各个方向散射，也就是提高漫反射，当用作光源的"凸透镜"为了使光源发来的光线在穿过纳米薄膜时形成辐射或平行光线，较佳的，纳米线(nanowire)阵列可以设置呈多个同心回形阵列排布，多个同心环形中，相邻环形的间距相同；并且，进一步的为了避免本实施例的柔性薄膜幕边缘呈现的图案模糊的问题，环形阵列中的纳米线(nanowire)分布密度在纳米薄膜边缘区域的密度大于纳米薄膜中心区域的密度，较佳的，环形阵列中的纳米线(nanowire)分布密度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向递减。为了更好的克服本实施例的柔性薄膜幕边缘呈现的图案模糊的问题，每个环形中的纳米线(nanowire)的直径(横向宽度)从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大，每个环形中的纳米线(nanowire)的长度(纵向高度)从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低，如图3所示。
需要说明的是，图2和图3中只分别示出了纳米花(nanoflower)阵列和纳米线(nanowire)阵列呈环形阵列排布的情况，当然，纳米花(nanoflower)阵列和纳米线(nanowire)阵列还可以采用同心回形阵列排布，呈同心回形阵列排布时，只需将上述环形的纳米花(nanoflower)阵列和纳米线(nanowire)阵列替换为回形即可，其它的回形之间的间距、每个回形中的纳米花(nanoflower)或纳米线(nanowire)的横向长度和纵向长度的关系均可以与呈环形阵列时相同，可以参考上述描述，这里不再赘述。
同时，本实施例中，较佳的，底层石墨烯薄膜01为单层原子层石墨烯薄膜，顶层石墨烯薄膜03为单层原子层石墨烯薄膜，因为单层原子层石墨烯薄膜具有良好的光透过性、柔韧性和强度，首先，可以避免在需要光透过时阻碍光的透过，其次，良好的柔韧性可以使柔性薄膜幕任意弯曲，使用灵活，并且单原子层石墨烯薄膜的质量很轻，便于折叠和携带；再者，单原子层石墨烯薄膜的强度非常高，可以对纳米薄膜起到保护作用，避免在外界冲击或撞击使导致纳米薄膜的损坏。
此外，为了提高本实施例的薄膜幕的柔性和轻便性，较佳的，纳米薄膜02的厚度不大于1000nm，同时较薄的纳米薄膜02使得在应用于需要高透过率的场合时，可以避免纳米薄膜02过多的吸收光线而影响投影质量。
本实施例中，当薄膜幕用于接收投影光线呈现影像时，薄膜幕需要具有高的反射率和漫反射性，较佳的，纳米薄膜02为白色纳米薄膜，白色纳米薄膜可以提高光的反射率和散射率，特别是当纳米薄膜02中纳米结构021的粒径在150nm～350nm时，白色纳米薄膜的白色越白且散射性能越高；当纳米薄膜02用于接收光源将光线发散透射出去作为投影仪的类似凸透镜的作用时，纳米薄膜02最好为透明的纳米薄膜，当然如果选择略带白色纳米薄膜也可以，但是透射率有一定影响；较佳的，透明的纳米薄膜02的纳米结构021的粒径在2～100nm之间。
进一步的，选择纳米TiO2和纳米ZnO作为纳米薄膜02的材料，由于纳米TiO2和纳米ZnO不仅成本低廉，而且在上述粒径较小时，具有良好的透过率，当粒径较大时，具有良好的散射率，此外，纳米TiO2和纳米ZnO的生长形貌可控，可以通过控制其纳米结构021的形貌来调整并且得到所需性能柔性薄膜幕，因此，本实施例的柔性薄膜幕还具有可调控性。
当薄膜幕用于接收投影光线呈现影像时，由于需要高的反射率和散射率，由于单层原子层的石墨烯薄膜具有高透过率，在光线入射到纳米薄膜02时，可能会有一点点光穿过纳米薄膜02和底层石墨烯薄膜01，虽然可以忽略不计，但是，为了进一步提高薄膜幕的反射率和散射率，避免穿过纳米薄膜02的光线损失掉，还可以在底层石墨烯薄膜01表面形成一层反射层，在反射层表面再形成上述纳米薄膜。关于反射层的材料可以选择现有材料，为了实现柔性薄膜幕的轻质化和小体积，反射层的厚度设置为纳米级别。
此外，为了提高柔性薄膜幕的增透效果，还可以在纳米结构阵列之间填充增透材料。为了提高柔性薄膜幕的反射效果，还可以在纳米结构阵列之间填充反射材料。同时，这些填充在纳米结构阵列之间的材料还可以用于支撑纳米结构，特别是在纳米结构弯曲或折叠变形时，避免纳米结构由于受到较大的应力而发生断裂或破碎。
请参阅图4，本实施例中，用于接收投影的柔性薄膜幕的制备方法，包括：
步骤01：提供一衬底，其中，衬底表面形成有一底层石墨烯薄膜；
具体的，底层石墨烯薄膜的制备可以采用常规工艺例如采用卷带法制备，将底层石墨烯薄膜转移粘附固定至一衬底上，衬底最好采用有机衬底，例如，底层石墨烯薄膜可以通过范德华力或静电力吸附在衬底上，这样便于后续去除衬底。
步骤02：在底层石墨烯薄膜表面形成一层纳米薄膜；
具体的，首先，在底层石墨烯薄膜上覆盖一层掩膜，并刻蚀掩膜，在掩膜中形成呈多个同心环形或回形阵列排布的图案，这些图案底部暴露出底层石墨烯薄膜；然后，在暴露的石墨烯薄膜表面形成种子层，从而形成呈多个同心环形或回形阵列排布的种子层图案；再以种子层为基，以掩膜为模板，生长出纳米结构阵列，这些纳米结构阵列呈多个同心环形或回形阵列排布；最后，去除掩膜。在刻蚀掩膜时，在掩膜中刻蚀出每个环形或回形的横向宽度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大；同时还可以在刻蚀掩膜时，在掩膜中刻蚀出每个环形或回形的纵向高度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低。本实施例中，掩膜的材料为光刻胶，采用光刻工艺来刻蚀掩膜；此外，还可以采用水溶液法或化学气相沉积法，在底层石墨烯薄膜上生长出垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米结构阵列。需要说明的是，如果采用水溶液法生长纳米结构，种子层的制备可以采用将前驱体溶液滴涂在暴露的石墨烯薄膜表面，例如，纳米ZnO生长所采用的种子层的溶液为醋酸锌，纳米TiO2生长所采用的种子层的溶液为钛酸；此外，如果采用化学气相沉积法生长纳米结构，种子层可以采用真空蒸镀或磁控溅射的方法在暴露的石墨烯薄膜表面形成种子层，这里的种子层也包括起到催化作用的催化剂层，例如，纳米ZnO生长采用的催化剂层为纳米金，纳米TiO2生长所采用的催化剂层为Ti等。需要说明的是，在生长纳米结构时，也可以不需要种子层。
这里，简要描述纳米薄膜的生长过程：在形核初期，在底层石墨烯薄膜表面大量形核；然后，热力学促进占主要因素，形核后开始横向生长和纵向生长，生长初期，纳米结构横向生长较快，相邻长大的纳米结构侧壁互相融合，当动力学和热力学达到平衡条件时，纳米结构的纵向生长较横向生长较快，接着，动力学占主要因素，致使纳米结构长高，这样，之前随着生长不断融合的纳米结构底部形成连续的底部纳米薄膜，底部纳米薄膜之上根据掩膜中的阵列图案而生长出纳米结构阵列，这也就是上述所称的底部纳米薄膜和纳米结构阵列是一体形成的原理。
此外，在形成所述纳米薄膜之前，还包括：在底层石墨烯薄膜表面形成一层反射层，然后在反射层表面形成纳米薄膜。
步骤03：在纳米薄膜表面形成一顶层石墨烯薄膜。
具体的，顶层石墨烯薄膜的制备与底层石墨烯薄膜的制备方法相同，将制备好的顶层石墨烯薄膜转移粘附固定至纳米薄膜表面，顶层石墨烯薄膜可以通过范德华力或静电力吸附在纳米薄膜表面。
此外，为了提高柔性薄膜幕的增透效果，在纳米薄膜表面形成顶层石墨烯薄膜之前，还可以在纳米结构阵列之间填充增透材料。为了提高柔性薄膜幕的反射效果，还可以在纳米结构阵列之间填充反射材料。同时，这些填充在纳米结构阵列之间的材料还可以用于支撑纳米结构，特别是在纳米结构弯曲或折叠变形时，避免纳米结构由于受到较大的应力而发生断裂或破碎。
请参阅图5，图5为本发明的一个较佳实施例的柔性薄膜幕呈现投影的方法的原理示意图。本实施例中还提供了一种采用上述的柔性薄膜幕呈现投影的方法，包括：
步骤001：打开一投影仪的镜头04对准薄膜幕的顶层石墨烯薄膜03；
步骤002：投影光线透射到顶层石墨烯薄膜03上，然后入射到纳米薄膜02上；
具体的，投影光线透射到顶层石墨烯薄膜03上，然后入射到纳米结构阵列021上和部分入射到底部纳米薄膜022上。由于本实施例的上述底层石墨烯薄膜01表面还形成有反射层(未示出)，纳米薄膜02形成于反射层表面。因此，本步骤002中还具体包括：投影光线透射到顶层石墨烯薄膜03上，然后入射到纳米薄膜02上以及部分入射到反射层上。
步骤003：经纳米薄膜02反射，反射光线回穿过顶层石墨烯薄膜03，从而在薄膜幕上形成投影仪所投出的影像。
具体的，经纳米薄膜02反射包括经纳米结构阵列021和底部纳米薄膜022反射，由于本实施例的上述底层石墨烯薄膜01表面还形成有反射层，纳米薄膜02形成于反射层表面，因此本步骤003中还具体包括经纳米薄膜02和反射层反射，反射光线回穿过顶层石墨烯薄膜03。
请参阅图6，本实施例中还提供了一种投影仪，具有光源05，在光源05向外投射光线的通路上，设置有本实施例上述的柔性薄膜幕；其中，光源05的光线入射到顶层石墨烯薄膜03上，然后继续入射到纳米薄膜02上和部分入射到底层石墨烯薄膜01上；再透过纳米薄膜02以及底层石墨烯薄膜01后辐射或平行投射出去。由于本实施例的上述纳米薄膜02具有底部纳米薄膜022和纳米结构阵列021，具体的，光源05的光线入射到纳米结构阵列021上、部分入射到底部纳米薄膜022上，然后穿过纳米结构阵列021和底部纳米薄膜022入射到底层石墨烯薄膜01中，再穿过底层石墨烯薄膜01后辐射或平行投射出去。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然所述实施例仅为了便于说明而举例而已，并非用以限定本发明，本领域的技术人员在不脱离本发明精神和范围的前提下可作若干的更动与润饰，本发明所主张的保护范围应以权利要求书所述为准。

Claims (28)

1.一种用于接收投影的柔性薄膜幕，其特征在于，包括：底层石墨烯薄膜、形成于底层石墨烯薄膜上的纳米薄膜、以及形成于纳米薄膜表面的顶层石墨烯薄膜。
2.根据权利要求1所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述纳米薄膜含有垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米结构阵列以及位于纳米结构阵列底部覆盖在所述底层石墨烯薄膜表面的底部纳米薄膜。
3.根据权利要求2所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述底部纳米薄膜和纳米结构阵列是一体形成的。
4.根据权利要求2所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述纳米结构阵列呈多个同心环形或回形阵列排布。
5.根据权利要求4所述的柔性薄膜幕，其特征在于，多个同心环形或回形中，相邻环形或回形的间距相同。
6.根据权利要求4所述的柔性薄膜幕，其特征在于，环形或回形阵列中的纳米结构分布密度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向递减。
7.根据权利要求4所述的柔性薄膜幕，其特征在于，每个环形或回形中的纳米结构的横向宽度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大。
8.根据权利要求4所述的柔性薄膜幕，其特征在于，每个环形或回形中的纳米结构的纵向高度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低。
9.根据权利要求2所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述纳米结构阵列为纳米花阵列或垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米线阵列。
10.根据权利要求2所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述纳米结构阵列之间还填充有增透材料或反射材料。
11.根据权利要求1所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述底层石墨烯薄膜为单层原子层石墨烯薄膜，所述顶层石墨烯薄膜为单层原子层石墨烯薄膜。
12.根据权利要求1所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述纳米薄膜的厚度为不大于1000nm。
13.根据权利要求1～12所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述纳米薄膜为白色纳米薄膜。
14.根据权利要求13所述的柔性薄膜幕，其特征在于，所述纳米薄膜的材料为纳米ZnO或TiO2。
15.根据权利要求1所述的柔性薄膜幕，其特征在于，在所述底层石墨烯薄膜表面还形成有一层反射层，在反射层表面形成所述纳米薄膜。
16.一种用于接收投影的柔性薄膜幕的制备方法，其特征在于，包括：
步骤01：提供一衬底，其中，衬底表面形成有一底层石墨烯薄膜；
步骤02：在底层石墨烯薄膜表面形成一层纳米薄膜；
步骤03：在纳米薄膜表面形成一顶层石墨烯薄膜。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述步骤02中，具体包括：首先，在底层石墨烯薄膜上覆盖一层掩膜，并刻蚀掩膜，在掩膜中形成呈多个同心环形或回形阵列排布的图案，这些图案底部暴露出底层石墨烯薄膜；然后，在暴露的底层石墨烯薄膜表面形成种子层，从而形成呈多个同心环形或回形阵列排布的种子层图案；再以种子层为基，以掩膜为模板，生长出纳米结构阵列，这些纳米结构阵列呈多个同心环形或回形阵列排布；最后，去除掩膜。
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，在刻蚀掩膜时，在掩膜中刻蚀出每个环形或回形的横向宽度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐增大。
19.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，在刻蚀掩膜时，在掩膜中刻蚀出每个环形或回形的纵向高度从纳米薄膜边缘向纳米薄膜中心的方向逐渐降低。
20.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述掩膜的材料为光刻胶，采用光刻工艺来刻蚀掩膜。
21.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述步骤02中，采用水溶液法或化学气相沉积法，在底层石墨烯薄膜上生长出垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米结构阵列。
22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，所述纳米结构阵列为纳米花阵列或垂直于所述底层石墨烯薄膜的纳米线阵列。
23.根据权利要求16～22任意一项所述的方法，其特征在于，所述步骤02中，在形成所述纳米薄膜之前，还包括：在所述底层石墨烯薄膜表面形成一层反射层，然后在反射层表面形成所述纳米薄膜。
24.一种采用权利要求14所述的柔性薄膜幕呈现投影的方法，其特征在于，包括：
步骤001：打开一投影仪的镜头对准薄膜幕的顶层石墨烯薄膜；
步骤002：投影光线透射到顶层石墨烯薄膜上，然后入射到纳米薄膜上；
步骤003：经纳米薄膜反射，反射光线回穿过顶层石墨烯薄膜，从而在薄膜幕上形成投影仪所投出的影像。
25.根据权利要求24所述的方法，其特征在于，所述步骤002具体包括：投影光线透射到顶层石墨烯薄膜上，然后入射到纳米结构阵列上和部分入射到底部纳米薄膜上；所述步骤003中，经纳米薄膜反射包括经纳米结构阵列和底部纳米薄膜反射。
26.根据权利要求24所述的方法，其特征在于，在底层石墨烯薄膜表面还形成有反射层，纳米薄膜形成于反射层表面；所述步骤002具体包括：所述投影光线透射到顶层石墨烯薄膜上，然后入射到纳米薄膜上以及部分入射到反射层上；所述步骤003具体包括：经纳米薄膜和反射层反射，反射光线回穿过顶层石墨烯薄膜。
27.一种投影仪，具有光源，其特征在于，在光源向外投射光线的通路上，设置有权利要求14所述的柔性薄膜幕；其中，光源的光线入射到顶层石墨烯薄膜上，然后继续入射到纳米薄膜上和部分入射到底层石墨烯薄膜上；再透过纳米薄膜以及底层石墨烯薄膜后辐射或平行投射出去。
28.根据权利要求27所述的投影仪，其特征在于，光源的光线入射到纳米结构阵列上、部分入射到底部纳米薄膜上和部分入射到底层石墨烯薄膜上；经纳米薄膜反射包括经纳米结构阵列和底部纳米薄膜反射。
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