CN104217652B - 显示面板、彩色滤光基板及其制造方法、制造设备 - Google Patents

显示面板、彩色滤光基板及其制造方法、制造设备 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种显示面板、彩色滤光基板及其制造方法、制造设备，所述制造方法包括提供玻璃基板，所述玻璃基板包括可弯折区域；在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层；对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。通过上述方式，本发明能够减少显示时出现的阴影，可提高透光率。

Description

显示面板、彩色滤光基板及其制造方法、制造设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、彩色滤光基板及其制造方法、制造设备。
背景技术
为了吸引更多的消费者，获取更多的利润，各大显示屏厂商开始推出更新一代的显示技术，用于与其他品牌产品形成差异，于是曲面显示技术应运而生。
曲面显示屏在性能参数、色彩表现的方面来看，与传统的平面显示屏的差异不大，但是由于曲面显示屏为内向弯曲，使得其在观看感受上会有一定的差异。通过使屏幕向内弯曲，使得整个屏幕到达观看者的眼睛的距离都是相等的，可以消除屏幕边缘的视觉扭曲，并让眼睛更加轻松舒适，从而带来用户更细腻逼真的影像享受。
然而，如图1所示，正是由于曲面显示屏1为向内弯曲，使得曲面显示屏1容易在弯折(Bending)最严重的位置出现阴影，如图1的a、b位置。这是由于弯折位置的上下基板位错(shift)最严重。显示屏通常包括阵列基板和彩色滤光基板。其中阵列基板上设置有像素结构，如图2a所示，阵列基板上包括像素透光区21和像素之间的不透光区22，彩色滤光基板中位于像素之间的不透光区的垂直投影区域内设置有黑色矩阵(BM)23以减少漏光。而现有技术中，在彩色滤光基板上形成的黑色矩阵23的宽度通常都是相一致的，且为了使黑色矩阵达到较好的遮光效果，黑色矩阵的宽度要求较宽。因此，如图2b所示，当将显示屏向内弯折而引起阵列基板和彩色滤光基板发生位错时，由于黑色矩阵23的宽度较宽，导致弯折区的黑色矩阵23容易偏移出像素之间的不透光区的垂直投影区域，从而使得弯折区的黑色矩阵23部分位于彩色滤光基板上的对应像素透光区21的位置，导致该位置被黑色矩阵23遮挡而造成了在弯折区出现阴影，使得透光率下降。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种显示面板、彩色滤光基板及其制造方法、制造设备，能够减少显示时出现的阴影，提高显示面板的透光率。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光基板的制造方法，包括提供玻璃基板，所述玻璃基板包括可弯折区域；在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层；对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
其中，所述对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度的步骤包括：使用第一光罩对所述蚀刻材料层进行一次曝光，以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵；将第二光罩叠加在所述第一光罩上，使用叠加的所述第一光罩和第二光罩对所述蚀刻材料层进行二次曝光，以使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小，进而使得在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度。
其中，所述在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层的步骤包括：在所述玻璃基板的一表面形成待图案化的正光阻材料层，以形成所述蚀刻材料层；其中，所述第一光罩在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为遮光区，所述第一光罩的其他部分为透光区，所述第二光罩对应所述可弯折区域的部分为透光区，所述第二光罩的其他部分为遮光区。
其中，在对所述蚀刻材料层进行蚀刻的步骤之前，包括制作所述第二光罩的步骤；所述制作所述第二光罩的步骤包括：提供一不透光遮挡板和一曲面显示面板，所述曲面显示面板为使用与所述玻璃基板相同尺寸的彩色滤光基板制成；驱动所述曲面显示面板显示，并对所述曲面显示面板在显示时出现的阴影区域进行标记；将所述曲面显示面板铺展，根据所述曲面显示面板上标记的阴影区域，对所述不透光遮挡板进行镂空处理，以在所述不透光遮挡板上形成与所述阴影区域的形状和大小相同的镂空区域，进而得到所述第二光罩。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光基板，包括玻璃基板和黑色矩阵；所述玻璃基板包括可弯折区域，所述黑色矩阵位于所述玻璃基板上，且位于所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种显示面板，包括阵列基板和彩色滤光基板；所述阵列基板包括像素透光区和像素之间的不透光区；所述彩色滤光基板包括玻璃基板和黑色矩阵；所述玻璃基板包括可弯折区域，所述黑色矩阵位于所述玻璃基板上，且位于所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于所述像素之间的不透光区的垂直投影区域内。
为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种彩色滤光基板的制造设备，包括基板提供机构，用于提供玻璃基板，所述玻璃基板包括可弯折区域涂布机构，用于在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层；蚀刻机构，用于对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
其中，所述蚀刻机构包括第一光罩和第二光罩，所述第一光罩用于对所述蚀刻材料层进行一次曝光，以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵；所述第二光罩用于在所述一次曝光之后，叠加至所述第一光罩上，以使用叠加的所述第一光罩和第二光罩对所述蚀刻材料层进行二次曝光，以使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小，进而使得在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度。
其中，所述涂布机构用于在所述玻璃基板的一表面形成待图案化的正光阻材料层，以形成所述蚀刻材料层；所述第一光罩在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为遮光区，所述第一光罩的其他部分为透光区，所述第二光罩对应所述可弯折区域的部分为透光区，所述第二光罩的其他部分为遮光区。
其中，所述第二光罩为金属材料或合金材料制成。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明彩色滤光基板的制造方法中，使玻璃基板上的可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内，由此使得部分黑色矩阵的位置仍然是对应像素之间的不透光区，从而在可弯折区域发生弯折时该部分黑色矩阵也不会遮挡像素的透光区，由此可减少阴影的出现，能够在保证其他区域中的黑色矩阵的遮光效果的同时提高透光率。
附图说明
图1是现有技术中的一种曲面显示屏发生弯折时出现阴影的示意图；
图2a是现有技术的曲面显示屏没有发生弯折时黑色矩阵所在位置的示意图；
图2b是现有技术的曲面显示屏发生弯折时黑色矩阵所在位置的示意图；
图3是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式的流程图；
图4是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，对蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度的流程图；
图5是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，使用第一光罩对蚀刻材料层进行一次曝光的示意图；
图6是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，使用叠加的第一光罩和第二光罩对蚀刻材料层进行二次曝光的示意图；
图7a是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，在二次曝光后，可弯折区域没有发生弯折时可弯折区域中的黑色矩阵所在位置的示意图；
图7b是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，在二次曝光后，可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的黑色矩阵所在位置的示意图；
图8是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，制作第二光罩的流程图；
图9是本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，制作第二光罩的示意图；
图10是是本发明彩色滤光基板的制造方法另一实施方式中，制作第二光罩的流程图；
图11是本发明彩色滤光基板一实施方式的结构示意图；
图12是本发明显示面板一实施方式的结构示意图；
图13是本发明彩色滤光基板的制造设备一实施方式的结构示意图；
图14是本发明彩色滤光基板的制造设备一实施方式中，蚀刻机构的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。
参阅图3，本发明彩色滤光基板的制造方法一实施方式中，包括如下步骤：
步骤S301：提供玻璃基板，玻璃基板包括可弯折区域。
通过提供可弯折区域的玻璃基板，从而可使彩色滤光基板不仅适用于平面显示面板，同时也适用于曲面显示面板。
步骤S302：在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层。
该蚀刻材料层用于形成彩色滤光基板的黑色矩阵。
步骤S303：对蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
其中，可以采用曝光工艺对蚀刻材料层进行蚀刻，也可以采用网印工艺对蚀刻材料层进行蚀刻。曝光工艺的流程主要包括曝光-显影-烘干-蚀刻-脱模等步骤，网印工艺的主要流程主要包括开料-清洗板材-丝网印-蚀刻-脱模等步骤。此外，可以采用干式蚀刻法进行蚀刻，也可以采用湿式蚀刻法进行蚀刻。
黑色矩阵主要是用于间隔彩色滤光基板上的RGB三色阻材料，以供RGB制作的对位标志，并用于将像素透光区以外的背光源的光遮蔽，由此可提高色彩对比度，且可以减少漏光。此外，黑色矩阵的位置与像素之间的不透光区相对应，即黑色矩阵位于玻璃基板上像素之间的不透光区的垂直投影区域中。
本实施方式中，使形成在可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的宽度，以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的部分黑色矩阵仍然是位于像素之间不透光区的垂直投影区域内，由此在保证其他区域中的黑色矩阵的遮光效果的同时，能够使得可弯折区域中的部分黑色矩阵在可弯折区域发生弯折时不会偏移出像素之间不透光区的垂直投影区域内，使部分黑色矩阵仍然是位于像素之间不透光区的垂直投影区域中，因此可避免该部分黑色矩阵遮挡像素的透光区，能够减少阴影的出现，可提高透光率。
参阅图4-图6，在本发明彩色滤光基板的制造方法的实施方式中，采用二次曝光方式在玻璃基板上形成黑色矩阵。其中，本实施方式在玻璃基板53的一表面所形成的蚀刻材料层54为正光阻材料层，即蚀刻材料为正光阻材料。具体地，对蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度的具体步骤包括：
步骤S401：使用第一光罩对蚀刻材料层进行一次曝光，以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵。
如图5所示，图5是使用第一光罩对蚀刻材料层进行一次曝光的示意图。首先准备UV光源51和第一光罩52。第一光罩52在黑色矩阵541的垂直投影区域的部分为遮光区521，第一光罩52的其他部分为透光区522，即第一光罩52对应黑色矩阵541的区域不透光，第一光罩52除对应黑色矩阵541的区域之外的其他区域透光。在一实施方式中，第一光罩52的其他部分可以为镂空，以形成第一光罩52的透光区522。当然，第一光罩52的其他部分522也可以是透明的玻璃或塑胶层等。
将第一光罩52放置在玻璃基板53上，并使第一光罩52的遮光区521对应玻璃基板53上需要形成黑色矩阵541的位置放置，以使遮光区521遮挡该玻璃基板53上需要形成黑色矩阵541的位置，即遮挡该位置上的蚀刻材料层54。其中，玻璃基板53上需要形成黑色矩阵541的位置位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
放置第一光罩52后，开启UV光源51照射第一光罩52，此时UV光源51的光能量为E1。当UV光源51照射第一光罩52时，光线经第一光罩52的透光区522照射至蚀刻材料层54的感光部分542，即对应透光区522的部分，而蚀刻材料层54的其他部分则由于被遮光区521遮挡而没有被光线照射。在后续的处理过程中，当对曝光后的蚀刻材料层54进行显影处理时，蚀刻材料层54的感光部分542变为可溶解物而溶于显影液中，从而将感光部分542从玻璃基板53上除去，蚀刻材料层54中被遮光区521遮挡的部分则仍然留在玻璃基板53上，该被遮挡的部分即形成为玻璃基板53上的黑色矩阵541。
本实施方式中，使第一光罩52上的遮光区521具有预定宽度，从而在使用第一光罩52对蚀刻材料层54进行第一次曝光后，可在玻璃基板53上形成具有预定宽度的黑色矩阵541。该预定宽度可根据实际遮光需要进行设置，例如可以是本领域通常所使用的宽度，也可以根据显示需要设置为其他的宽度。
步骤S402：将第二光罩叠加在第一光罩上，使用叠加的第一光罩和第二光罩对蚀刻材料层进行二次曝光，以使在可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小，进而使得在可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度。
结合图6，图6是使用叠加的第一光罩和第二光罩对蚀刻材料层进行二次曝光的示意图。其中，第二光罩55对应玻璃基板53上的可弯折区域531的部分为透光区551，第二光罩55的其他部分为遮光区552，即第二光罩55对应可弯折区域531的区域透光，第二光罩55在除对应可弯折区域531的区域之外的其他区域不透光。优选地，第二光罩55对应可弯折区域的部分镂空，以形成透光区551，其第二光罩55的透光区551的形状和大小与可弯折区域531的形状和大小相同。
在使用第一光罩52完成第一次曝光之后，关闭UV光源51。将第二光罩55叠加在第一光罩52之上，其中，第二光罩55不小于玻璃基板53。使第二光罩55的透光区(即第二光罩55上的镂空区域)551对应玻璃基板53上的可弯折区域531放置，第二光罩55的遮光区552遮挡玻璃基板53上的其他区域。放置第二光罩55之后，重新开启UV光源51，此时UV光源51的光能量为E2。
当UV光源51照射叠加的第二光罩55和第一光罩52，光线经过第二光罩55的透光区551而照射在对应可弯折区域531的第一光罩52上，并经过第一光罩52的透光区522再次照射在可弯折区域531上的蚀刻材料层54，而玻璃基板53其他区域上的蚀刻材料层54则由于被第二光罩55的遮光区552遮挡而没有被光线再次照射。通过上述的二次曝光，可弯折区域531中的蚀刻材料层54进行了两次曝光，其总的曝光能量为E1+E2，而玻璃基板53的其他区域中的蚀刻材料层54则由于被第二光罩55的遮光区552遮挡，因此在二次曝光中并没有被光照射，因此仅是进行了一次曝光。
由于蚀刻材料层54曝光的时间越长和曝光能量越多其被蚀刻掉的部分也越多，因此可使得可弯折区域531中的黑色矩阵541的宽度减小，而玻璃基板53的其他区域中的黑色矩阵541则保持原来第一次曝光之后的宽度不变。此外，第二次曝光能量E2越强，蚀刻材料层54被蚀刻掉的部分也越多，所得到的黑色矩阵541的宽度也就越小。因此通过控制第二次曝光能量E2的强度，可以控制可弯折区域531中的黑色矩阵541的宽度大小。因此，通过调整曝光能量E2，可使得在可弯折区域531发生弯折时在可弯折区域531中的黑色矩阵541的宽度小于会偏移出像素之间不透光区的垂直投影区域的黑色矩阵的临界宽度。如图7a和7b所示，其中，图7a为二次曝光后，可弯折区域531没有发生弯折时可弯折区域531中的黑色矩阵541所在位置的示意图，此时可弯折区域531中的黑色矩阵541位于像素之间不透光区71的垂直投影区域内，图7b为二次曝光后，可弯折区域发生弯折时可弯折区域531中的黑色矩阵541所在位置的示意图，如图7b所示，因此本实施方式可以使得在可弯折区域531发生弯折时在可弯折区域531中的黑色矩阵541仍然位于像素之间不透光区71的垂直投影区域内，而不会偏移至像素透光区72中而对像素透光区72造成遮挡，因此可以减少阴影的出现，提高透光率。此外，玻璃基板53的其他区域中的黑色矩阵541的宽度保持第一次曝光的宽度不变，由此能够保证其他区域的黑色矩阵的遮光效果，即使得其他区域的黑色矩阵541的宽度仍为正常宽度。
本实施方式中，蚀刻材料层为正光阻材料层，通过使用二次曝光的方式对正光阻材料层进行蚀刻，以有针对性地使得可弯折区域中的黑色矩阵的宽度减小，由此可以使得在可弯折区域发生弯折时使像素的透光区不会被位错的黑色矩阵所遮挡，能够减少阴影的出现，提高透光率。并且，对于其他区域的黑色矩阵，其宽度仍然保持正常宽度，即仍然是第一次曝光后宽度，由此可以保证其他区域的黑色矩阵的遮光效果。并且，通过上述二次曝光的方式，可以控制玻璃基板上任意形状区域的黑色矩阵的宽度，只需改变第二光罩的透光区的形状，即可控制与第二光罩的透光区对应的黑色矩阵的宽度。
此外，本实施方式中，第二光罩采用不透光遮挡板制作。具体地，在对蚀刻材料层进行蚀刻之前，还包括制作第二光罩的步骤。参阅图8，制作第二光罩的步骤包括：
步骤S801：提供一不透光遮挡板和一曲面显示面板，曲面显示面板为使用与玻璃基板相同尺寸的彩色滤光基板制成。
其中，不透光遮挡板的面积不小于曲面显示面板的面积。曲面显示面板为现有中的曲面显示面板，利用现有的曲面显示面板来制作第二光罩，该曲面显示面板为使用与玻璃基板相同尺寸的彩色滤光基板制成，从而本实施方式的玻璃基板的可弯折区域在发生弯折时的形状和大小与曲面显示面板上的弯折区域大致相同。
此外，不透光遮挡板可以是不透光的硬质材料，例如钢板或铜板等金属材料，当然也可以是合金材料，还可以是塑料、陶瓷等非金属材料制成。
步骤S802：驱动曲面显示面板显示，并对曲面显示面板在显示时出现的阴影区域进行标记。
结合图9，图9是制作第二光罩的示意图，步骤S901为驱动曲面显示面板91显示，此时曲面显示面板91的弯折区由于黑色矩阵的移位而出现阴影，如图中椭圆阴影部分。步骤S902为将曲面显示面板91上的阴影区域进行标记，如图中的虚线标记。
步骤S803：将曲面显示面板铺展，根据曲面显示面板上标记的阴影区域，对不透光遮挡板进行镂空处理，以在不透光遮挡板上形成与阴影区域的形状和大小相同的镂空区域，进而得到第二光罩。
步骤S903为将曲面显示面板91铺展。步骤S904为对不透光遮挡板92进行镂空处理。通过使曲面显示面板91显示，由此可以确定曲面显示面板91在显示时出现的阴影区域，将曲面显示面板91平展开后，可以根据所做的标记(如图9所示的步骤S903所示的虚线标记)确定阴影区域的实际大小和形状，由此根据所标记的阴影区域在不透光遮挡板92上挖出与阴影区域的形状和大小相同的镂空区域，如图9所示的步骤S904中的椭圆空白区域，该镂空区域即为不透光遮挡板92的透光区，由此进行镂空处理后的不透光遮挡板即为所需的第二光罩55。
上述制作第二光罩中，由于为使用与玻璃基板相同尺寸的彩色滤光基板制成，因此可以认为本实施方式的玻璃基板的可弯折区域的形状和大小与铺展后的曲面显示面板91上所做的阴影区域的形状和大小是大致相同的，因此利用现有的曲面显示面板91在显示时出现的阴影大小和形状来确定不透光遮挡板92上的透光区的形状和大小，以使得不透光遮挡板92上的透光区和玻璃基板上的可弯折区域的形状和大小大致相同，由此在使用该不透光遮挡板92进行二次曝光时，可以实现对玻璃基板上的可弯折区域上的蚀刻材料层进行二次曝光。
在本发明的备选实施方式中，还可以根据玻璃基板上的可弯折区域制作第二光罩。具体地，参阅图10，制作第二光罩的步骤包括如下步骤：
步骤S101：确定玻璃基板上的可弯折区域。当玻璃基板是应用于曲面显示面板时，通常会在玻璃基板上确定出需要弯折的区域。
步骤S102：根据玻璃基板上所确定的可弯折区域，对不透光遮挡板进行镂空处理，以在不透光遮挡板上形成与可弯折区域的形状和大小相同的镂空区域，进而得到第二光罩。
不透光遮挡板的镂空区域即为第二光罩的透光区，由此可使得第二光罩的透光区与可弯折区域的形状和大小相同，由此当利用第二光罩进行二次曝光时，只需使第二光罩的透光区对应可弯折区域放置，即可实现对可弯折区域中的黑色矩阵进行二次曝光，由此可以控制可弯折区域中的黑色矩阵的宽度，以使得在可弯折区域发生弯折时避免可弯折区域中的黑色矩阵偏移出像素之间不透光区的垂直投影区域，由此可使得像素的透光区不被黑色矩阵所遮挡，能够减少阴影的出现，提高透光率。
在本发明的备选实施方式中，还可以仅是使用一次曝光方式来实现可弯折区域中的黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，即仅使用一个光罩对蚀刻材料层进行一次曝光。例如可对第一光罩进行改进，使第一光罩的对应可弯折区域的部分的遮光区的宽度小于其他部分的遮光区的宽度，从而当使用该光罩对蚀刻材料层进行曝光时，可使得可弯折区域中的黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，并且通过控制该光罩的对应可弯折区域的部分的遮光区的宽度，以控制可弯折区域中的黑色矩阵的宽度，由此可以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
另外，在备选实施方式中，蚀刻材料层还可以是负光阻材料层，此时第一光罩在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为透光区，在其他部分则为遮光区，第二光罩对应可弯折区域的部分为遮光区，第二光罩的其他部分则为透光区。
参阅图11，本发明还提供彩色滤光基板的一实施方式，彩色滤光基板包括玻璃基板111和黑色矩阵112，黑色矩阵112位于玻璃基板111上。玻璃基板111包括可弯折区域1111。
其中，位于可弯折区域1111中的部分黑色矩阵112的宽度小于其他区域的黑色矩阵112的宽度，以使得在可弯折区域1111发生弯折时可弯折区域1111中的部分黑色矩阵112位于像素之间不透光的垂直投影区域内，由此在保证其他区域中的黑色矩阵112的遮光效果的同时，能够使得可弯折区域1111中的部分黑色矩阵112在可弯折区域1111发生弯折时不会偏移出像素之间不透光区的垂直投影区域内，该部分黑色矩阵112仍然是位于像素之间不透光区的垂直投影区域中，因此可避免该部分黑色矩阵112遮挡像素的透光区，能够减少阴影的出现，可提高透光率。
其中，彩色滤光基板可使用上述任一实施方式的彩色滤光基板的制造方法制得。
参阅图12，本发明显示面板的一实施方式中，包括阵列基板121和彩色滤光基板122。阵列基板121包括像素透光区1211和像素之间的不透光区1212。像素透光区1211即为像素电极所在的区域，像素之间的不透光区1212即为两个像素电极之间的不透光区。
彩色滤光基板122包括玻璃基板1221和黑色矩阵1222。黑色矩阵1222位于玻璃基板1221上，且黑色矩阵1222位于玻璃基板1221中对应像素之间的不透光区1212的位置，即位于像素之间不透光区1212的垂直投影区域内。
其中，位于可弯折区域12211中的部分黑色矩阵1222的宽度小于其他区域的黑色矩阵1222的宽度，以使得在可弯折区域12211发生弯折时可弯折区域12211中的部分黑色矩阵1222位于像素之间不透光的垂直投影区域内，由此在保证其他区域中的黑色矩阵1222的遮光效果的同时，能够使得可弯折区域12211中的部分黑色矩阵1222在可弯折区域12211发生弯折时不会偏移出像素之间不透光区1212的垂直投影区域内，使得部分黑色矩阵1222仍然是位于像素之间不透光区1212的垂直投影区域中，因此可避免该部分黑色矩阵1222遮挡像素的透光区1211，能够减少阴影的出现，可提高透光率。
其中，彩色滤光基板122可使用上述任一实施方式的彩色滤光基板的制造方法制得。
参阅图13，本发明彩色滤光基板的制造设备一实施方式中，包括基板提供机构131、涂布机构132以及蚀刻机构133。其中，基板提供机构131用于提供一玻璃基板，该玻璃基板包括可弯折区域。涂布机构132用于在玻璃基板的一表面形成带图案化的蚀刻材料层。蚀刻机构133用于对玻璃基板上的蚀刻材料层进行蚀刻，以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。由此，在保证其他区域中的黑色矩阵的遮光效果的同时，能够使得可弯折区域中的部分黑色矩阵在可弯折区域发生弯折时不会偏移出像素之间不透光区的垂直投影区域内，使得部分黑色矩阵仍然是位于像素之间不透光区的垂直投影区域中，因此可避免该部分黑色矩阵遮挡像素的透光区，能够减少阴影的出现，可提高透光率。
参阅图14，在本发明制造设备的一优选实施方式中，蚀刻机构131包括第一光罩141和第二光罩142，其通过第一光罩141和第二光罩142对蚀刻材料层进行两次曝光以使得可弯折区域中的黑色矩阵的宽度小于其他区域中的黑色矩阵的宽度。
在本实施方式中，涂布机构132用于在玻璃基板的一表面形成待图案化的正光阻材料层，以形成蚀刻材料层。
其中，第一光罩141用于对蚀刻材料层进行一次曝光，以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵。第一光罩141在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为遮光区1411，其他部分为透光区1412。由此，当使用第一光罩141对蚀刻材料层进行曝光时，对应透光区1412的蚀刻材料层将被蚀刻掉，对应遮光区1411的蚀刻材料层将保留在玻璃基板，保留在玻璃基板上的蚀刻材料层即为黑色矩阵，由此可在玻璃基板上形成黑色矩阵。遮光区1411具有预定宽度，以形成具有预定宽度的黑色矩阵。其中，该预定宽度可以是本领域常规使用的宽度，也可以是根据显示需要设置的宽度，以使得黑色矩阵具有较好的遮光效果。
第二光罩142用于在对蚀刻材料层进行一次曝光后，叠加至第一光罩141上，以使用叠加的第一光罩141和第二光罩142对蚀刻材料层进行二次曝光，以使在可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小，进而使得可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。其中，第二光罩142对应可弯折区域的部分为透光区1421，其他部分为遮光区1422。由此，当使用叠加的第一光罩和第二光罩对蚀刻材料层进行曝光时，对应第二光罩142的透光区的可弯折区域中的蚀刻材料层将再次被光线照射。由于蚀刻材料层曝光的时间越长以及曝光能量越强则被蚀刻掉的部分越多，因此通过控制第二次曝光的曝光能量可以控制可弯折区域中的黑色矩阵的宽度，使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。而对于其他区域的黑色矩阵，由于在二次曝光过程中并没有被光线再次照射，因此保持在第一次曝光后的宽度，由此可保证其具有较好的遮光效果。
其中，第二光罩142可根据玻璃基板上的可弯折区域来制作，其可以使用金属材料或合金材料制成，例如可以是钢板或铜板。对钢板或铜板等不透光遮挡板进行镂空处理，以在不透光遮挡板上形成和可弯折区域的形状、大小相同的镂空区域，该镂空区域即为不透光遮挡板的透光区，由此可得到第二光罩。具体的制作过程可参考上述实施方式进行，对此不进行赘述。当然，第二光罩142还可以使用陶瓷、塑料等不透光的非金属材料制成。
其中，在本发明制造设备的备选实施方式中，还可以涂布机构还可以是用于在玻璃基板上形成负光阻材料层，以形成蚀刻材料层。此时，第一光罩在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为透光区，其他部分为遮光区。第二光罩对应可弯折区域的部分为遮光区，其他部分为透光区1422。此外，蚀刻机构也可以仅是包括一个光罩，即对蚀刻材料层进行一次曝光以使得可弯折区域中的黑色矩阵的宽度小于其他区域中的黑色矩阵的宽度，以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。例如，该光罩可以是对第一光罩进行改进，使第一光罩的对应可弯折区域的部分的遮光区的宽度小于其他部分的遮光区的宽度，从而当使用该光罩对蚀刻材料层进行曝光时，可使得可弯折区域中的黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，并且通过控制该光罩的对应可弯折区域的部分的遮光区的宽度，以控制可弯折区域中的黑色矩阵的宽度，由此可以使得在可弯折区域发生弯折时可弯折区域中的黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，包括：
提供玻璃基板，所述玻璃基板包括可弯折区域；
在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层；
对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度的步骤包括：
使用第一光罩对所述蚀刻材料层进行一次曝光，以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵；
将第二光罩叠加在所述第一光罩上，使用叠加的所述第一光罩和第二光罩对所述蚀刻材料层进行二次曝光，以使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小，进而使得在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，
所述在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层的步骤包括：
在所述玻璃基板的一表面形成待图案化的正光阻材料层，以形成所述蚀刻材料层；
其中，所述第一光罩在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为遮光区，所述第一光罩的其他部分为透光区，所述第二光罩对应所述可弯折区域的部分为透光区，所述第二光罩的其他部分为遮光区。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，
在对所述蚀刻材料层进行蚀刻的步骤之前，包括制作所述第二光罩的步骤；
所述制作所述第二光罩的步骤包括：
提供一不透光遮挡板和一曲面显示面板，所述曲面显示面板为使用与所述玻璃基板相同尺寸的彩色滤光基板制成；
驱动所述曲面显示面板显示，并对所述曲面显示面板在显示时出现的阴影区域进行标记；
将所述曲面显示面板铺展，根据所述曲面显示面板上标记的阴影区域，对所述不透光遮挡板进行镂空处理，以在所述不透光遮挡板上形成与所述阴影区域的形状和大小相同的镂空区域，进而得到所述第二光罩。
5.一种彩色滤光基板，其特征在于，包括玻璃基板和黑色矩阵；
所述玻璃基板包括可弯折区域，所述黑色矩阵位于所述玻璃基板上，且位于所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
6.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板和彩色滤光基板；
所述阵列基板包括像素透光区和像素之间的不透光区；所述彩色滤光基板包括玻璃基板和黑色矩阵；
所述玻璃基板包括可弯折区域，所述黑色矩阵位于所述玻璃基板上，且位于所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于所述像素之间的不透光区的垂直投影区域内。
7.一种彩色滤光基板的制造设备，其特征在于，包括：
基板提供机构，用于提供玻璃基板，所述玻璃基板包括可弯折区域
涂布机构，用于在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层；
蚀刻机构，用于对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵，并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度，以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。
8.根据权利要求7所述的制造设备，其特征在于，
所述蚀刻机构包括第一光罩和第二光罩，
所述第一光罩用于对所述蚀刻材料层进行一次曝光，以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵；
所述第二光罩用于在所述一次曝光之后，叠加至所述第一光罩上，以使用叠加的所述第一光罩和第二光罩对所述蚀刻材料层进行二次曝光，以使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小，进而使得在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度。
9.根据权利要求8所述的制造设备，其特征在于，
所述涂布机构用于在所述玻璃基板的一表面形成待图案化的正光阻材料层，以形成所述蚀刻材料层；
所述第一光罩在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为遮光区，所述第一光罩的其他部分为透光区，所述第二光罩对应所述可弯折区域的部分为透光区，所述第二光罩的其他部分为遮光区。
10.根据权利要求9所述的制造设备，其特征在于，
所述第二光罩为金属材料制成。
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