CN107151781A - 沉积装置及利用其的发光显示装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

提供了沉积装置和利用该沉积装置的发光显示装置的制造方法。作为示例，沉积装置包括：坩埚，配置成沿着第一方向延伸，并且其上部具有开口部以将沉积物质容纳在其内部空间中；加热部件，布置于坩埚的侧部并对坩埚进行加热；盖，覆盖坩埚的开口部；以及多个喷嘴，从盖朝着上方突出并且在盖上沿着第一方向布置，其中，多个喷嘴分别具有一对槽，一对槽从上端沿着侧壁以一定深度形成，并且一对槽布置成彼此相对。

Description

沉积装置及利用其的发光显示装置的制造方法

技术领域

本发明涉及沉积装置以及利用该沉积装置的发光显示装置的制造方法。

背景技术

在发光显示装置之中，有机发光显示装置作为自发光型显示器件，其不仅具有视角宽、对比度优秀的优点，而且还具有响应速度快的优点，因此作为下一代显示装置而备受瞩目。

有机发光显示装置包括在阳电极与阴电极之间由有机发光物质构成的发光层。随着阳极电压和阴极电压分别施加到这些电极，从阳电极注入的空穴(hole)经由空穴注入层和空穴传输层移动至发光层，而电子从阴电极经由电子注入层和电子传输层移动至发光层，从而使得电子与空穴在发光层中复合。通过这种复合生成激子(exiton)，并且随着该激子从激发态跃迁至基态而从发光层放射出光，从而显示图像。

有机发光显示装置包括像素限定膜，其中该像素限定膜具有开口部以暴露以像素为单位形成的阳电极，并且空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴电极形成在通过该像素限定膜的开口部暴露的阳电极上。其中，空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层可通过各种方法形成，其中一种方式为沉积方法。

发明内容

另外，用于执行沉积方法的沉积装置具有沉积源，该沉积源包括储存沉积物质的坩埚、加热坩埚的加热部件、包括多个喷嘴的喷嘴部以及收纳坩埚和加热部件的壳，其中上述多个喷嘴形成供在坩埚中被加热的沉积物质朝着衬底方向喷射的路径。此外，沉积装置还可具有角度限制板，该角度限制板设置在多个喷嘴的周围并且限制经由多个喷嘴朝着衬底方向喷射的沉积物质的沉积区域。

然而，由于角度限制板在沉积物质经由多个喷嘴朝着衬底方向喷射时作用为障碍物，因此经由多个喷嘴朝着衬底方向喷射的沉积物质可能无法被沉积在衬底上而是堆积在角度限制板上。由此，可能需要更大量的沉积物质以在衬底上形成薄膜，从而降低沉积物质的利用效率。

对此，本发明要解决的技术问题在于提供能够提高沉积工艺中的沉积物质的利用效率的沉积装置。

此外，本发明要解决的另一技术问题在于提供利用能够提高沉积工艺中的沉积物质的利用效率的沉积装置制造发光显示装置的方法。

本发明的问题不限于上文中提及的技术问题，并且本领域技术人员可通过下面的记载明确理解未提及的其它的技术问题。

用于解决上述技术问题的、根据本发明一实施方式的沉积装置包括：坩埚，配置成沿着第一方向延伸并且其上部具有开口部以将沉积物质容纳在其内部空间中；加热部件，布置在所述坩埚的侧部并且对所述坩埚进行加热；盖，覆盖所述坩埚的所述开口部；以及多个喷嘴，从所述盖朝着上方突出并且在所述盖上沿着所述第一方向布置，其中，所述多个喷嘴分别具有一对槽，所述一对槽从所述喷嘴的上端沿着侧壁以一定深度形成，并且所述一对槽布置成彼此相对。

布置于所述多个喷嘴中的所有的槽可位于沿着所述第一方向延伸的同一个延长线上。

所述槽可具有其宽度在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上逐渐变窄的形态。

所述槽的截面形状可以是倒梯形。

所述槽可具有其宽度在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上相同的形态。

所述槽的截面形状可以是四边形。

所述槽可具有其宽度在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上逐渐变宽的形态。

所述槽的截面形状可以是梯形。

所述槽可在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上具有彼此不同的图形的组合。

所述槽的截面形状可具有四边形和半圆形的组合或四边形和七边形的组合。

此外，所述沉积装置还可包括角度限制部件，所述角度限制部件包括第一角度限制部件和第二角度限制部件，所述第一角度限制部件和所述第二角度限制部件配置成在所述盖上沿着所述第一方向延伸，并且所述第一角度限制部件和所述第二角度限制部件在与所述第一方向垂直相交的第二方向上布置在所述多个喷嘴的两侧且彼此相对。

此外，所述沉积装置还可包括设置在所述坩埚内部的至少一个内板，并且所述内板可具有多个孔。

此外，所述沉积装置还可包括壳和反射件，所述壳容纳所述坩埚和所述加热部件，并且所述反射件以暴露所述多个喷嘴的方式布置在所述盖的上方并结合至所述壳。

用于解决上述另一技术问题的、利用根据本发明一实施方式的沉积装置制造发光显示装置的方法包括以下步骤：准备沉积装置；将衬底布置成与所述多个喷嘴相对；以及在与所述第一方向垂直相交的第二方向上移动所述坩埚或所述衬底期间，经由所述多个喷嘴将所述沉积物质喷射至所述衬底上以在所述衬底上形成薄膜，其中，所述沉积装置包括坩埚、加热部件、盖和多个喷嘴，其中，所述坩埚配置成沿着第一方向延伸并且具有开口部以将沉积物质容纳在其内部，所述加热部件布置成围绕所述坩埚的侧部并且对所述坩埚进行加热，所述盖覆盖所述坩埚的所述开口部，所述多个喷嘴从所述盖朝着上方突出并且在所述盖上沿着所述第一方向布置，以及其中，所述多个喷嘴分别具有一对槽，所述一对槽从所述喷嘴的上端沿着侧壁以一定深度形成，并且所述一对槽布置成彼此相对。

布置于所述多个喷嘴中的所有的槽可位于沿着所述第一方向延伸的同一个延长线上。

准备所述沉积装置的步骤可包括以下步骤：将角度限制部件设置在所述盖上，其中，所述角度限制部件配置成沿着所述第一方向延伸并且包括第一角度限制部件和第二角度限制部件，所述第一角度限制部件和所述第二角度限制部件在与所述第一方向垂直相交的第二方向上将所述多个喷嘴插置于其间而彼此面对。

所述薄膜可以是发光显示装置的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层中的至少任意一个。

其它实施方式的具体内容包括在详细的说明和附图中。

根据本发明的实施方式，至少具有如下效果。

根据本发明一实施方式的沉积装置能够提高沉积工艺中的沉积物质的利用效率。

根据本发明的效果并不限于上文中所例示的内容，并且更加多样的效果包括在本说明书中。

附图说明

图1是根据本发明一实施方式的沉积装置的立体图。

图2是沉积装置的分解立体图。

图3是图1的I-I'线的剖视图。

图4是图1的喷嘴的放大立体图。

图5是在‘A’方向上观察图4的喷嘴的图。

图6是由图4的喷嘴喷射的沉积物质在II-II'线上的剖视图。

图7是在图4的‘A’方向上观察不具有槽的现有喷嘴的图。

图8是由图7的现有喷嘴喷射的沉积物质中与图6对应的部分的剖视图。

图9至图12是示出喷嘴的多种实施方式的图。

图13至图14是用于说明利用根据本发明一实施方式的沉积装置的制造发光显示装置的方法的立体图和剖视图。

具体实施方式

参照下文中结合附图详细描述的实施方式，本发明的优点和特征以及实现所述优点和特征的方法将变得明确。但是，本发明不限定于下文中所公开的实施方式，而是可实现为彼此不同的多种形态。这些实施方式只是为了使本发明的公开完整并且为了将发明的范围完整地告知给本发明所属技术领域的技术人员而提供，并且本发明仅由权利要求书的范围来定义。

当元件(elements)或层被称为在其它元件或层“上(on)”时，该元件或层直接位于其它元件上、或者在中间插置有其它层或其它元件。在整篇说明书中，相同的附图标记指代相同的构成要素。

应明确，虽然第一、第二等用于叙述多种构成要素，但这些构成要素并不受这些措辞限制。这些措辞仅用于将一个构成要素与其它构成要素区分开。因此，应明确，在不背离本发明的技术思想的情况下，下文中提及的第一构成要素也可称为第二构成要素。

以下，将参照附图说明本发明的实施方式。

图1是根据本发明一实施方式的沉积装置的立体图，图2是沉积装置的分解立体图，并且图3是图1的I-I'线的剖视图。

参照图1至图3，根据本发明一实施方式的沉积装置1可包括沉积源100、角度限制部件200、沉积掩模300以及衬底支承部400。虽然未图示，但是沉积装置1的结构可布置在提供用于执行沉积工艺的空间的腔的内部。上述腔可提供真空环境。

沉积源100配置成加热沉积物质DM并使其蒸发。蒸发的沉积物质DM沉积在衬底S上从而形成薄膜。沉积源100可包括坩埚110、加热部件120、内板130、140、盖150、多个喷嘴160、反射件170以及壳180。衬底S可以是用于发光显示装置的衬底，但是不限于此。沉积物质DM可以是发光显示装置的空穴注入层物质、空穴传输层物质、发光层物质、电子传输层物质和电子注入层物质等，但是不限于此。

坩埚110配置成在其上部具有开口部110a以将沉积物质DM容纳在内部空间中，例如可形成为上部被开口的盒子形态。坩埚110的上侧内部可具有用于提供供内板130、140结合的空间的阶梯状部。此外，坩埚110的上侧端部可布置有用于提供与盖150结合的空间的翼部。在本实施方式中，例示了坩埚110配置成具有沿着第一方向X延伸的形态的线形坩埚。坩埚110可由具有优异的导热性的物质，例如，石墨(graphite)形成。这种坩埚110可通过利用由加热部件120提供的热来提高加热沉积物质DM的效率。

加热部件120可布置在坩埚110的侧部，并且可配置为沿着第一方向X延伸的多个加热板。加热部件120通过提供用于加热坩埚110的热，例如提供辐射热来加热坩埚110。这种加热部件120使容纳在坩埚110中的沉积物质DM蒸发，并使其沉积在待形成薄膜的衬底S上。

虽然在图2中例示了加热部件120配置为加热板，但是不限于这种结构。例如，加热部件120可以是如发热线圈的部件。此外，虽然在图2中示出了加热部件120布置于坩埚110的侧部的一部分处，但是加热部件120也可布置于坩埚110的整个侧部处。即，加热部件120不仅可以布置成在第一方向X上延伸，而且还可布置成在与第一方向X垂直相交的第二方向Y上延伸。此外，虽然在图2中加热部件120具有沿着与第一方向X垂直的第三方向Z划分的形态，但是加热部件120也可具有一体的形态。

内板130、140设置在坩埚110的上侧内部。内板130、140可区分为第一内板130和第二内板140。

第一内板130可在坩埚110的内部布置于沉积物质DM的上方，并且可包括多个贯通孔。第一内板130可通过增加坩埚110的内压来提高在坩埚110中被加热而蒸发的沉积物质DM沉积至衬底(图1的S)的沉积效率，并且可防止成块的沉积物质DM向坩埚110的上方向溅射。

第二内板140可在坩埚110的内部布置在第一内板130的上方，并且可包括多个贯通孔。第二内板140可通过使在坩埚110中被加热而蒸发的沉积物质DM释放的移动路径变得复杂，从而有效地防止沉积物质DM附着至盖150上或释放出成块的沉积物质DM。这里，第二内板140的贯通孔的大小可小于第一内板130的贯通孔的大小。这是为了使在坩埚110中被加热而蒸发的沉积物质DM通过第一内板130的贯通孔被一次性地大量喷射。

盖150结合至坩埚110的被打开的上部以覆盖坩埚110的开口部110a。盖150在与坩埚110的延伸方向(即，第一方向X)相同的方向上延伸，并且可具有板的形态。盖150可由与坩埚110的材料相同的材料形成，但是不限于此。另外，虽然在图2中示出了盖150配置成具有阶梯状部的板，但是不限于这种结构。例如，盖150也可配置成一个平坦的板。此外，虽然盖150示出为与坩埚110分离的形态，但是也可形成为一体。

多个喷嘴160朝着盖150的上方突出，并且在盖150上沿着第一方向X布置。多个喷嘴160可具有包括开口的管的形态，使得释放从坩埚110中蒸发的沉积物质DM。虽然在图2中示出了多个喷嘴160布置成其一部分具有相同的间隔并且另一部分具有不同的间隔，但是也可布置成其整体具有相同的间隔或其整体具有不同的间隔。此外，虽然在图2中示出了多个喷嘴160中位于第一方向X上的边缘部分处的一部分喷嘴具有通过沿着第一方向X连接的侧壁连接的形态，但是也可具有彼此分离的形态。

另外，多个喷嘴160分别具有从上端沿着侧壁形成为具有一定深度的一对槽161、162，并且一对槽161、162布置成彼此相对。此外，布置在多个喷嘴160上的所有的槽161、162位于沿着第一方向X延伸的同一个延长线上。

在这种情况下，由多个喷嘴160喷射的沉积物质DM行进至以多个喷嘴160为中心布置于第二方向Y上的角度限制部件200的情况可被减少，并且行进至衬底S中沿着第一方向X形成的沉积区域的情况可被增加。

因此，因为能够减少堆积到角度限制部件200上的沉积物质DM的量并且能够将沉积物质DM集中喷射至衬底S上的待沿着第一方向X形成的沉积区域中，因此能够提高将沉积物质DM沉积到衬底S上而形成薄膜时的沉积物质DM的利用效率。

与此同时，因为减少了经由如上所述的多个喷嘴160的沉积物质DM在第二方向Y上行进的情况，因此能够省略用于限制第二方向Y上的沉积区域的角度限制部件200，其中该角度限制部件200在第二方向上布置在将多个喷嘴160的两侧。

将在下文中详细地描述如上所述的多个喷嘴160的结构和效果。

反射件170以暴露多个喷嘴160的方式布置在盖150的上方，并且与壳180结合。反射件170可沿着坩埚110的延伸方向(即，第一方向X)延伸，并且可配置为使多个喷嘴160贯穿的板。反射件170可由隔热材料形成。这种反射件170能够防止加热部件120的热或坩埚110上方的热释放至外部。

壳180配置成可容纳坩埚110和加热部件120。例如，壳180可形成为上方被开口的盒子形态，并且与反射件170结合。这种壳180起到从外部保护容纳在内部的结构的作用。另外，壳180可由隔热材料形成，并且配置成防止内部的热向外部流出。例如，壳180的内部可安装有冷却管，冷却管提供供冷却水流动的路径。

角度限制部件200包括第一角度限制板210和第二角度限制板220，第一角度限制板210和第二角度限制板220配置成位于盖150上并且在第二方向Y上彼此相对且在第一方向X上延伸，其中，多个喷嘴160位于第一角度限制板210和第二角度限制板220之间。这种角度限制部件200限制经由多个喷嘴160朝着衬底S方向喷射的沉积物质DM的沉积区域。具体地，在将沉积物质DM沉积到衬底S上的工艺中沿着第二方向Y移动坩埚110或衬底S的情况下，角度限制部件200可相对于第二方向Y限制沉积物质DM的沉积区域。另外，虽然图2中示出了角度限制部件200包括第一角度限制板210和第二角度限制板220，但是角度限制部件200还可包括在第一方向X上布置在多个喷嘴160的两侧并且彼此相对的角度限制板。

沉积掩模300可布置在沉积源100与衬底S之间，并且可与衬底S紧贴。沉积掩模300可具有沉积开口，沉积开口与将从沉积源100蒸发的沉积物质DM沉积到衬底S上而形成的薄膜的图案相对应。这种沉积掩模300可使从沉积源100蒸发的沉积物质DM沉积到衬底S的期望位置处，从而在衬底S上形成具有期望图案的薄膜。虽然未图示，但是沉积掩模300上可结合有支承沉积掩模300的掩模框。

衬底支承部400起到在从沉积源100蒸发的沉积物质DM被沉积到衬底S上时将衬底S布置于沉积源100的上方的作用。衬底支承部400可以是静电卡盘，并且可以是能够移动的。

以下，将详细地说明关于多个喷嘴160的结构及效果。

图4是图1的喷嘴的放大立体图，图5是在‘A’方向上观察图4的喷嘴的图，图6是由图4的喷嘴喷射的沉积物质在II-II'线上剖视图，图7是在图4的‘A’方向上观察不具有槽的现有喷嘴的图，并且图8是由图7的现有喷嘴喷射的沉积物质中与图6对应的部分的剖视图。以下，将以多个喷嘴160中的一个喷嘴为例进行说明。

参照图4和图5，布置于喷嘴160上的一对槽161、162可具有在其宽度在从喷嘴160的上端至盖150的方向上逐渐变窄的形态。例如，布置于喷嘴160上的一对槽161、162的截面形状可以是倒梯形。在这种情况下，在坩埚110中被加热而蒸发的沉积物质DM能够通过喷嘴160朝着上方向顺畅地喷射，并且能够使喷嘴160的制造变得容易。此外，能够减少在坩埚110中被加热而蒸发的沉积物质DM堆积在一对槽161、162的上方而堵塞喷射沉积物质DM的通道的情况。

另外，参照图6，具有一对槽161、162的喷嘴160使经由喷嘴160喷射的沉积物质DM在第二方向Y上的中央区域C处的密度高于在边缘区域E处的密度，并且使经由喷嘴160喷射的沉积物质DM的截面在第二方向Y上的宽度小于在第一方向X上的宽度。由此可知，在通过具有一对槽161、162的喷嘴160将沉积物质DM沉积到衬底S上而形成薄膜时，由于沉积物质DM朝着布置在第二方向Y上的角度限制部件(图2的200)行进而堆积至角度限制部件200上的情况得到减少，并且沉积物质DM被集中喷射至衬底S上的待沿着第一方向X形成的沉积区域中。由此可知，在应用具有一对槽161、162的喷嘴160的情况下，沉积物质DM的利用效率得到提高。

相反地，参照图7和图8，现有的喷嘴16不具有槽，并且使经由喷嘴16喷射的沉积物质DM在第二方向Y上的中央区域C1处的密度高于在边缘区域E1处的密度，并且使经由喷嘴16喷射的沉积物质DM的截面在第二方向Y上的宽度与在第一方向X上的宽度相似。由此可知，在通过不具有槽的喷嘴16将沉积物质DM沉积到衬底S上而形成薄膜时，可能由于沉积物质DM朝着布置于第二方向Y上的角度限制部件(图2的200)行进而导致大量的沉积物质DM堆积在角度限制部件200上。由此可知，在应用不具有槽的现有的喷嘴16的情况下，沉积物质DM的利用效率低下。

如上所述，根据本发明一实施方式的沉积装置1包括具有一对槽161、162的多个喷嘴160，而一对槽161、162从上端沿着侧壁以一定深度形成并且彼此相对，因此能够减少沉积物质DM行进至以多个喷嘴160为中心布置在第二方向Y上的角度限制部件200的情况，并且能够增加沉积物质DM行进至衬底S中沿着第一方向X形成的沉积区域的情况。

因此，能够减少堆积至角度限制部件200上的沉积物质DM的量，并且沉积物质DM能够集中喷射至衬底S上的待沿着第一方向X形成的沉积区域中，因而能够提高在将沉积物质DM沉积到衬底S上而形成薄膜时的沉积物质DM的利用效率。

此外，根据本发明一实施方式的沉积装置1通过具有一对槽161、162的多个喷嘴160来减少沉积物质DM在第二方向Y上行进的情况，因此能够省略用于限制第二方向Y上的沉积区域的角度限制部件200，其中该角度限制部件200在第二方向Y上布置在多个喷嘴160的两侧。

因此，省去了关于角度限制部件200的制造费用，从而能够减少沉积装置1的制造成本。

图9至图12是示出喷嘴的多种实施方式的图。

在图9中，喷嘴160a的槽162a可具有其宽度在从喷嘴160a的上端至盖150的方向上相同的形态。例如，喷嘴160a的槽162a的截面形状可以是四边形。这种喷嘴160a可提供与图4的喷嘴160所提供的效果相同的效果。

在图10中，喷嘴160b的槽162b可具有其宽度在从喷嘴160b的上端至盖150的方向上逐渐变宽的形态。例如，喷嘴160b的槽162b的截面形状可以是梯形。这种喷嘴160b由于存在着在坩埚(图3的110)中被加热而蒸发的沉积物质(图3的DM)堆积在槽162b的上部处的可能性，因此能够应用于在沉积物质(图3的DM)的喷射量少的小型衬底上形成薄膜的情形中。

图11和图12例示了喷嘴160c、160d的槽162c、162d在从喷嘴160c、160d的上端至盖150的方向上具有彼此不同的图形的组合的情形。

例如，如图11中所示，喷嘴160c的槽162c的截面形状可在从喷嘴160c的上端至盖150的方向上具有四边形和半圆形的组合。这种喷嘴160c可提供与图4的喷嘴160所提供的效果相同的效果。

此外，如图12所示，喷嘴160d的槽162d的截面形状可在从喷嘴160d的上端至盖150的方向上具有四边形和七边形的组合。这种喷嘴160d可提供与图10的喷嘴160b所提供的效果相同的效果。

在下文中，将对利用根据本发明一实施方式的沉积装置制造发光显示装置的方法进行说明。

图13和图14是用于说明利用根据本发明一实施方式的沉积装置制造发光显示装置的方法的立体图和剖视图。

首先，参照图13，准备沉积装置1，其中该沉积装置1包括坩埚(图2的110)、加热部件(图2的120)、盖(图2的150)以及多个喷嘴160，其中，坩埚(图2的110)配置成沿着第一方向X延伸并且具有开口部(图2的110a)以在内部容纳沉积物质(图3的DM)，加热部件(图2的120)布置在坩埚(图2的110)的侧部并对坩埚(图2的110)进行加热，盖(图2的150)覆盖坩埚(图2的110)的开口部(图2的110a)，并且多个喷嘴160从盖(图2的150)朝着上方突出并在盖(图2的150)上沿着第一方向X布置。

这里，多个喷嘴160分别具有一对槽161、162，一对槽161、162从上端沿着侧壁以一定深度形成，并且一对槽161、162布置成彼此相对。此外，布置于多个喷嘴160中的所有的槽161、162位于沿着第一方向X延伸的同一个延长线上。

由于已在前文中详细地描述了沉积装置1的结构，因此省略重复的说明。

另外，准备沉积装置1的步骤还可包括将角度限制部件200设置在盖150上，其中，角度限制部件200配置成沿着第一方向X延伸并且在第二方向Y上彼此相对地设置在多个喷嘴160的两侧。由于已在前文中详细地描述了角度限制部件200，因此省略重复的说明。

接下来，将衬底S布置成与多个喷嘴160相对。这时，衬底S可由衬底支承部400支承。此外，可将沉积掩模300布置在多个喷嘴160与衬底S之间，其中沉积掩模300可与衬底S紧贴。由于已在前文中详细地描述了衬底支承部400和沉积掩模300，因此省略重复的说明。

接下来，在在第二方向Y上移动坩埚110或衬底S期间，经由多个喷嘴160将沉积物质(图3的DM)喷射至衬底S上以在衬底S上形成薄膜。

参照图14，上述薄膜可以是发光显示装置中布置于第一电极10与第二电极80之间的空穴注入层30、空穴传输层40、发光层50、电子传输层60和电子注入层70中的至少任意一个，其中第一电极10通过布置于衬底S上的像素限定膜20的像素开口部21暴露，并且第二电极80布置于第一电极10的上方。

衬底S可由透明的绝缘性物质形成。例如，衬底S可由玻璃、石英、陶瓷、塑料等形成。衬底S可以是平坦的板状。根据一些实施方式，衬底S也可由能够易于被外力弯曲的材料形成。衬底S可支承布置于衬底S上的其它结构。虽然未图示，但是衬底S可包括多个薄膜晶体管。多个薄膜晶体管中的至少一部分薄膜晶体管的漏电极可与第一电极10电连接。

第一电极10可以以各像素为单位布置在衬底S上。第一电极10可以是接收施加至薄膜晶体管的漏电极上的信号并向发光层50提供空穴的阳电极，或提供电子的阴电极。

第一电极10可用作透明电极、反射电极或半透半反射电极。当第一电极10用作透明电极时，第一电极10可由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或In₂O₃形成。当第一电极10用作反射电极时，第一电极10可在使用Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr及其化合物等形成反射膜之后在该反射膜上形成ITO、IZO、ZnO或In₂O₃而构成。当第一电极10用作半透半反射电极时，第一电极10可在使用Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr及其化合物等以薄的厚度形成反射膜之后在该反射膜上形成ITO、IZO、ZnO或In₂O₃而构成。第一电极10可利用图1的沉积装置通过沉积方法形成，但是不限于此。

像素限定膜20在衬底S上布置成具有暴露第一电极10的开口部21，并且在衬底S上划分各像素。像素限定膜20可由绝缘物质构成。例如，像素限定膜20可配置为包括选自苯并环丁烯(Benzocyclobutene；BCB)、聚酰亚胺(polyimide；PI)、聚酰胺(polyamide；PA)、丙烯酸树脂及酚树脂等的至少一种有机物质。此外，作为另一示例，像素限定膜20也可配置为包括如氮化硅等的无机物质。像素限定膜20可通过光刻工艺形成，但是不限于此。

空穴注入层30形成在通过像素限定膜20的开口部21暴露的第一电极10上，并且可形成为覆盖整个像素限定膜20。空穴注入层30作为降低第一电极10与空穴传输层40之间的能量势垒的缓冲层，其起到使由第一电极10提供的空穴容易地注入进空穴传输层40的作用。空穴注入层30可由例如4,4',4”-三(3-甲基苯基苯基氨基)三苯胺(MTDATA)、铜酞菁(CuPu)或聚(3,4-乙烯二氧噻吩)/聚苯乙烯磺酸酯(PEDOT/PSS)等的有机化合物构成，但是不限于此。

空穴传输层40形成在空穴注入层30上。空穴传输层40起到将经由空穴注入层30接收到的空穴传递至发光层50的作用。这种空穴传输层40可由例如N,N'-二苯基-N,N'-双[3-甲基苯基]-1,1'-联苯-4,4'-二胺(TPD)或N,N'-二(萘-1-基)-N,N'-二苯基-联苯胺(NPB)等的有机化合物构成，但是不限于此。

发光层50形成在空穴传输层40上。发光层50将由第一电极10提供的空穴与由第二电极80提供的电子重新结合而发射光。更详细地，当空穴和电子提供至发光层50时，空穴和电子结合而形成激子，并且随着该激子从激发态跃迁至基态而发射光。这种发光层50可包括发射红光的红色发光层、发射绿光的绿色发光层以及发射蓝光的蓝色发光层。

上述红色发光层可形成为包括一种红色发光物质，或包括主体和红色掺杂剂。上述红色发光层的主体例如可使用：三-(8-羟基喹啉)铝(Alq₃)、4,4'-N,N'-二咔唑-联苯(CBP)、聚(n-乙烯基咔唑)(PVK)、9,10-二(萘-2-基)蒽(ADN)、1,3,5-三(N-苯基苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)、3-叔丁基-9,10-二(萘-2-基)蒽(TBADN)、联苯乙烯基亚芳基(DSA)等，但是不限于此。此外，上述红色掺杂剂可使用PtOEP、Ir(piq)₃、Btp₂Ir(acac)等，但是不限于此。

上述绿色发光层可形成为包括一种绿色发光物质，或包括主体和绿色掺杂剂。上述绿色发光层的主体可使用上述红色发光层的主体。并且上述绿色掺杂剂可使用Ir(ppy)₃、Ir(ppy)₂(acac)、Ir(mpyp)₃等，但并不限于此。

上述蓝色发光层可形成为包括一种蓝色发光物质，或包括主体和蓝色掺杂剂。上述蓝色发光层的主体可使用上述红色发光层的主体。并且上述蓝色掺杂剂可使用F₂Irpic、(F₂ppy)₂Ir(tmd)、Ir(dfppz)₃、三芴、4,4,-双(4-二对甲苯基氨基苯乙烯基)联苯(DPAVBi)、2,5,8,11-四-叔丁基苝(TBPe)等，但并不限于此。

电子传输层60形成在发光层50上，并且起到将从第二电极80接收到的电子传递至发光层50的作用。这种电子传输层60可使用例如4,7-二苯基-1,10-邻二氮菲(Bphen)、铝(III)双(2-甲基-8-羟基喹啉)4-苯基苯酚酯(BAlq)、三-(8-羟基喹啉)铝(Alq₃)、(双(10-羟基苯并[h]羟基喹啉)铍(Bebq₂)、1,3,5-三(N-苯基苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)等的有机化合物材料，但是不限于此。

电子注入层70形成在电子传输层60上，并且作为降低电子传输层60与第二电极80之间的能量势垒的缓冲层，其起到使由第二电极80提供的电子容易地注入到电子传输层60中的作用。这种电子注入层70可由例如LiF或CsF等形成，但是不限于此。

第二电极80可布置在电子注入层70上。第二电极80可由与第一电极10相同的材料形成，但是不一定限于此。根据一些实施方式，第二电极80可以是布置于包括在发光显示装置中的多个像素上的公共电极。根据一些实施方式，第二电极80也可布置在电子注入层70的上方以及像素限定膜20的上方整体上。发光层50的发光可根据在第一电极10与第二电极80之间流经的电流来控制。

虽然在上文中参照附图对本发明实施方式进行了说明，但在本发明所属技术领域的技术人员可以理解，本发明可在不改变本发明的技术思想或必要特征的情况下实施为其它具体形态。因此，应理解，上文中所记载的实施方式在所有方面均为例示性的，而非限定性的。

附图标记的说明

1：沉积装置 100：沉积源

110：坩埚 120：加热部件

130、140：内板 150：盖

160、160a、160b、160c、160d：多个喷嘴

170：反射件 180：壳

200：角度限制部件 300：沉积掩模

400：衬底支承部

Claims (10)

1.沉积装置，包括：

坩埚，配置成沿着第一方向延伸，并且所述坩埚的上部具有开口部以将沉积物质容纳在所述坩埚的内部空间中；

加热部件，布置于所述坩埚的侧部，并且对所述坩埚进行加热；

盖，覆盖所述坩埚的所述开口部；以及

多个喷嘴，从所述盖朝着上方突出，并且在所述盖上沿着所述第一方向布置，

其中，所述多个喷嘴分别具有一对槽，所述一对槽从所述喷嘴的上端沿着侧壁以一定深度形成，并且所述一对槽布置成彼此相对。

2.如权利要求1所述的沉积装置，其中，

布置于所述多个喷嘴中的所有的槽位于沿着所述第一方向延伸的同一个延长线上。

3.如权利要求1所述的沉积装置，其中，

所述槽具有其宽度在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上逐渐变窄的形态。

4.如权利要求1所述的沉积装置，其中，

所述槽具有其宽度在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上相同的形态。

5.如权利要求1所述的沉积装置，其中，

所述槽具有其宽度在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上逐渐变宽的形态。

6.如权利要求1所述的沉积装置，其中，

所述槽在从所述喷嘴的上端朝着所述盖的方向上具有彼此不同的图形的组合。

7.如权利要求1所述的沉积装置，还包括：

角度限制部件，其中所述角度限制部件包括：

第一角度限制部件和第二角度限制部件，所述第一角度限制部件和所述第二角度限制部件配置成在所述盖上沿着所述第一方向延伸，并且在与所述第一方向垂直相交的第二方向上布置在所述多个喷嘴的两侧且彼此相对。

8.发光显示装置的制造方法，包括以下步骤：

准备沉积装置，其中，所述沉积装置包括：

坩埚，配置成沿着第一方向延伸，并且具有开口部以将沉积物质容纳在所述坩埚的内部；

加热部件，布置成围绕所述坩埚的侧部并且对所述坩埚进行加热；

盖，覆盖所述坩埚的所述开口部；以及

多个喷嘴，从所述盖朝着上方突出，并且在所述盖上沿着所述第一方向布置；

将衬底布置成与所述多个喷嘴相对；以及

在与所述第一方向垂直相交的第二方向上移动所述坩埚或所述衬底期间，经由所述多个喷嘴将所述沉积物质喷射至所述衬底上以在所述衬底上形成薄膜，

其中，所述多个喷嘴分别具有一对槽，所述一对槽从所述喷嘴的上端沿着侧壁以一定深度形成，并且所述一对槽布置成彼此相对。

9.如权利要求8所述的发光显示装置的制造方法，其中，

布置于所述多个喷嘴中的所有的槽位于沿着所述第一方向延伸的同一个延长线上。

10.如权利要求8所述的发光显示装置的制造方法，其中，所述准备所述沉积装置的步骤包括：

将角度限制部件设置在所述盖上，其中，所述角度限制部件包括：

第一角度限制部件和第二角度限制部件，所述第一角度限制部件和所述第二角度限制部件配置成在所述盖上沿着所述第一方向延伸，并且在与所述第一方向垂直相交的第二方向上布置在所述多个喷嘴的两侧且彼此相对。