CN107132686A - 阵列基板及其制备方法、触控面板、触控显示装置 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及一种阵列基板及其制备方法、触控面板、以及触控显示装置。该阵列基板包括多个子像素行；第N个子像素行与第N+1个子像素行之间设置有相邻的两栅线，第N+1个子像素行与第N+2个子像素行之间设置有一触控驱动线；其中，所述N为奇数或者所述N为偶数，且N>0。本公开可保证像素的开口率、提高像素的透过率。

Description

阵列基板及其制备方法、触控面板、触控显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、触控面板、以及触控显示装置。
背景技术
随着光学技术和半导体技术的发展，以液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)和有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)为代表的平板显示器具有轻薄、能耗低、反应速度快、色纯度佳、以及对比度高等特点，在显示领域占据了主导地位。
近些年来，触控技术在显示领域的应用已经逐渐成熟，各式各样的触控屏也已遍及人们的生活。根据组成结构的不同可将触控屏分为外挂式触控屏(Add on Mode TouchPanel)、表面覆盖式触控屏(On Cell Touch Panel)、以及内嵌式触控屏(In Cell TouchPanel)。其中，内嵌式触控屏以其模组厚度薄、制作成本低等优势受到了各大面板厂商的青睐。
现有技术中，内嵌式触控屏一般采用在有效显示区(即AA区)增加数据(Data)走线的双金属线方式来引出触控驱动线Tx，即包括一用于传输像素数据的数据信号线(图中未示出)以及一用于传输触控信号的触控驱动线Tx。如图1所示，该内嵌式触控屏包括多个触控模块，每个触控模块可以通过过孔与触控驱动线Tx相连，以在触控阶段通过该触控驱动线Tx获取触控信号。但是，这种设计方式存在开口率减小以及亮度变低的缺陷。
需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开的目的在于提供一种阵列基板及其制备方法、触控面板、以及触控显示装置，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。
本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。
根据本公开的一个方面，提供一种阵列基板，包括多个子像素行；第N个子像素行与第N+1个子像素行之间设置有相邻的两栅线，第N+1个子像素行与第N+2个子像素行之间设置有一触控驱动线；
其中，所述N为奇数或者所述N为偶数，且N>0。
本公开的一种示例性实施例中，所述栅线和所述触控驱动线同层设置且材质相同。
本公开的一种示例性实施例中，所述阵列基板还包括栅极驱动电路，且所述栅线和所述触控驱动线均连接至所述栅极驱动电路。
本公开的一种示例性实施例中，所述阵列基板还包括与所述触控驱动线相交设置的触控感应线。
根据本公开的一个方面，提供一种阵列基板的制备方法，包括制备多个子像素行；所述制备方法还包括：
在第N个子像素行与第N+1个子像素行之间的第一预设位置处形成相邻的两栅线；
在第N+1个子像素行与第N+2个子像素行之间的第二预设位置处形成一触控驱动线；
其中，所述N为奇数或者所述N为偶数，且N>0。
本公开的一种示例性实施例中，所述栅线和所述触控驱动线的形成方法包括：
在基板上沉积金属导电层，并通过一次构图工艺在所述金属导电层的所述第一预设位置处和所述第二预设位置处形成所述相邻的两栅线以及所述触控驱动线。
本公开的一种示例性实施例中，所述制备方法还包括：
在所述基板的非显示区形成栅极驱动电路；
其中，在形成所述栅线和所述触控驱动线时使所述栅线和所述触控驱动线与所述栅极驱动电路相连。
本公开的一种示例性实施例中，所述制备方法还包括：
在所述基板上形成与所述触控驱动线相交的触控感应线。
根据本公开的一个方面，提供一种触控面板，包括上述的阵列基板。
根据本公开的一个方面，提供一种触控显示装置包括上述的阵列基板；
其中，在所述阵列基板未包括栅极驱动电路时，所述触控显示装置还包括栅驱动器，且所述栅线和所述触控驱动线均连接至所述栅驱动器。
本公开示例性实施方式所提供的阵列基板及其制备方法、触控面板、以及触控显示装置，以第N个子像素行与第N+1个子像素行为一个像素组，通过在该像素组内的两个子像素行之间设置两条栅线，可使相邻的两条栅线集中设置在同一个行间隙内，从而将相邻像素组之间的行间隙预留出来，以便于触控驱动线的设置，相比于现有技术，这种设置方式有利于保证像素的开口率并能提高像素的透过率。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示意性示出现有技术中触控面板的结构示意图；
图2示意性示出本公开示例性实施例中阵列基板的结构示意图；
图3示意性示出本公开示例性实施例中触控显示装置的结构示意图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知技术方案以避免使本公开的各方面变得模糊。
为易于描述，诸如“在…下方”、“在…下面”，“下部”、“在…上方”、“上部”等的空间关系术语，在此处可用于描述如图所示的一个元件或特征与另一个元件或特征(或者其它元件或特征)的关系。应当理解，空间关系术语旨在包括使用中或操作中的装置除图中所示的方位之外的不同方位。例如，如果图中的设备被翻转，则被描述为位于其它元件或特征的“下面”或“下方”的元件将位于其它元件或特征的“上方”。因此，示例性术语“在…下面”可包括“在…上方”和“在…下面”两者的方位。可另外对设备进行定位(被旋转90度或在其它的方位)，并且相应地解释在此处使用的空间关系描述符。
此处所使用的术语仅仅是为了描述具体示例性实施例的目的，而不旨在对本发明的限制。如此处所使用的那样，单数形式“一个”、“所述”及其变体旨在也包含复数形式，除非上下文另外清楚地做出指示。应当进一步理解，术语“包括”和/或“包含”在本申请文件中使用时指定所述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个以上的其它特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或它们的组合的存在或增加。
此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。附图中各层的厚度和形状不反映真实比例，仅是为了便于说明本公开的内容。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。附图中所示的一些方框图是功能实体，不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。可以采用软件形式来实现这些功能实体，或在一个或多个硬件模块或集成电路中实现这些功能实体，或在不同网络和/或处理器装置和/或微控制器装置中实现这些功能实体。
本示例实施方式提供了一种阵列基板，包括多个子像素行，且每个子像素行均连接一栅线Gn；如图2所示，第N个子像素行10与第N+1个子像素行20之间可以设置相邻的两条栅线Gn，第N+1个子像素行20与第N+2个子像素行30之间可以设置一条触控驱动线Tx；其中，所述N可以为奇数或者也可以为偶数，且N>0。
需要说明的是：所述N的取值只能为奇数或者只能为偶数，即所有的N均为奇数，或者，所有的N均为偶数。
例如，当N为奇数时，在第1个子像素行与第2个子像素行之间设置相邻的两条栅线G1和G2，在第2个子像素行与第3个子像素行之间设置一条触控驱动线Tx；在第3个子像素行与第4个子像素行之间设置相邻的两条栅线G3和G4，在第4个子像素行与第5个子像素行之间设置一触控驱动线Tx；……；以此类推。
又如，当N为偶数时，在第2个子像素行与第3个子像素行之间设置相邻的两条栅线G2和G3，在第3个子像素行与第4个子像素行之间设置一条触控驱动线Tx；在第4个子像素行与第5个子像素行之间设置相邻的两条栅线G4和G5，在第5个子像素行与第6个子像素行之间设置一触控驱动线Tx；……；以此类推。在此情况下，第1个子像素行对应的栅线位置可以在该子像素行的上方或者下方，这里不做具体限定。
本公开示例性实施方式所提供的阵列基板，以第N个子像素行与第N+1个子像素行为一个像素组，通过在该像素组内的两个子像素行之间设置两条栅线Gn，可使相邻的两条栅线集中设置在同一个行间隙内，从而将相邻像素组之间的行间隙预留出来，以便于触控驱动线Tx的设置，相比于现有技术，这种设置方式有利于保证像素的开口率并能提高像素的透过率。
本示例实施方式中，所述栅线Gn和所述触控驱动线Tx可以同层设置且采用相同的材质。更为具体的说，所述栅线Gn和所述触控驱动线Tx可以通过对同一层金属膜进行同一次构图工艺而得到。
例如，在制备本实施例中的阵列基板时，可先沉积一层金属膜层，再利用掩模版对该金属膜层进行光刻工艺，从而得到栅线Gn和触控驱动线Tx的图案。
这样一来，栅线Gn和触控驱动线Tx便可同层设置且材质相同，相比于现有技术通过额外增加金属层来引出触控驱动信号线Tx，本实施例可实现同层金属布线、减少构图次数，从而能够有效的减少工艺制程、降低制造成本、同时还能提高产品良率。
需要说明的是：虽然以上实例是以栅线Gn和触控驱动线Tx通过同一次构图工艺形成为例进行说明的，但本公开的技术方案并不限于此，其也可以分别通过一次构图工艺即一共通过两次构图工艺来形成，只是前者具有简化工艺制程以及降低制造成本的优势，因此可作为本示例的优选方案。
基于上述结构，如图3所示，所述阵列基板还可以包括栅极驱动电路Gate IC，且栅线Gn和触控驱动线Tx均连接至栅极驱动电路Gate IC。
由此可知，本示例实施方式所提供的阵列基板可以是一种GOA(GateDriver onArray，阵列基板行驱动)基板，即利用GOA技术将栅极驱动电路Gate IC集成于阵列基板的周边区域，从而实现窄边框设计，同时还可提升模组工艺产量和产品良率，并能节约成本。
在此基础上，本实施例通过使相邻两栅线Gn和触控驱动线Tx交替的在栅极驱动电路Gate IC一侧引出，在实现同层金属布线的同时，还可由栅极驱动电路Gate IC分别为栅线Gn和触控驱动线Tx提供栅极扫描信号和触控驱动信号，从而实现栅极驱动电路Gate IC的充分利用。
本示例实施方式中，所述阵列基板还可以包括与触控驱动线Tx相交设置的触控感应线Rx；其中，所述触控感应线Rx例如可以通过复用公共电极层来实现。
这样一来，在显示阶段，栅极驱动电路Gate IC可以为各个子像素行依次提供栅极扫描信号以进行逐行显示；在触控阶段，栅极驱动电路GateIC可以为各个触控驱动线Tx提供触控驱动信号，此时触控感应线Rx通过接收感应触控操作而产生的感应信号，从而确定触摸位置。
本示例实施方式提供了一种阵列基板的制备方法，包括制备多个子像素行；参考图2所示，所述制备方法可以包括：
在第N个子像素行10与第N+1个子像素行20之间的第一预设位置处形成相邻的两栅线Gn；
在第N+1个子像素行20与第N+2个子像素行30之间的第二预设位置处形成一触控驱动线Tx；
其中，所述N为奇数或者所述N为偶数，且N>0。
本公开示例性实施方式所提供的阵列基板的制备方法，通过在第一预设位置处形成两栅线Gn，在第二预设位置处形成一触控驱动线Tx，可保证像素的开口率，以及提高像素的透过率。
具体而言，所述栅线Gn和所述触控驱动线Tx的形成方法可以包括：
在基板上方沉积金属导电层，并通过一次构图工艺在该金属导电层的第一预设位置处和第二预设位置处形成相邻的两栅线Gn以及触控驱动线Tx。
其中，所述基板可以是衬底基板，也可以是形成有其它图案层的基板；所述金属导电层可以是单层金属膜结构，也可以是多层复合金属膜结构；所述金属导电层的材质优选为薄膜晶体管的栅极材质例如钼钽合金；所述一次构图工艺是指利用掩模版进行的一次图案化处理过程，其例如可以包括曝光、显影、刻蚀和剥离。
基于上述步骤即可形成同层同材质的栅线Gn和触控驱动线Tx，相比于现有技术，本实施例可节约材质、减少构图次数，从而达到减少工艺制程、降低制造成本、以及提高产品良率的效果。
需要说明的是：本实施例在通过上述步骤制备栅线Gn和触控驱动线Tx时，可使栅线Gn和触控驱动线Tx与阵列基板周边区域的栅极驱动电路Gate IC相连接，以便于实现栅极驱动电路Gate IC的不同功能。
本示例实施方式中，所述阵列基板的制备方法还可以包括：在基板上形成与触控驱动线Tx相交的触控感应线Rx；
其中，所述触控感应线Rx例如可以通过复用公共电极层来实现。
需要说明的是：所述阵列基板的制备方法中的具体细节已经在对应的阵列基板中进行了详细描述，这里不再赘述。
本示例实施方式还提供了一种内嵌式触控面板，包括上述的阵列基板。该触控面板可保证像素的开口率、并提高像素的透过率。
其中，该触控面板可以为LCD面板、OLED面板、PLED(Polymer Light-EmittingDiode，高分子发光二极管)面板、PDP(Plasma Display Panel，等离子显示面板)等，这里对于显示面板的适用不做具体的限制。
本示例实施方式还提供了一种显示装置，包括上述的阵列基板。其中，在所述阵列基板未包括栅极驱动电路时，即上述的阵列基板不是GOA基板，所述触控显示装置还可以包括栅驱动器，且所述栅线Gn和所述触控驱动线Tx均连接至所述栅驱动器。
在本示例实施方式中，所述显示装置例如可以包括手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，本公开对此不进行特殊限定。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种阵列基板，包括多个子像素行；其特征在于，第N个子像素行与第N+1个子像素行之间设置有相邻的两栅线，第N+1个子像素行与第N+2个子像素行之间设置有一触控驱动线；
其中，所述N为奇数或者所述N为偶数，且N>0。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅线和所述触控驱动线同层设置且材质相同。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括栅极驱动电路，且所述栅线和所述触控驱动线均连接至所述栅极驱动电路。
4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括与所述触控驱动线相交设置的触控感应线。
5.一种阵列基板的制备方法，包括制备多个子像素行；其特征在于，所述制备方法还包括：
在第N个子像素行与第N+1个子像素行之间的第一预设位置处形成相邻的两栅线；
在第N+1个子像素行与第N+2个子像素行之间的第二预设位置处形成一触控驱动线；
其中，所述N为奇数或者所述N为偶数，且N>0。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述栅线和所述触控驱动线的形成方法包括：
在基板上沉积金属导电层，并通过一次构图工艺在所述金属导电层的所述第一预设位置处和所述第二预设位置处形成所述相邻的两栅线以及所述触控驱动线。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：
在所述基板的非显示区形成栅极驱动电路；
其中，在形成所述栅线和所述触控驱动线时使所述栅线和所述触控驱动线与所述栅极驱动电路相连。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：
在所述基板上形成与所述触控驱动线相交的触控感应线。
9.一种触控面板，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的阵列基板。
10.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的阵列基板；
其中，在所述阵列基板未包括栅极驱动电路时，所述触控显示装置还包括栅驱动器，且所述栅线和所述触控驱动线均连接至所述栅驱动器。
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