CN107112226A - 基板液处理装置 - Google Patents

Abstract

实施方式的一形态的基板液处理装置具备输送部、处理部、贮存部、以及供液机构。输送部配置有输送基板的输送装置。处理部沿着水平方向与输送部相邻，配置有使用处理液来对基板进行处理的液处理单元。贮存部贮存处理液。供液机构将贮存到贮存部的处理液向液处理单元送出。贮存部配置于输送部的正下方。另外，供液机构配置于处理部的正下方。能够谋求基板液处理装置的省空间化。

Description

基板液处理装置

技术领域

公开的实施方式涉及基板液处理装置。

背景技术

以往，公知有对半导体晶圆、玻璃基板这样的基板实施清洗处理等预定的基板处理的基板液处理装置。另外，对于基板液处理装置，具备处理部，该处理部配置有使用处理液来对基板进行处理的液处理单元，在该处理部之下配置有贮存处理液的贮存部和将贮存部内的处理液向液处理单元送出的供液机构(参照例如专利文献1)。

然而，对于上述的基板液处理装置，贮存部和供液机构配置于处理部之下的相同的场所，因此，在处理部之下需要比较大的配置空间。因此，上述的基板液处理装置在谋求省空间化这一点存在进一步改善的余地。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-34490号公报

发明内容

实施方式的一形态的目的在于提供一种能够谋求省空间化的基板液处理装置。

实施方式的一形态的基板液处理装置具备输送部、处理部、贮存部、以及供液机构。输送部配置有输送基板的输送装置。处理部沿着水平方向与所述输送部相邻，配置有使用处理液来对所述基板进行处理的液处理单元。贮存部贮存所述处理液。供液机构将贮存到所述贮存部的所述处理液向所述液处理单元送出。所述贮存部配置于所述输送部的正下方。另外，所述供液机构配置于所述处理部的正下方。

附图说明

图1是表示第1实施方式的基板液处理系统的概略结构的图。

图2是表示基板处理系统的处理液供给系统的概略结构的图。

图3是表示基板液处理装置的构成例的图。

图4是以Y-Z平面剖切处理站时的纵剖视图。

图5是图4的V-V线剖视图。

图6是以X-Z平面剖切处理站时的纵剖视图。

图7是用于说明第1实施方式的变形例的基板液处理装置的图。

图8是示意性地表示从加热器到处理单元的液配管的侧视图。

图9是用于说明第2实施方式的基板液处理装置的图。

图10是用于说明第2实施方式的变形例的基板液处理装置的图。

图11是表示第3实施方式的处理单元的概略结构的图。

图12是表示第4实施方式的处理液供给系统的概略结构的图。

具体实施方式

以下，参照附图，详细地说明本申请所公开的基板液处理装置的实施方式。此外，本发明并不被以下所示的实施方式限定。

(第1实施方式)

图1是表示本实施方式的基板处理系统的概略结构的图。以下，为了使位置关系清楚，对互相正交的X轴、Y轴及Z轴进行规定，将Z轴正方向设为铅垂朝上方向。

如图1所示，基板处理系统1包括输入输出站2和处理站3。输入输出站2和处理站3相邻地设置。

输入输出站2包括承载件载置部11和输送部12。可在承载件载置部11上载置多个承载件C，该多个承载件C用于将多张基板、在本实施方式中为半导体晶圆(以下称作晶圆W)以水平状态收纳。

输送部2与承载件载置部11相邻地设置，在输送部12的内部具有基板输送装置13和交接部14。基板输送装置13具有用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板输送装置13能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴线为中心进行旋转，其使用晶圆保持机构在承载件C与交接部14之间输送晶圆W。

处理站3与输送部12相邻地设置。处理站3包括输送部15和多个处理单元16。多个处理单元16以排列在输送部15的两侧的方式设置。

输送部15在内部具有基板输送装置17。基板输送装置17具有用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板输送装置17能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴线为中心进行旋转，其使用晶圆保持机构在交接部14与处理单元16之间输送晶圆W。

处理单元16用于对由基板输送装置17输送过来的晶圆W进行预先设定的基板处理。

另外，基板处理系统1包括控制装置4。控制装置4例如是计算机，其包括控制部18和存储部19。在存储部19中存储有用于对在基板处理系统1中执行的各种处理进行控制的程序。控制部18通过读取并执行被存储在存储部19中的程序来控制基板处理系统1的动作。

此外，该程序既可以是存储在可由计算机读取的存储介质中的程序，也可以是从该存储介质安装到控制装置4的存储部19中的程序。作为可由计算机读取的存储介质，存在例如硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、光磁盘(MO)以及存储卡等。

在如所述那样构成的基板处理系统1中，首先，输入输出站2的基板输送装置13将晶圆W自载置于承载件载置部11的承载件C取出，并将取出后的晶圆W载置于交接部14。利用处理站3的基板输送装置17将被载置于交接部14的晶圆W自交接部14取出并将其输入到处理单元16中。

在利用处理单元16对被输入到处理单元16中的晶圆W进行处理之后，利用基板输送装置17将该晶圆W自处理单元16输出并将其载置于交接部14。然后，利用基板输送装置13将载置于交接部14的处理完成后的晶圆W返回到载置部11的承载件C。

接着，参照图2对包括向处理单元16供给处理液的液处理装置的处理液供给系统进行说明。图2是表示基板处理系统1的处理液供给系统的概略结构的图。

如图2所示，液处理装置具有对基板进行液处理的多个处理单元(液处理单元)16和向处理单元16供给处理液的处理流体供给源70。

处理流体供给源70具有贮存处理液的罐102和从罐102出来并返回罐102的循环管线104。在循环管线104设有泵106。泵106形成从罐102出来经由循环管线104返回罐102的循环流。在泵106的下游侧，在循环管线104设有将处理液所含有的微粒等污染物质去除的过滤器108。也可以根据需要在循环管线104设有辅助设备类(例如加热器等)。

1个或多个分支管线112与设定于循环管线104的连接区域110连接。各分支管线112将在循环管线104中流动的处理液向对应的处理单元16供给。在各分支管线112能够根据需要设置流量控制阀等流量调整机构、过滤器等。

液处理装置具有向罐102补充处理液或处理液构成成分的罐液补充部116。在罐102设有用于将罐102内的处理液废弃的废液部118。

接着，参照图3更详细地说明上述的液处理装置(以下记载为“基板液处理装置100”)的构成。图3是表示第1实施方式的基板液处理装置100的构成例的图。

如图3所示，基板液处理装置100具备第1处理液供给系统121a和第2处理液供给系统121b。此外，对于图3所示的各构成要素中的、第1处理液供给系统121a的构成要素，在附图标记的末尾标注了“a”，对于第2处理液供给系统121b的构成要素，在附图标记的末尾标注了“b”。另外，在上述内容中，基板液处理装置100所具备的处理液供给系统设为两个，但并不限于此，也可以是例如1个或者3个以上。

以下，说明第1处理液供给系统121a。此外，第1处理液供给系统121a中的处理液的流动等与第2处理液供给系统121b中的流动大致相同。因而，以下的说明对于第2处理液供给系统121b而言也大致妥当。另外，基板液处理装置100具备具有另一罐102的另一第1处理液供给系统121a、第2处理液供给系统121b的组，下述的说明对于该另一组也大致妥当。

在基板液处理装置100中，上述的循环管线104a与罐(贮存部的一个例子)102连接。在循环管线104a从上游侧依次夹设有泵(供液机构的一个例子)106a、过滤器108a和加热器109a。

泵106a将贮存到罐102的处理液向多个处理单元(液处理单元的一个例子)16Ua、16La送出。此外，作为处理液，能够使用例如SC1(氨、过氧化氢和水的混合液)、HF(氢氟酸)、IPA(异丙醇)等，但并不限定于这些。

作为上述的泵106a，能够使用例如空气驱动的波纹管泵。在泵106a是波纹管泵的情况下，空气供给源130经由空气配管131a与泵106a连接。对向泵106a的空气供给量进行控制的控制阀132a夹设于空气配管131a。因而，根据控制阀132a的开闭而从空气供给源130经由空气配管131a供给空气，从而泵106a被驱动。

此外，上述的说明中，泵106a是波纹管泵，但并不限于此，也可以是例如隔膜泵、柱塞泵等其他种类的泵。

过滤器108a如上述那样除掉处理液内的污染物质。另外，加热器109a使所通过的处理液升温到预定温度。此外，能够根据处理液的种类而去除加热器109a。

图4是以Y-Z平面剖切处理站3时的纵剖视图。如图4所示，上述的多个处理单元16Ua、16La层叠成上下两层。其中，存在将配置于上层的处理单元16记载为“处理单元16Ua”、将配置于下层的处理单元16记载为“处理单元16La”的情况。

此外，在本实施方式中，示出了处理单元16层叠成上下两层的情况的例子，但处理单元16的层叠数并不限定于两层。另外，处理单元16的台数也并不限定于图示的台数。另外，在图3中，为了简化图示，仅将多个处理单元16Ua、16La示出4个，省略了其他的图示。

接下来，在上述那样构成的基板液处理装置100中，对多个处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb、罐102、泵106a、106b等所配置的位置进行说明。

如图1所示，多个处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb沿着输送部15配置。详细而言，输送部15以配置基板输送装置17的输送室15a(参照图4)沿着X轴延伸的方式形成。

并且，在图1中，相对于输送部15位于Y轴负方向侧(纸面下方侧)、并且沿着X轴配置的多个处理单元16相当于第1处理液供给系统121a中的处理单元16Ua。此外，在图1中，下层的处理单元16La被上层的处理单元16Ua遮挡而看不到。

另一方面，相对于输送部15位于Y轴正方向侧(纸面上方侧)、并且沿着X轴配置的多个处理单元16相当于第2处理液供给系统121b中的处理单元16Ub。此外，在图1中，下层的处理单元16Lb也被上层的处理单元16Ub遮挡而看不到。

以下，在基板液处理装置100中，存在将第1处理液供给系统121a的处理单元16Ua、16La所配置的部分记载为“第1处理部20a”的情况(参照图4)。另外，在基板液处理装置100中，存在将第2处理液供给系统121b的处理单元16Ub、16Lb所配置的部分记载为“第2处理部20b”的情况(参照图4)。

如图4所示，第1处理部20a和第2处理部20b沿着水平方向与输送部15相邻地配置。另外，第1处理部20a和第2处理部20b并列地设于隔着输送部15相对的位置。并且，利用输送部15的输送装置17向第1处理部20a和第2处理部20b输送晶圆W。

基板液处理装置100具备收纳第1处理部20a、第2处理部20b、输送部15、罐102以及泵106a、106b等的收纳部30。收纳部30是例如内部被划分成多个室的外壳或壳体。

不过，对于以往的基板液处理装置，例如罐和泵都配置于处理部之下的相同的场所。因此，在处理部之下需要比较大的配置空间，基板液处理装置有可能大型化。因而，以往的基板液处理装置在谋求省空间化这方面存在进一步改善的余地。

因此，在本实施方式的基板液处理装置100中，设为能够谋求省空间化、并且能够缩小设置面积的结构。以下，详细地说明该结构。

如图4所示，第1处理部20a、第2处理部20b和输送部15配置于收纳部30的Z轴方向上的上部。并且，在收纳部30中，在第1处理部20a、第2处理部20b和输送部15的下方形成有空间140。

图5是图4的V-V线剖视图。此外，在图4和图5中，上述的空间140中的、位于第1处理部20a的下方的空间以标注了附图标记120a的虚线表示。同样地，在图4和图5中，空间140中的、位于第2处理部20b的下方的空间以标注了附图标记120b的虚线表示，位于输送部15的下方的空间以标注了附图标记115的虚线表示。

如图4、图5所示，罐102配置于输送部15的正下方、即、配置于空间115。此外，在图4、图5所示的例子中，罐102的整体收纳于收纳部30的空间115内，但并不限于此，例如罐102的一部分也可以超出空间115。

另外，泵106a、106b配置于第1处理部20a、第2处理部20b的正下方。详细而言，泵106a配置于第1处理部20a的正下方、即、配置于空间120a。另一方面，泵106b配置于第2处理部20b的正下方、即、配置于空间120b。

以下，存在将第1处理部20a的正下方的泵106a记载为“第1泵106a”(第1供液机构的一个例子)、将第2处理部20b的正下方的泵106b记载为“第2泵106b”(第2供液机构的一个例子)的情况。

这样，在基板液处理装置100中，通过罐102配置于输送部15的正下方、第1泵106a配置于第1处理部20a的正下方、第2泵106b配置于第2处理部20b的正下方，能够有效地利用收纳部30的空间140。

由此，例如，与假设将罐102和第1泵106a、第2泵106b配置于第1处理部20a之下的相同的场所的情况相比，可将第1处理部20a之下的空间120a设定得较小，因而，能够谋求基板液处理装置100的省空间化。另外，随着基板液处理装置100的省空间化，也能够缩小设置面积。

另外，向处理单元16Ua、16La供给处理液的第1泵106a配置于具有处理单元16Ua、16La的第1处理部20a的正下方。同样地，向处理单元16Ub、16Lb供给处理液的第2泵106b配置于具有处理单元16Ub、16Lb的第2处理部20b的正下方。

由此，能够缩短从第1泵106a到处理单元16Ua、16La的循环管线104a(参照图3)的距离、和从第2泵106b到处理单元16Ub、16Lb的循环管线104b(参照图3)的距离。另外，通过缩短各循环管线104a、104b，能够效率良好地向各处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb供给处理液，并且能够使基板液处理装置100更加省空间化。

另外，如图5所示，基板液处理装置100具备两个罐102，两个罐102分别连接有相对应的第1泵106a、第2泵106b。

在图5所示的基板液处理装置100的例子中，包括罐102和与该罐102相对应的第1泵106a、第2泵106b的设备群(即设备的组合)存在多组(在此是两组)。此外，在图5中，一个设备群以附图标记141α表示，另一个设备群以附图标记141β表示。另外，该设备群141α、141β也可以包括与罐102等相对应的过滤器108a、108b、加热器109a、109b等。

并且，在收纳部30中，在设备群141α与设备群141β之间形成有分隔壁31、31。该分隔壁31、31从收纳部30的底面到第1处理部20a、第2处理部20b和输送部15的底面地形成。由此，收纳部30的空间140被分隔壁31、31分成空间140α和空间140β。

这样，在基板液处理装置100中，设备群141α和设备群141β以彼此分离开的状态收纳于收纳部30。由此，虽省略图示，但在例如基板液处理装置100中，可针对设备群141α所配置的空间140α、设备群141β所配置的空间140β的每一个进行排气、温度调节等空调管理，能够谋求基板处理的品质提高。此外，贮存于上述的两个罐102的处理液既可以是相同的种类，也可以是彼此不同的种类。另外，罐102的数并不限定于两个。

第1泵106a、第2泵106b分别与罐102连接。即、在基板液处理装置100中，能够使第1泵106a、第2泵106b共用1个罐102。

另外，如上所述，第1处理部20a和第2处理部20b设于隔着输送部15相对的位置，因此，罐102配置于第1泵106a、第2泵106b之间。

由此，能够缩短循环管线104a的从罐102到第1泵106a的第1液配管104a1(参照图3)的长度、和循环管线104b的从罐102到第2泵106b的第2液配管104b1(参照图3)的长度。另外，通过缩短各液配管104a1、104b1，能够效率良好地向第1泵106a、第2泵106b供给处理液，并且能够谋求基板液处理装置100的进一步的省空间化。

在此，优选上述的第1液配管104a1的长度与第2液配管104b1的长度相同。由此，在基板液处理装置100中，可针对处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb进行均匀的处理。

即、在例如假设第1液配管104a1的长度与第2液配管104b1的长度大幅度不同的情况下，各液配管104a1、104b1中的压力损失也不同。因此，在向处理单元16Ua、16La供给的处理液与向处理单元16Ub、16Lb供给的处理液之间流量等产生差异，难以针对处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb进行均匀的处理。

因此，在本实施方式的基板液处理装置100中，使第1液配管104a1、第2液配管104b1的长度相同，因此，能够使第1液配管104a1、第2液配管104b1的压力损失也大致相同地一致。由此，可针对处理单元16Ua、16La和处理单元16Ub、16Lb进行均匀的处理。

此外，上述的第1液配管104a1、第2液配管104b1的长度“相同”无需完全相同，只要例如第1液配管104a1、第2液配管104b1的设计上的长度的差小到不产生两配管中的压力损失之差的程度、或者、第1液配管104a1、第2液配管104b1的实际的长度之差小到认为处于配管的制造时或设置作业时的误差的范围内的程度，两配管的长度就可以视作“相同”。另外，除了第1液配管104a1、第2液配管104b1的长度以外，也可以对管径、管材的种类等进行调整而使第1液配管104a1、第2液配管104b1的压力损失大致相同地一致。

如图5所示，在收纳部30中，在上述的分隔壁31、31之间设有形成4个空间142α、142α、142β、142β的分隔壁32。并且，在各空间的、接近第1泵106a的空间142α、142α配置有第1泵106a用的控制阀132a，在接近第2泵106b的空间142β、142β配置有第2泵106b用的控制阀132b。

此外，第1泵106a用的控制阀132a配置于第1处理部20a的正下方，第2泵106b用的控制阀132b配置于第2处理部20b的正下方。

由此，能够缩短从控制阀132a到第1泵106a的空气配管131a的长度和从控制阀132b到第2泵106b的空气配管131b的长度。另外，通过缩短各空气配管131a、131b，能够使空气效率良好地向第1泵106a、第2泵106b供给，并且能够进一步实现基板液处理装置100的省空间化。

在收纳部30的X轴正方向端部的附近设有形成空间143的分隔壁33。在该空间143中配设有来自空气供给源130的空气配管131a、131b、来自未图示的N₂气体供给源的气体配管等各种配管。

并且，空气配管131a、131b在穿过了例如罐102的下方的配管空间(未图示)之后，经由控制阀132a、132b与第1泵106a、第2泵106b连接。

在此，优选上述的空气配管131a的长度与空气配管131b的长度相同。另外，更优选从控制阀132a到第1泵106a的长度与从控制阀132b到第2泵106b的长度相同。由此，在基板液处理装置100中，能够针对处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb进行均匀的处理。

即、例如，假设在空气配管131a、131b的长度大幅度不同的情况下，各空气配管131a、131b中的压力损失也不同。因此，在第1泵106a、第2泵106b是波纹管泵的情况下，喷出流量等在第1泵106a、第2泵106b之间产生差异，难以针对处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb进行均匀的处理。此外，第1泵106a、第2泵106b如上述那样也可以是隔膜泵、柱塞泵等，即使是那样的情况下，若空气配管131a、131b的长度大幅度不同，则也难以针对各处理单元进行均匀的处理。

在本实施方式的基板液处理装置100中，使空气配管131a、131b的长度相同，因此，也能够使空气配管131a、131b的压力损失大致相同地一致。由此，可针对处理单元16Ua、16La和处理单元16Ub、16Lb进行均匀的处理。

此外，上述的空气配管131a、131b的长度“相同”与第1液配管104a1、第2液配管104b1的长度同样地无需完全相同。即、只要空气配管131a、131b的长度的差在容许范围内，就可以视作长度“相同”。另外，除了空气配管131a、131b的长度以外，也可以对管径、管材的种类等进行调整而使空气配管131a、131b的压力损失大致相同地一致。

图6是以X-Z平面剖切处理站3时的纵剖视图。此外，在图6中，为了图示的简单化，分别将包括罐102和第1泵106a、第2泵106b等的设备群141α、141β一并以一个块表示。

如图6所示，从设备群141α延伸出的循环管线104a配设成，在通过了设备群141α所配置的空间140α之后，在相邻的设备群141β所配置的空间140β中通过，之后，经由处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb返回设备群141α。此外，在图6中，处理单元16Ub、16Lb被处理单元16Ua、16La遮挡而看不到。

另一方面，从设备群141β延伸出的循环管线104b配设成，在通过了设备群141β所配置的空间140β之后，向处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb延伸，之后，通过相邻的设备群141α所配置的空间140α而返回设备群141β。

这样，在本实施方式的基板液处理装置100中，循环管线104a、104b都在相邻的设备群141α、141β的空间140α、140β通过。由此，能够有效地利用收纳部30的空间140α、140β，因而，能够进一步实现基板液处理装置100的省空间化。

此外，通过空间140β时的循环管线104a优选采取例如在保护管中穿过、或不使用接头等防止来自设备群141β的处理液等的影响的适当的方法。另外，对于通过空间140α时的循环管线104b，也优选采取同样的方法。

如上述那样，第1实施方式的基板液处理装置100具备输送部15、第1处理部20a、第2处理部20b(处理部的一个例子)、罐102、以及第1泵106a、第2泵106b。输送部15配置有输送晶圆W的基板输送装置17。第1处理部20a、第2处理部20b沿着水平方向与输送部15相邻，配置有使用处理液来对晶圆W进行处理的液处理单元16。罐102用于贮存来自离子罐液补充部116的处理液。第1泵106a、第2泵106b将贮存到罐102的处理液向液处理单元16送出。罐102配置于输送部15的正下方。第1泵106a、第2泵106b配置于第1处理部20a、第2处理部20b的正下方。由此，能够谋求基板液处理装置100的省空间化。

(第1实施方式的变形例)

接下来，说明第1实施方式的变形例(以下称为“第1变形例”)。图7是用于说明第1变形例的基板液处理装置100的图。

如图7所示，对于第1变形例，第1液配管104a1和第1泵(第1供液机构的一个例子)106a以及第2液配管104b1和第2泵(第2供液机构的一个例子)106b以在俯视时成为点对称的方式配置。

以配置于图7的左侧的设备群141α为例详细说明，在第1处理部20a的下方的空间120a内从上游侧第1液配管104a1、第1泵106a、过滤器108a和加热器109a依次与罐102连接。另外，在第2处理部20b的下方的空间120b内，第2泵106b、过滤器108b和加热器109b与罐102连接。

并且，在第1变形例中，上述的第1液配管104a1以及第1泵106a和第2液配管104b1以及第2泵106b以将位于输送部15的下方的空间115的点150α作为对称点而在俯视时成为点对称的方式配置。

另外，对于配置于图7的右侧的设备群141β，也是与上述的设备群141α同样的配置。即、第1液配管104a1以及第1泵106a和第2液配管104b1以及第2泵106b以将位于空间115的点150β作为对称点而在俯视时成为点对称的方式配置。

此外，在图7所示的例子中，上述的点150α、150β设为空间115中的与罐102的中心点相同的位置，但这只不过是例示，并不是限定性的。

由此，在基板液处理装置100中，能够谋求零部件的共有化。即、在例如第1泵106a和第2泵106b中能够使相对于罐102的吸入口的位置(朝向)相同。另外，也能够使例如第1液配管104a1的长度和第2液配管104b1的长度相同。

而且，在用于固定第1液配管104a1、第1泵106a、过滤器108a和加热器109a的零部件与用于固定第2液配管104b1、第2泵106b、过滤器108b和加热器109b的零部件之间能够使用相同规格的零部件。因而，在基板液处理装置100中，能够谋求零部件的共有化，并且也可低成本化。

另外，在例如针对第1泵106a、第2泵106b改变了所期望的规格的情况下，针对各泵106a、106b分别进行设计变更。即使是该情况下，通过设为上述那样的配置，也可将例如在一个泵进行了的设计变更适用于另一个泵。由此，即使是在基板液处理装置100中改变了规格的情况下，也能够尽快进行设计变更，可迅速地应对。

不过，在第1液配管104a1、第2液配管104b1等如上述那样以成为点对称的方式配置的情况下，在例如设备群141α中，加热器109a的出口位于收纳部30的端部附近，而加热器109b的出口位于收纳部30的中央部附近。因此，存在从加热器109a到处理单元16Ua、16La的液配管的长度与从加热器109b到处理单元16Ub、16Lb的液配管的长度不同的情况。针对该情况，参照图8来详细地说明。

图8是示意性地表示从加热器109a、109b到处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb的液配管的侧视图。如图8所示，存在循环管线104a的从加热器109a到处理单元16Ua、16La的液配管的长度比循环管线104b的从加热器109b到处理单元16Ub、16Lb的液配管的长度长预定距离A的情况。

因此，假设在由加热器109a、109b升温的处理液的预定温度为相同的值的情况下，到达处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb的时间点的处理液的温度在循环管线104a和循环管线104b中有可能不同。具体而言，液配管较长的循环管线104a的处理液的温度有可能比循环管线104b的处理液的温度低。

因此，在第1变形例中，在循环管线104a、104b中，在直到处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb为止的液配管的长度相同的或大致相同的位置分别设置对处理液的温度进行检测的温度检测部160a、160b。

上述的温度检测部160a、160b将表示检测到的处理液的温度的信号向控制装置4输出。并且，控制装置4基于检测到的处理液的温度对加热器109a、109b进行控制。详细而言，控制装置4对加热器109a、109b进行控制，以使由温度检测部160a检测的处理液的温度和由温度检测部160b检测的处理液的温度相同。

由此，在第1变形例的基板液处理装置100中，到达处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb的时间点的处理液的温度在循环管线104a和循环管线104b中相同，因而，能进行均匀的处理。

(第2实施方式)

接下来，对第2实施方式的基板液处理装置100进行说明。在上述的第1实施方式中，第1泵106a和第2泵106b与1个罐102连接，但在第2实施方式中，仅1个泵单独地与1个罐连接。

图9是用于说明第2实施方式的基板液处理装置100的图，是以X-Y平面剖切处理站3时的横剖视图。此外，以下，对于与第1实施方式通用的构成，标注相同的附图标记而省略说明。

如图9所示，第2实施方式的基板液处理装置100具备第1罐102a和第2罐102b。此外，第1罐102a是第1贮存部的一个例子，第2罐102b是第2贮存部的一个例子。

另外，第1罐102a和第2罐102b都配置于输送部15的正下方、即、配置于空间115内。另外，第1泵106a与第1罐102a连接，而第2泵106b与第2罐102b连接。

另外，在第1泵106a配置于第1处理部20a和第2处理部20b中的一个处理部的正下方的情况下，第2泵106b配置于第1处理部20a、第2处理部20b中的另一处理部的正下方。

具体而言，优选在第1泵106a配置于第1处理部20a的正下方(空间120a)的情况下，第2泵106b配置于第2处理部20b的正下方(空间120b)。另外，优选在第1泵106a配置于第2处理部20b的正下方(空间120b)的情况下，第2泵106b配置于第1处理部20a的正下方(空间120a)。

这样，通过第1罐102a和第2罐102b配置于第1泵106a和第2泵106b之间，换言之，配置于输送部15的正下方，能够谋求基板液处理装置100的省空间化。

此外，贮存于第1罐102a和第2罐102b的处理液既可以是相同的种类，也可以是彼此不同的种类。

在此，在贮存于第1罐102a和第2罐102b的处理液彼此不同的情况下，如图9所示，在第1处理部20a的正下方(空间120a)、和第2处理部20b的正下方(空间120b)分别配置一个第1泵106a和一个第2泵106b。

由此，能够从配置到各处理部的附近的第1泵106a、第2泵106b向第1处理部20a的处理单元16Ua、16La、和第2处理部20b的处理单元16Ub、16Lb供给不同的种类的处理液。

具体而言，从图9的左侧的第1罐102a经由第1泵106a向第1处理部20a的处理单元16Ua、16La供给处理液，并且从图9的右侧的第2罐102b经由第2泵106b向第1处理部20a的处理单元16Ua、16La供给处理液。另外，从图9的右侧的第1罐102a经由第1泵106a向第2处理部20b的处理单元16Ub、16Lb供给处理液，并且从图9的左侧的第2罐102b经由第2泵106b向第2处理部20b的处理单元16Ub、16Lb供给处理液。

另外，对于从各罐102a、102b到各泵106a、106b的第1液配管104a1、第2液配管104b1，优选在图9中位于左右的第1泵106a这两处的第1液配管104a1的长度相同、以及在图9中位于左右的第2泵106b这两处的第2液配管104b1的长度相同。由此，在基板液处理装置100中，能针对处理单元16Ua、16La、16Ub、16Lb进行均匀的处理。

此外，控制阀132a、132b配置于靠近所对应的第1泵106a、第2泵106b的位置。

在图9所示的基板液处理装置100的例子中，包括第1罐102a和与第1罐102a相对应的第1泵106a的第1设备群以附图标记241α表示。同样地，在图9中，包括第2罐102b和与第2罐102b相对应的第2泵106b的第2设备群以附图标记241β表示。

并且，在收纳部30中，第1设备群241α与第2设备群241β之间形成有分隔壁34。由此，收纳部30的空间240被分隔壁34分成空间240α和空间240β。该空间240α和空间240β以在例如俯视时成为大致L字状的方式形成。

另外，在收纳部30中，第1设备群241α的第1罐102a收纳于输送部15的正下方的空间115内的、且俯视大致L字状的空间240α内。另外，在收纳部30中，第2设备群241β的第2罐102b收纳于空间115内的、且俯视大致L字状的空间240β内。

这样，在基板液处理装置100中，第1设备群241α和第2设备群241β以彼此分离了的状态收纳于收纳部30。由此，在例如基板液处理装置100中，可使第1设备群241α所存在的空间240α和第2设备群241β所存在的空间240β彼此独立而进行排气和温度调节等空调管理，能够谋求基板处理的品质提高。

这样，在第2实施方式中，第1罐102a和第2罐102b都配置于输送部15的正下方，因此，也能够谋求基板液处理装置100的省空间化。此外，其余的效果与第1实施方式相同，因此，省略说明。

(第2实施方式的变形例)

接下来，说明第2实施方式的变形例(以下称为“第2变形例”)。图10是用于说明第2变形例的基板液处理装置100的图。

如图10所示，对于第2变形例，第1液配管104a1和第1泵106a、第2液配管104b1和第2泵106b与第1变形例同样地以将位于输送部15的下方的空间115的点250α、250β作为对称点而在俯视时成为点对称的方式配置。

而且，对于第2变形例，在将具有所对应的第1设备群241α和第2设备群241β的组合设为群组261、262的情况下，群组261和群组262以在俯视时成为点对称的方式配置。

此外，以下，为了便于理解，存在将配置于图10的左侧的具有第1设备群241α和第2设备群241β的群组261记载为“第1群组261”、将右侧的具有第1设备群241α和第2设备群241β的群组262记载为“第2群组262”的情况。另外，其中，第1设备群241α包括第1罐102a、第1液配管104a1、第1泵106a、过滤器108a以及加热器109a。同样地，第2设备群241β包括第2罐102b、第2液配管104b1、第2泵106b、过滤器108b以及加热器109b。

详细说明第2变形例的基板液处理装置100，构成上述的第1群组261的第1设备群241α和第2设备群241β、构成第2群组262的第1设备群241α和第2设备群241β以将位于输送部15的下方的空间115的点251作为对称点而在俯视时成为点对称的方式配置。

此外，在图10所示的例子中，上述的点251位于相邻的罐102a之间，但这是例示，并不是限定性的。另外，点250α、250β位于空间115中的罐102a、102b之间的位置，但这些也是例示，并不是限定性的。另外，在图10中示出了群组(261、262)具有两个的例子，也可以是3个以上。

这样，对于第2变形例，具有第1设备群241α和第2设备群241β的群组(261、262)存在多个，多个群组261、262以在俯视时成为点对称的方式配置。

由此，在第2变形例的基板液处理装置100中，能够谋求零部件的共有化。即、在例如第1群组261和第2群组262中，在第1泵106a和第2泵106b中能够使相对于罐102a、102b的吸入口的位置(朝向)相同。另外，也能够使例如第1液配管104a1和第2液配管104b1的长度相同。

由此，在第1群组261与第2群组262之间能够使用相同规格的零部件、液配管。因而，在基板液处理装置100中，能够谋求零部件的共有化，并且也能低成本化。此外，其余的效果与第1变形例等相同，因此，省略说明。

不过，基板液处理装置100整体的大小有时由于晶圆W(参照图1)的尺寸、对晶圆W进行的处理的内容等而大型化。对于大型化了的基板液处理装置100，为了使例如由设置作业者输送并设置到晶圆W的生产工厂之际的“输送性”、“设置容易性”提高，优选构成为可分割式。

在例如图10所示的例子中，收纳部30构成为可分割成第1收纳部30a和第2收纳部30b。此外，对于图10，为了明确地图示第1收纳部30a和第2收纳部30b的配置，第1收纳部30a以单点划线围起来表示，第2收纳部30b以双点划线围起来表示。

在第1收纳部30a收纳有第1处理部20a(参照图4)、输送部15(参照图4)、配置于第1处理部20a的正下方的第1泵106a、第2泵106b、配置于输送部15的正下方的第1罐102a、第2罐102b等。另外，在第2收纳部30b收纳有第2处理部20b(参照图4)、配置于第2处理部20b的正下方的第1泵106a、第2泵106b等。

另外，对于分割开的第1收纳部30a、第2收纳部30b，应该分别收纳的设备被预先组装，设为跨第1收纳部30a与第2收纳部30b之间的边界的液配管没有连接的状态。

此外，在图10中，跨上述的第1收纳部30a与第2收纳部30b之间的边界的液配管的部位以虚线的闭曲线271、272表示，以下记载为“连结部位271、272”。

并且，在例如第1收纳部30a和第2收纳部30b以分割开的状态输入到生产工厂之后，使彼此连接。另外，输送部15和第2处理部20b被连接，并且，连结部位271、272的液配管被连结，从而基板液处理装置100的设置完成。

这样，第1处理部20a、第2处理部20b和输送部15被收纳于能在第1处理部20a和输送部15所收纳的部分(第1收纳部30a)与第2处理部20b所收纳的部分(第2收纳部30b)之间分割的收纳部30。

因而，以输送部15和第1处理部20a收纳到第1收纳部30a的状态一体地被输送，因此，例如在生产工厂设置基板液处理装置100之际，设置作业者仅相对于第2处理部20b进行输送部15的位置调整即可。由此，能够缩短基板液处理装置100的调整时间。

此外，收纳部30的构成并不限定于上述内容，也可以是，以例如第1处理部20a收纳于第1收纳部30a、输送部15和第2处理部20b收纳于第2收纳部30b的方式进行分割。

另外，对于第2变形例，如上所述，第1群组261、第2群组262的第1液配管104a1、第2液配管104b1等以点对称的方式配置。因此，如图10所示，存在连结部位271、272的一部分(此处是连结部位272)位于基板液处理装置100的中心部附近的情况。

因此，对于第2变形例，能将收纳部30的连结部位272附近的部分进一步分割地构成。由此，能够抑制基板液处理装置100的设置容易性降低。

具体地说明，第2收纳部30b具备滑动收纳部30b1。滑动收纳部30b1位于第2收纳部30b中的设置作业者难以访问的连结部位272附近、例如第1群组261、第2群组262之间。

并且，滑动收纳部30b1相对于第2收纳部30b向Y轴正方向滑动而被拉出，从而被分割开。此外，拉出来的状态的滑动收纳部30b1在图10中以想像线(双点划线)表示。为了使滑动收纳部30b1容易地滑动，能够在例如滑动收纳部30b1与第2收纳部30b或地面之间夹设辊等旋转体。

这样，通过拉出滑动收纳部30b1，能够在连结部位272附近形成用于连结液配管的作业空间。由此，设置作业者能够容易地访问连结部位272，能够连结液配管、即、能够抑制基板液处理装置100的设置容易性降低。

此外，在上述内容中，滑动收纳部30b1构成为沿着Y轴方向滑动而与第2收纳部30b分割，但并不限于此，也可以例如以沿着Z轴方向滑动的方式、其他方式分割。

另外，在上述内容中，第2收纳部30b具备滑动收纳部30b1，但并不限于此、第1收纳部30a也可以构成为具备滑动收纳部。另外，将上述的收纳部30分割成第1收纳部30a、第2收纳部30b、滑动收纳部30b1的构成也可适用于第1实施方式、第2实施方式、第1变形例。

(第3实施方式)

接下来，对第3实施方式的基板液处理装置100进行说明。首先，参照图11对处理单元16的概略结构进行说明。图11是表示处理单元16的概略结构的图。

如图11所示，处理单元16具备腔室300、基板保持机构310、第1处理液供给部320、回收杯330、以及第2处理液供给部340。

腔室300收纳基板保持机构310、第1处理液供给部320、回收杯330、以及第2处理液供给部340。在腔室300的顶部设有FFU(风机过滤单元，Fan Filter Unit)301。FFU301在腔室300内形成下降流。

基板保持机构310具备保持部311、支柱部312、以及驱动部313。保持部311水平地保持晶圆W。支柱部312是沿着铅垂方向延伸的构件，基端部被驱动部313支承成可旋转，在顶端部水平地支承保持部311。驱动部313使支柱部312绕铅垂轴线旋转。该基板保持机构310通过使用驱动部313来使支柱部312旋转，从而使支承到支柱部312的保持部311旋转，由此，使保持到保持部311的晶圆W旋转。

第1处理液供给部320向晶圆W供给处理液。第1处理液供给部320与例如上述的罐102等处理液供给源连接。

回收杯330以包围保持部311的方式配置，对由于保持部311的旋转而从晶圆W飞散的处理液进行捕集。在回收杯330的底部形成有排液口331，被回收杯330捕集到的处理液从该排液口331向处理单元16的外部等排出。另外，在回收杯330的底部形成有将从FFU21供给的气体向处理单元16的外部排出的排气口332。

第2处理液供给部340向晶圆W供给第2处理液。作为第2处理液，能够使用例如DIW(纯水)。以下，以第2处理液是DIW的情况为例进行说明，但并不限于此，也可以是其他种类的处理液。

第2处理液供给部340具备设于回收杯330的周围的适当位置的喷出部341。喷出部341的一端与DIW供给源342连接，而在另一端设有喷出口341a。喷出口341a配置于从回收杯330的上部的开口面对晶圆W的场所，将从DIW供给源342供给来的DIW喷出。

不过，晶圆W被来自第1处理液供给部320的处理液实施基板处理，但由于基板处理的种类的不同，处理液有时涉及多种。在那样的情况下，在从例如当前向晶圆W供给的处理液切换成接下来的处理所使用的处理液之际，在切换所需的时间内不向晶圆W供给处理液。

因此，在处理单元16中，在处理液切换的时刻从第2处理液供给部340向晶圆W供给DIW，防止晶圆W的缺液(日文：液切れ)、干燥。

然而，在以往的处理单元中，DIW向晶圆W的供给开始时，使来自第2处理液供给部的DIW的喷出量逐渐增加，因此，DIW的轨迹成为图11所示的箭头“a”、箭头“b”、箭头“c”的顺序。因而，在例如DIW处于箭头“b”的状态的情况下，溅到回收杯330的外周面，并不优选。

因此，在第3实施方式中，在从DIW供给源342到喷出口341a之间设有抽吸部343。作为抽吸部343，能够使用例如倒吸阀，但并不限于此。

通过如上述那样构成，在将例如DIW向晶圆W供给的时刻，能够利用抽吸部343将DIW暂且抽回后使DIW喷出。由此，能够使喷出口341a处的DIW的流速(初速)增加，因此，DIW在刚刚喷出之后成为箭头“c”的状态，因而，能够防止DIW溅到回收杯330的外周面等不需要的部位。

(第4实施方式)

接下来，对第4实施方式的基板液处理装置100进行说明。图12是表示处理液供给系统的概略结构的图。

如图12所示，基板液处理装置100具备循环管线104，在该循环管线104上除了夹设有上述的泵106、过滤器108和加热器109之外，还夹设有开闭阀400和背压调整阀401。

详细而言，循环管线104具备：从罐102伸出后水平地延伸的第1水平部410；与第1水平部410的下游侧连接而朝向上方延伸的上升部411；与上升部411的下游侧连接而水平地延伸的第2水平部412。循环管线104还具备：与第2水平部412的下游侧连接而朝向下方延伸的下降部413；与下降部413的下游侧连接而水平地延伸的第3水平部414，第3水平部414的下游侧与罐102连接。另外，上述的开闭阀400和背压调整阀401设于第3水平部414。

不过，在基板液处理装置100中，有时进行在罐102和循环管线104流动的处理液的更换。在更换之际，首先，将罐102和循环管线104内的处理液从废液部118废弃。接下来，将新的处理液从罐液补充部116向罐102和循环管线104供给。

然而，若新的处理液经由循环管线104的第1水平部410、上升部411和第2水平部412到达下降部413处，则处理液在下降部413内落下。此时，例如，假设在如图12中以想像线所示的第3水平部414a那样下降部413的下游侧与第3水平部414a的上游侧直接连接了的情况下，在由虚线的圆围成的连接部位415，处理液碰到第3水平部414a而成为液滴状态。若该液滴状态的处理液向例如背压调整阀401供给，则在处理液与背压调整阀401的阀芯之间产生摩擦而产生静电，对背压调整阀401来说并不理想。

因此，在第4实施方式中，在下降部413的下游侧与第3水平部414的上游侧之间设有积液部416。由此，新的处理液在暂且积存到积液部416之后，向背压调整阀401流出，因此，液滴状态的处理液不会向背压调整阀401供给，能够防止在背压调整阀401产生静电。

此外，在上述内容中，在循环管线104设有积液部416，但并不限定于此。即、也可以是，在用于向例如循环管线104供给新的处理液的新液供给管线中，在截止阀的上游侧设置积液部。由此，不是液滴状态的新液从积液部向截止阀供给，能够恰当地进行截止阀中的流量调整。

此外，在上述的第1实施方式中，两个泵106a、106b与1个罐102连接，在第2实施方式中，1个第1泵106a与1个第1罐102a连接，也可以将它们适当组合。

另外，在上述内容中，配置于输送部15的基板输送装置17设为1台，但并不限于此，也可以是两台以上。

进一步的效果、变形例能够由本领域技术人员容易地导出。因此，本发明的更广泛的形态并不限定于如以上那样表述且叙述的特定的详细内容和代表性的实施方式。因而，不脱离由权利要求书及其等同物定义的总结性的发明的概念的精神或范围，能进行各种变更。

Claims (10)

1.一种基板液处理装置，其特征在于，

该基板液处理装置具备：

输送部，其配置有输送基板的输送装置；

处理部，其沿着水平方向与所述输送部相邻，配置有使用处理液来对所述基板进行处理的液处理单元；

贮存部，其贮存所述处理液；

供液机构，其将贮存到所述贮存部的所述处理液向所述液处理单元送出，

所述贮存部配置于所述输送部的正下方，

所述供液机构配置于所述处理部的正下方。

2.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，

包括所述贮存部和与该贮存部相对应的所述供液机构的设备群存在多组，所述多组的设备群以彼此分离了的状态收纳于收纳部。

3.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，

所述处理部具备第1处理部和第2处理部，利用所述输送部向所述第1处理部和所述第2处理部输送基板，

所述供液机构具备：

第1供液机构，其配置于所述第1处理部的正下方，与所述贮存部连接；

第2供液机构，其配置于所述第2处理部的正下方，与所述贮存部连接。

4.根据权利要求3所述的基板液处理装置，其特征在于，

所述第1处理部和所述第2处理部设于隔着所述输送部相对的位置。

5.根据权利要求3所述的基板液处理装置，其特征在于，

该基板液处理装置具备：

第1液配管，其将所述贮存部和所述第1供液机构连接；

第2液配管，其将所述贮存部和所述第2供液机构连接，

所述第1液配管的长度与所述第2液配管的长度相同。

6.根据权利要求3所述的基板液处理装置，其特征在于，

该基板液处理装置具备：

第1液配管，其将所述贮存部和所述第1供液机构连接；

第2液配管，其将所述贮存部和所述第2供液机构连接，

所述第1液配管以及所述第1供液机构与所述第2液配管以及所述第2供液机构以在俯视时成为点对称的方式配置。

7.根据权利要求3所述的基板液处理装置，其特征在于，

所述第1供液机构和所述第2供液机构具备被从空气供给部经由空气配管供给的空气驱动的泵，并且，

将所述空气供给部和所述第1供液机构的泵连接的所述空气配管的长度与将所述空气供给部和所述第2供液机构的泵连接的所述空气配管的长度相同。

8.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，

所述贮存部具备第1贮存部和第2贮存部，

所述处理部具备设于隔着所述输送部相对的位置的第1处理部和第2处理部，

所述供液机构具备：

第1供液机构，其配置于所述第1处理部的正下方，与所述第1贮存部连接；

第2供液机构，其配置于所述第2处理部的正下方，与所述第2贮存部连接。

9.根据权利要求8所述的基板液处理装置，其特征在于，

该基板液处理装置具备：

第1液配管，其将所述第1贮存部和所述第1供液机构连接；

第2液配管，其将所述第2贮存部和所述第2供液机构连接，

具有包括所述第1液配管和所述第1供液机构的第1设备群以及包括所述第2液配管和所述第2供液机构的第2设备群的群组存在多个，多个所述群组以在俯视时成为点对称的方式配置。

10.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，

所述处理部具备设于隔着所述输送部相对的位置的第1处理部和第2处理部，

所述第1处理部、所述第2处理部和所述输送部被收纳于能在用于收纳所述第1处理部和所述输送部的部分与用于收纳所述第2处理部的部分之间分割的收纳部。