JP6346447B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板に処理液を供給して基板を処理する基板処理装置に関する。

基板に供給される処理液の温度を一定に維持するために、従来より、処理液の温度を制御しつつ循環路を循環させ、循環路から処理部に処理液を導く技術が利用されている。特許文献１に開示される薬液処理装置では、循環タンクに溜められた処理液である薬液を交換する際に、循環タンクに新しい薬液を供給しつつ、循環路から戻ってくる薬液を循環タンクに戻すことなく装置から排出する。排出される薬液の濃度は薬液濃度計にて測定され、古い薬液の残留の有無が確認される。特許文献２に開示される基板処理装置においても、循環タンクに新しい薬液を供給する際には、薬液供給配管および薬液帰還配管を介して新しい薬液が循環される。

特開２００６−２６９７４３号公報 特開２００６−２４７９３号公報

ところで、従来の装置では、循環路内の処理液を新しいものに置換する際に、古い処理液が新しい処理液により押し出されるようにして排出される。そのため、処理液を完全に入れ替えるためには、多量の処理液を流す必要がある。処理液の入れ替えの際に処理液を一旦循環路から排出しておく対策が考えられるが、重力の作用により、あるいは、循環用のポンプでエアを送り込むことによっては、全ての処理液を循環路から排出することはできない。処理液の残留は、処理液の組成変化によるパーティクルの発生の要因にもなる。

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、処理液の入れ替えの際に消費される処理液の量を削減することを目的としている。

請求項１に記載の発明は、基板処理装置であって、処理液を貯溜する処理液タンクと、前記処理液タンクに接続される循環路と、前記処理液タンクから前記循環路を経由して前記処理液タンクへと処理液を循環させる循環ポンプと、前記循環路に接続され、前記処理液タンクからの処理液を用いて基板を処理する処理部と、前記処理液タンクよりも下方に位置し、前記処理部から処理液を回収する回収タンクと、前記回収タンクから処理液を前記処理液タンクへと送る返送ポンプと、前記循環路内の処理液を除去する際に前記循環路内の圧を開放する開放弁と、前記循環路と前記回収タンクとを接続し、前記開放弁を開けた場合に前記循環路内に残留する処理液の少なくとも一部を、重力により前記回収タンクへと導く補助排出路と、前記補助排出路を開閉する補助排出弁とを備える。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記循環路に接続され、前記処理液タンクからの処理液を用いて基板を処理する他の処理部をさらに備え、前記循環路が、前記処理部と前記他の処理部との間に位置する第１渡り部と、前記第１渡り部の上方または下方に位置し、かつ、前記他の処理部と前記処理液タンクとの間に位置する第２渡り部とを含み、前記補助排出路が、前記第１渡り部および前記第２渡り部のうち下側に位置する下側渡り部と前記回収タンクとを接続する。

請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置であって、前記第１渡り部と前記第２渡り部との間において、基板が搬送される。

請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置であって、前記第１渡り部と前記第２渡り部との間を介して、作業者がメンテナンス対象にアクセスする。

請求項５に記載の発明は、請求項２ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記処理部および前記他の処理部のそれぞれが、上下方向に配列された複数の枚葉式処理ユニットを含む。

請求項６に記載の発明は、請求項２ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記回収タンクが、水平方向において、前記処理部と前記他の処理部との間に位置する。

請求項７に記載の発明は、請求項２ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記下側渡り部に設けられた弁をさらに備え、前記下側渡り部のうち、前記弁よりも前記他の処理部側の部位が、前記補助排出路を介して前記回収タンクに接続される。

請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の基板処理装置であって、前記下側渡り部は、前記処理部と前記他の処理部との間に位置し、前記下側渡り部のうち、前記弁よりも前記処理部側の部位が、他の補助排出路を介して前記回収タンクに接続される。

請求項９に記載の発明は、請求項１ないし８のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記処理液タンクよりも下方に位置するドレンタンクと、前記循環路上に設けられたフィルタをさらに備え、前記循環路の前記フィルタの両側の部位が、弁を介して前記回収タンクまたは前記ドレンタンクに接続される。

請求項１０に記載の発明は、請求項１ないし８のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記処理液タンクよりも下方に位置するドレンタンクをさらに備え、前記処理液タンクよりも下方に前記循環ポンプが配置され、前記処理液タンクと前記循環ポンプとの間において、前記循環路と前記ドレンタンクとが弁を介して接続される。

本発明によれば、処理液の入れ替えの際に消費される処理液の量を削減することができる。

基板処理装置の概略を示す平面図である。 処理液システムを示す図である。 処理ユニットの概略を示す図である。 処理液システムを拡大して示す図である。

図１は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置１の概略を示す平面図である。基板処理装置１は、４つの処理タワー１１ａ〜１１ｄと、インデクサ部１２と、搬送ロボット１３とを備える。インデクサ部１２は、インデクサロボット１２１を有する。インデクサ部１２では、処理タワー１１ａ〜１１ｄとは反対側に、複数のカセット９１が配置される。各カセット９１は、水平状態の複数枚の半導体基板９（以下、「基板」という。）を上下に配列した状態で収容することができる。

インデクサロボット１２１は、矢印９２１にて示すようにカセット９１の配列方向に移動し、各カセット９１から基板９を取り出し、また、カセット９１に基板９を収納する。処理タワー１１ａと処理タワー１１ｂとの間には、載置台１４が位置する。インデクサロボット１２１は、矢印９２２にて示すように、載置台１４に基板９を載置したり、載置台１４から基板９を取り出すことが可能である。

搬送ロボット１３は、４つの処理タワー１１ａ〜１１ｄの間の中央に位置する。各処理タワー１１ａ〜１１ｄは処理部１１０を有し、搬送ロボット１３は、矢印９２３にて示すように、各処理部１１０との間で基板９を受け渡しすることができる。搬送ロボット１３は載置台１４に基板９を載置したり、載置台１４から基板９を取り出すことができる。したがって、載置台１４を介してインデクサロボット１２１と搬送ロボット１３とは基板９を受け渡しすることができる。処理タワー１１ａと処理タワー１１ｂとの間は、載置台１４を含む搬送路となっている。

図２は、２つの処理タワー１１ｃ，１１ｄにおける処理液システム２を示す図である。図２は、図１の左側から見た処理液システム２の概略を示す。処理液システム２は、２つの処理タワー１１ｃ，１１ｄにて共用される。そのため、以下、処理液システム２を、基板処理装置１において処理タワー１１ｃ，１１ｄとは別の構成要素とみなして説明する。処理タワー１１ｃ，１１ｄの間には、回収ユニット２０が配置される。処理部１１０は、処理タワー１１ｃ，１１ｄの上部に位置する。各処理部１１０は、複数の枚葉式の処理ユニット１１１を含む。複数の処理ユニット１１１は、上下方向に配列される。

２つの処理タワー１１ａ，１１ｂにおいても、図２と同様の処理液システム２が設けられる。この処理液システム２の回収ユニット２０は、図１の載置台１４の下方に位置する。

図３は、１つの処理ユニット１１１の概略構成を示す図である。断面における平行斜線を省略している。処理ユニット１１１は、環状のモータ３１と、基板９を保持する保持部３２と、基板９上に処理液を供給する供給ノズル３３と、遮断板３４と、カップ部３５と、ハウジング３６とを備える。処理液は、例えば、酸、アルカリ、有機溶剤またはそれらの混合物や希釈物などであり、具体的にはＳＣ１、ＳＣ２、フッ酸、塩酸、アンモニア、イソプロピルアルコール、フッ化アンモニウムを含む有機溶剤などが例示されるが、これらに限定するものではない。モータ３１は、環状のステータ３１１と、環状のロータ３１２とを備える。ステータ３１１からの磁気的作用により、ロータ３１２は浮遊状態にて回転する。

保持部３２は、ロータ３１２に固定される。ロータ３１２が回転することにより、基板９は保持部３２と共に回転する。遮断板３４は、保持部３２に保持された基板９の上面に近接する。遮断板３４も基板９と共に回転する。供給ノズル３３は遮断晩４の中央に設けられ、基板９の上面の中央に処理液を供給する。必要に応じて、基板９の下方にも、基板９の下面に純水等の処理液を供給するノズルが設けられる。カップ部３５は、基板９から飛散する処理液を回収する。カップ部３５は昇降可能である。

環状のモータ３１を利用することにより、処理ユニット１１１の高さを小さくすることができる。その結果、複数の処理ユニット１１１を容易に上下に配列することができ、処理液システム２の一部を処理部１１０の下方に容易に配置することができる。また、基板処理装置１のフットプリントも削減される。

図２に示すように、処理液システム２は、処理液を貯溜する処理液タンク２１と、処理液タンク２１に接続される循環路２２と、循環路２２上に配置される循環ポンプ２３１とを含む。循環ポンプ２３１により、処理液は、処理液タンク２１から循環路２２を経由して処理液タンク２１へと循環する。循環路２２上には、循環ポンプ２３１の下流側に、ヒータ２３２およびフィルタ２３３が順に配置される。

循環ポンプ２３１は、ロータが浮遊しつつ回転するモータを有する。これにより、循環ポンプ２３１の小型化および処理液の送出の際の脈動が抑制される。循環ポンプ２３１は側方から処理液を吸引し、上方へと送出する。そのため、ヒータ２３２は循環ポンプ２３１の上方に位置する。フィルタ２３３は、実際には、上下方向に長い。また、処理液の出入り口はフィルタ２３３の下部に設けられるため、循環路２２は、ヒータ２３２からフィルタ２３３に向かって下方へと向かう。

循環路２２上には、フィルタ２３３の下流側に弁２１１が設けられる。弁２１１は、処理液の循環を停止させる際に利用される。弁２１１から循環路２２は上方へと向かい、複数の処理ユニット１１１に沿ってさらに上方へと向かう。循環路２２は、処理タワー１１ｃの各処理ユニット１１１に接続される。各処理ユニット１１１には、処理液の吐出を制御する弁２１２が設けられる。

循環路２２は、処理タワー１１ｃの上部から処理タワー１１ｄの上部へと向かう上側渡り部２２１を含む。循環路２２は、処理タワー１１ｄにおいて、複数の処理ユニット１１１に沿って下方へと向かう。循環路２２は、処理タワー１１ｄの各処理ユニット１１１にも接続される。各処理ユニット１１１には、処理液の吐出を制御する弁２１２が設けられる。

循環路２２はさらに下方に向かい、回収ユニット２０を経由して処理タワー１１ｃへと向かう。循環路２２は、処理タワー１１ｄの下部から処理タワー１１ｃの下部へと向かう下側渡り部２２２を含む。下側渡り部２２２上には、リリーフ弁２１３が設けられる。循環路２２は、処理タワー１１ｃにおいて処理液タンク２１に戻る。

処理液は、処理液タンク２１から循環ポンプ２３１、ヒータ２３２、フィルタ２３３を経由して処理タワー１１ｃ内を上方へと向かい、上側渡り部２２１を介して処理タワー１１ｄへと移動し、処理タワー１１ｄ内を下方へと向かい、下側渡り部２２２を経由して処理液タンク２１へと戻る。循環路２２に処理タワー１１ｃ，１１ｄの処理部１１０が接続されることにより、ヒータ２３２にて温度が調整された処理液が処理部１１０に供給される。これにより、各処理ユニット１１１にて一定の温度の処理液を用いて基板９が処理される。

平面視した場合、上側渡り部２２１および下側渡り部２２２は、２つの処理部１１０の間に位置する。もちろん、上側渡り部２２１および下側渡り部２２２は、厳密な意味で２つの処理部１１０の間に位置する必要はなく、およそこれらの間に位置すればよい。下側渡り部２２２の位置は、平面視した場合、処理タワー１１ｄの処理部１１０と処理液タンク２１との間でもある。

上側渡り部２２１と下側渡り部２２２との間は空いており、作業者は、上側渡り部２２１と下側渡り部２２２との間を介して、搬送ロボット１３や処理部１１０等のメンテナンス対象にアクセスする。すなわち、図１に示すように、基板処理装置１の後方から、作業者は腕や上半身を上側渡り部２２１と下側渡り部２２２との間に挿入してメンテナンス作業を行う。

一方、処理タワー１１ａと処理タワー１１ｂとの間に存在する上側渡り部２２１と下側渡り部２２２との間も空いており、基板９は、上側渡り部２２１と下側渡り部２２２との間において搬送される。このように、２つの処理液システム２において、上側渡り部２２１と下側渡り部２２２との間の空間は有効に利用される。

上側渡り部２２１と下側渡り部２２２とが上下に離れて存在することにより、上側渡り部２２１および下側渡り部２２２の双方を処理タワーの上部または下部に設ける場合に比べて、循環路２２の全長を短くすることができる。したがって、上側渡り部２２１および下側渡り部２２２を設ける構造は、処理部１１０の高さ方向の幅が大きい場合に適しており、処理部１１０において複数の処理ユニット１１１が上下に配列される場合に特に適している。

処理液タンク２１の下方には、ドレンタンク２４が位置する。処理液タンク２１の下方であれば、ドレンタンク２４は処理液タンク２１の真下に位置する必要はない。処理液が廃棄される際には、処理液タンク２１とドレンタンク２４との間の弁２４１が開かれることにより、重力を利用して処理液が処理液タンク２１からドレンタンク２４へと移される。ドレンタンク２４には、必要に応じて冷却装置が設けられ、高温の処理液が冷却される。処理液は冷却後にドレンタンク２４から排出される。

回収ユニット２０には、回収タンク２５が設けられる。回収タンク２５は、回収路２５３にて各処理ユニット１１１に接続される。使用後の処理液が再利用される場合は、重力を利用して回収路２５３を介して処理部１１０から回収タンク２５に処理液が回収される。回収タンク２５は、処理液タンク２１よりも下方に位置する。回収タンク２５と処理液タンク２１とは、返送路２５１にて接続される。返送路２５１上には返送ポンプ２５２が設けられる。返送ポンプ２５２により、回収タンク２５から処理液が処理液タンク２１へと送られる。

回収タンク２５が２つの処理タワー１１ｃ，１１ｄの間に設けられることにより、回収タンク２５は、水平方向において、２つの処理部１１０の間に位置する。これにより、回収タンク２５と両処理部１１０との間の距離がおよそ等しくなり、回収タンク２５に回収される処理液の温度のばらつきを低減することができる。回収タンク２５を設けることにより、処理液を処理液タンク２１に直接戻す場合に比べて回収路２５３の配置の自由度が向上する。

図４は、処理液システム２を拡大して示す図である。処理液システム２では、循環路２２とドレンタンク２４とを接続する複数の配管と、循環路２２と回収タンク２５とを接続する複数の配管とが設けられる。具体的には、処理液タンク２１と循環ポンプ２３１との間の配管は、第１補助排出路４１を介してドレンタンク２４に接続される。フィルタ２３３のヒータ２３２側に接続される配管は、第２補助排出路４２を介してドレンタンク２４に接続される。フィルタ２３３の弁２１１側に接続される配管は、第３補助排出路４３を介してドレンタンク２４に接続される。

弁２１１の処理部１１０側に接続される配管は、第４補助排出路４４を介して回収タンク２５に接続される。リリーフ弁２１３の処理タワー１１ｃ側に接続される配管は、第５補助排出路４５を介して回収タンク２５に接続される。リリーフ弁２１３の処理タワー１１ｄ側に接続される配管は、第６補助排出路４６を介して回収タンク２５に接続される。第１ないし第６補助排出路４１〜４６上にはそれぞれ、これらの補助排出路を開閉する補助排出弁４１１，４２１，４３１，４４１，４５１，４６１が設けられる。

処理液タンク２１には外気に繋がる配管４７が接続され、配管４７上には開放弁４７１が設けられる。フィルタ２３３と弁２１１との間の配管は、配管４８を介して処理液タンク２１に接続される。配管４８上にも開放弁４８１が設けられる。

次に、処理液タンク２１および循環路２２内の処理液を入れ替える際の処理液システム２の動作について説明する。

まず、開放弁４７１が開けられ、処理液タンク２１内が大気圧へと開放される。また、弁２４１も開けられ、重力により処理液が処理液タンク２１からドレンタンク２４へと移動する。開放弁４８１も開けられる。弁２１１は開いた状態であるため、循環路２２内の圧が開放される。これにより、配管４８から循環路２２にエアが流入し、循環路２２の上部に存在する処理液が重力により下方へと移動し、ある程度の処理液が処理液タンク２１を経由してドレンタンク２４に流入する。この状態では、循環路２２の下部の複数箇所に処理液が残留する。そこで、第１ないし第６補助排出路４１〜４６の補助排出弁が開けられることにより、残留する処理液が重力を利用してドレンタンク２４または回収タンク２５に排出される。

具体的には，第１補助排出路４１の補助排出弁４１１が開けられることにより、処理液タンク２１とヒータ２３２との間に残留する処理液が自重およびサイフォン現象によりドレンタンク２４に排出される。第２補助排出路４２の補助排出弁４２１が開けられることにより、ヒータ２３２とフィルタ２３３との間に残留する処理液がドレンタンク２４に排出される。第３補助排出路４３の補助排出弁４３１が開けられることにより、フィルタ２３３と弁２１１との間に残留する処理液がドレンタンク２４に排出される。

第４補助排出路４４の補助排出弁４４１が開けられることにより、弁２１１と処理タワー１１ｃの処理部１１０との間に残留する処理液が回収タンク２５に排出される。第５補助排出路４５の補助排出弁４５１が開けられることにより、リリーフ弁２１３と処理液タンク２１との間に残留する処理液が回収タンク２５に排出される。第６補助排出路４６の補助排出弁４６１が開けられることにより、処理タワー１１ｄの処理部１１０とリリーフ弁２１３との間に残留する処理液が回収タンク２５に排出される。

回収タンク２５へと排出された処理液は返送ポンプ２５２により返送路２５１を介して処理液タンク２１に送られ、ドレンタンク２４へと排出される。このとき、返送路２５１内の処理液の残留を低減するために、返送ポンプ２５２にてエアを返送路２５１に送り込む、いわゆる「空打ち」が行われる。

次に、開放弁４７１，４８１並びに全ての補助排出弁が閉じられる。処理液タンク２１には洗浄水が貯留され、循環ポンプ２３１を駆動することによりて循環路２２内が洗浄水にて満される。その後、処理液の排出と同様の作業により、循環路２２から洗浄水が除去される。すなわち、開放弁４７１，４８１が開けられて循環路２２内の洗浄水の大部分が処理液タンク２１を介してドレンタンク２４へと排出される。さらに、全ての補助排出弁が開けられることにより、循環路２２内に残留する洗浄水の大部分がドレンタンク２４および回収タンク２５に排出される。回収タンク２５内の洗浄水は、返送ポンプ２５２により処理液タンク２１に戻され、ドレンタンク２４へと導かれて装置外へと排出される。循環路２２への洗浄水の充填および排出（いわゆる、フラッシング）は数回繰り返される。

循環路２２の洗浄が完了すると、開放弁４７１，４８１並びに全ての補助排出弁が閉じられる。処理液タンク２１には処理液が貯留され、循環ポンプ２３１を駆動することにより循環路２２内が処理液にて満される。その後、上述の排出作業により、循環路２２から処理液が除去される。処理液によるフラッシング、すなわち、循環路２２への処理液の充填および排出は数回繰り返される。これにより、十分な濃度の処理液により循環路２２が満たされる。

第１ないし第６補助排出路４１〜４６により、開放弁４７１，４８１を開けた場合に循環路２２内に残留する処理液または洗浄水の大部分が重力によりドレンタンク２４または回収タンク２５へと導かれる。これにより、処理液の排出後に行われる循環路２２への洗浄水の充填および排出の回数（以下、「フラッシング回数」という。）を削減することができる。同様に、洗浄後の循環路２２への処理液のフラッシング回数も削減することができる。その結果、循環路２２内の処理液の入れ替えに要する時間が短縮され、かつ、洗浄水および処理液の消費量を削減することができる。

特に、第３ないし第６補助排出路４３〜４６のように、循環路２２と回収タンク２５とを接続し、開放弁４７１，４８１を開けた場合に循環路２２内に留まる処理液の少なくとも一部を、重力により回収タンク２５へと導く補助排出路を設けることにより、循環路２２を大気開放した際に循環路２２内に残留する液体の量を、容易に削減することができる。なお、開放弁４７１，４８１と補助排出弁を開く動作とはいずれが先に行われてもよく、同時に行われてもよい。したがって、上述の「開放弁４７１、４８１を開けた場合に循環路２２内に残留する処理液」とは、補助排出路が閉じた状態で開放弁を開けることを仮定した場合の表現であり、必ずしも実際の動作を表現するものではない。

また、循環ポンプ２３１から循環路２２にエアを送り込む空打ちにて取り除くことができない残留液も、基板処理装置１では容易に取り除くことができるため、この空打ち動作も不要となる。

下側渡り部２２２には処理液が残留する可能性が高いため、下側渡り部２２２と回収タンク２５とを接続する補助排出路が設けられることが好ましい。これにより、循環路２２の配置の自由度が増す。特に、下側渡り部２２２の高さがドレンタンク２４の上部とほぼ同じまたはドレンタンク２４の上部よりも低い場合、下側渡り部２２２と回収タンク２５との接続は、残留処理液の低減に効果的である。

上記実施の形態では、下側渡り部２２２では処理液は処理タワー１１ｄから処理タワー１１ｃに向かって流れるが、上側渡り部２２１および下側渡り部２２２における処理液の流れの方向は、逆でもよい。すなわち、処理タワー１１ｃの処理部１１０と処理タワー１１ｄの処理部１１０との間に下側渡り部２２２が位置し、処理タワー１１ｄの処理部１１０と処理液タンク２１との間に上側渡り部２２１が位置してもよい。

本実施の形態のように、下側渡り部２２２に弁２１３が設けられる場合、弁２１３よりも処理タワー１１ｄの処理部１１０側の部位はドレンタンク２４から遠いため、この部位に残留する処理液は、ドレンタンク２４に導くことは困難である。したがって、この部位と回収タンク２５とが第６補助排出路４６により接続されることにより、処理液の残留量削減が容易に実現される。もちろん、弁２１３よりも処理タワー１１ｃの処理部１１０側の部位もドレンタンク２４から離れているため、この部位に残留する処理液も、ドレンタンク２４に導くことは比較的困難である。したがって、この部位と回収タンク２５とが第５補助排出路４５により接続されることも好ましい。

特に、弁２１３がリリーフ弁である場合、圧低下時に弁２１３がほぼ閉じた状態となるため、弁２１３の両側に位置する配管と回収タンク２５とが接続されることが好ましい。

また、既述のように、フィルタ２３３の両側の配管の位置は低いため、循環路２２のフィルタ２３３の両側の部位が、第２補助排出路４２および第３補助排出路４３の補助排出弁４２１，４３１を介してドレンタンク２４に接続されることが好ましい。なお、フィルタ２３３の両側の配管は、回収タンク２５に接続されてもよい。

循環ポンプ２３１は、処理液タンク２１から処理液が容易に導かれるように処理液タンク２１よりも下方に配置される。そのため、循環ポンプ２３１の周辺では液残りが生じる。したがって、処理液タンク２１と循環ポンプ２３１との間において、循環路２２とドレンタンク２４とが第１補助排出路４１および第１補助排出弁４１１を介して接続されることが好ましい。

基板処理装置１では、様々な変形が可能である。

例えば、基板処理装置１では、多くの障害物により配管のレイアウトに制限があるため、循環路２２には様々な水平な部分が存在する。そのため、循環路２２の比較的位置が高い部位であっても、回収タンク２５やドレンタンク２４に接続されてよい。

開放弁４７１，４８１は、１つの弁として設けられてもよい。３以上の弁として設けられてもよい。

回収タンク２５は、複数の処理部１１０からおよそ等距離に位置するのであれば、任意の位置に設けられてよい。例えば、搬送ロボット１３の下に回収タンク２５が位置してもよい。

１つの処理液システム２に接続される処理部１１０の数は３以上でもよい。１つの処理液システム２は１つの処理部１１０のみに接続されてもよい。

上記実施形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。

１ 基板処理装置
９ 基板
２１ 処理液タンク
２２ 循環路
２４ ドレンタンク
２５ 回収タンク
４１，４２，４３，４４，４５，４６ （第１〜第６）補助排出路
１１０ 処理部
１１１ 処理ユニット
２１３ リリーフ弁
２２１ 上側渡り部
２２２ 下側渡り部
２３１ 循環ポンプ
２３３ フィルタ
２５２ 返送ポンプ
４１１，４２１，４３１，４４１，４５１，４６１ （第１〜第６）補助排出弁
４７１，４８１ 開放弁

Claims (10)

1. 基板処理装置であって、
   処理液を貯溜する処理液タンクと、
   前記処理液タンクに接続される循環路と、
   前記処理液タンクから前記循環路を経由して前記処理液タンクへと処理液を循環させる循環ポンプと、
   前記循環路に接続され、前記処理液タンクからの処理液を用いて基板を処理する処理部と、
   前記処理液タンクよりも下方に位置し、前記処理部から処理液を回収する回収タンクと、
   前記回収タンクから処理液を前記処理液タンクへと送る返送ポンプと、
   前記循環路内の処理液を除去する際に前記循環路内の圧を開放する開放弁と、
   前記循環路と前記回収タンクとを接続し、前記開放弁を開けた場合に前記循環路内に残留する処理液の少なくとも一部を、重力により前記回収タンクへと導く補助排出路と、
   前記補助排出路を開閉する補助排出弁と、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置であって、
   前記循環路に接続され、前記処理液タンクからの処理液を用いて基板を処理する他の処理部をさらに備え、
   前記循環路が、
   前記処理部と前記他の処理部との間に位置する第１渡り部と、
   前記第１渡り部の上方または下方に位置し、かつ、前記他の処理部と前記処理液タンクとの間に位置する第２渡り部と、
   を含み、
   前記補助排出路が、前記第１渡り部および前記第２渡り部のうち下側に位置する下側渡り部と前記回収タンクとを接続することを特徴とする基板処理装置。
3. 請求項２に記載の基板処理装置であって、
   前記第１渡り部と前記第２渡り部との間において、基板が搬送されることを特徴とする基板処理装置。
4. 請求項２に記載の基板処理装置であって、
   前記第１渡り部と前記第２渡り部との間を介して、作業者がメンテナンス対象にアクセスすることを特徴とする基板処理装置。
5. 請求項２ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記処理部および前記他の処理部のそれぞれが、上下方向に配列された複数の枚葉式処理ユニットを含むことを特徴とする基板処理装置。
6. 請求項２ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記回収タンクが、水平方向において、前記処理部と前記他の処理部との間に位置することを特徴とする基板処理装置。
7. 請求項２ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記下側渡り部に設けられた弁をさらに備え、
   前記下側渡り部のうち、前記弁よりも前記他の処理部側の部位が、前記補助排出路を介して前記回収タンクに接続されることを特徴とする基板処理装置。
8. 請求項７に記載の基板処理装置であって、
   前記下側渡り部は、前記処理部と前記他の処理部との間に位置し、
   前記下側渡り部のうち、前記弁よりも前記処理部側の部位が、他の補助排出路を介して前記回収タンクに接続されることを特徴とする基板処理装置。
9. 請求項１ないし８のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記処理液タンクよりも下方に位置するドレンタンクと、
   前記循環路上に設けられたフィルタをさらに備え、
   前記循環路の前記フィルタの両側の部位が、弁を介して前記回収タンクまたは前記ドレンタンクに接続されることを特徴とする基板処理装置。
10. 請求項１ないし８のいずれかに記載の基板処理装置であって、
    前記処理液タンクよりも下方に位置するドレンタンクをさらに備え、
    前記処理液タンクよりも下方に前記循環ポンプが配置され、前記処理液タンクと前記循環ポンプとの間において、前記循環路と前記ドレンタンクとが弁を介して接続されることを特徴とする基板処理装置。

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