CN106990618B - 阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种阵列基板，所述阵列基板被划分为显示区和环绕所述显示区设置的周边区，所述阵列基板包括取向膜、设置在所述显示区的平坦化层和设置在所述周边区的周边电路，其中，所述阵列基板还包括设置在所述周边电路上方的绝缘层，所述取向膜设置在所述绝缘层上方，所述取向膜为取向膜材料层经光配向获得，所述绝缘层能够吸收和/或反射对所述取向膜材料进行光配向时的配向光。本发明还提供所述阵列基板的制造方法、显示面板和显示装置。所述阵列基板中不容易出现相框Mura。

Description

阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种阵列基板、该阵列基板的制造方法、包括该阵列基板的显示面板和包括该显示面板的显示装置。
背景技术
目前，薄膜晶体管型的液晶显示面板已经成为显示领域的主流产品。液晶显示面板包括阵列基板和对盒基板，其中，阵列基板和对盒基板上均设置有取向膜，以为设置在阵列基板和对盒基板之间的液晶材料提供初始取向。
制造取向膜的方法有两种，一种是摩擦配向法，另一种是光配向法。其中，利用光配向法获得的取向膜不会产生碎屑、摩擦Mura等缺陷。并且，包括光配向法制得的取向膜的显示面板还具有高开口率、高对比度、响应速度快等优点。
但是，具有光配向法获得的取向膜的显示面板中常常会出现相框Mura等不良(即，环绕显示区出现Mura不良)现象。
因此，如何消除包括光配向法获得的取向膜的显示面板中的相框Mura不良成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种阵列基板、该阵列基板的制造方法、包括所述阵列基板的显示面板和包括所述显示面板的显示装置。所述显示装置中出现Mura不良的概率被大大降低。
为了实现上述目的，作为本发明的一个方面，提供一种阵列基板，所述阵列基板被划分为显示区和环绕所述显示区设置的周边区，所述阵列基板包括取向膜、设置在所述显示区的平坦化层和设置在所述周边区的周边电路，其中，所述阵列基板还包括设置在所述周边电路上方的绝缘层，所述取向膜设置在所述绝缘层上方，所述取向膜为取向膜材料层经光配向获得，所述绝缘层能够吸收和/或反射对所述取向膜材料进行光配向时的配向光。
优选地，所述绝缘层包括绝缘基体和形成在所述绝缘基体表面的反光结构，所述绝缘基体能够吸收所述配向光的一部分，所述反光结构能够反射所述配向光的一部分。
优选地，所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面的多个凹槽；或者
所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面上的多个凸起。
优选地，所述绝缘层为由红色彩膜层材料制成。
作为本发明的第二个方面，提供一种阵列基板的制造方法，其中，制造方法包括：
提供初始基板，所述初始基板被划分为显示区和环绕该显示区的周边区，所述初始基板包括设置在所述周边区的周边电路和设置在所述显示区的平坦化层；
在所述周边电路上形成绝缘层，所述绝缘层能够吸收和/或反射配向光；
在形成有所述绝缘层的初始基板上形成取向膜材料层；
利用所述配向光照射所述取向膜材料层，以获得取向膜，并获得所述阵列基板。
优选地，在所述周边电路上形成绝缘层的步骤包括：
在所述周边电路上设置绝缘材料层，所述绝缘材料能够吸收部分所述配向光；
对所述绝缘材料层进行构图，以获得所述绝缘层，所述绝缘层包括绝缘基体和由构图获得的反光结构，所述反光结构能够反射部分所述配向光。
优选地，所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面的凹槽；或者
所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面上的多个凸起。
优选地，所述绝缘层的材料包括红色彩膜层材料。
作为本发明的第三个方面，提供一种显示面板，所述显示装置包括阵列基板，其中，所述阵列基板为本发明所提供的上述的阵列基板。
作为本发明的第四个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括显示面板，其中，所述显示面板为本发明所提供的上述显示面板。
在对取向膜材料层进行光配向时，配向光穿透取向膜材料层后，被绝缘层吸收和/或反射，不会到达周边电路，因此，进而不会到达平坦化层，因此，所述平坦化层不会受到配向光的影响，从而能够保证良好的密封性能，不会受到后续工艺中的水汽腐蚀。也就是说，包括所述阵列基板的显示面板中不会出现相框Mura等不良。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是现有技术中阵列基板的局部结构图；
图2是光配向法获得的本发明所提供的阵列基板的第一种实施方式的局部示意图；
图3是光配向法获得的的本发明所提供的阵列基板的第二种实施方式的局部示意图；
图4是本发明所提供的阵列基板的制造方法的流程图。
附图标记说明
100：周边电路 200：取向膜材料层
300：平坦化层 400：显示电路
500：紫外光源 600：偏光片
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
在本发明中，提到的方位词“上”、“下”均是以图2和图3帧的“上”、“下”方向为基准进行的描述。
经本发明的发明人研究发现，包括光配向获得的取向膜的显示面板中容易出现相框Mura的原因在于，在光配向过程中，周边电路将配向光反射至平坦化层，导致平坦化层感光受损。具体地，如图1所示，阵列基板包括显示区和周边区，平坦化层300设置在显示区内，周边电路100设置在周边区中。在制备取向膜时，首先设置取向膜材料层200，在取向膜材料层200上方设置偏光片600，并利用紫外光源500照射，紫外光透过偏光片600到达取向膜材料层200，并进一步到达周边电路100。由于周边电路100包括金属走线，会将照射在其上的紫外线反射至平坦化层300的边缘处。由于平坦化层300是由光敏感的有机树脂材料制成，因此，周边电路600反射的紫外线造成平坦化层损坏，破坏了密封性能。在后续的高温高湿环境中，水汽投入，并对平坦化层下方的显示电路400造成腐蚀，并最终形成了相框Mura。
为了解决上述问题，作为本发明的一个方面，提供一种阵列基板，所述阵列基板被划分为显示区和环绕所述显示区设置的周边区，如图和图3所示，所述阵列基板包括取向膜、设置在所述显示区的平坦化层和设置在所述周边区的周边电路100，其中，所述阵列基板还包括设置在周边电路100上方的绝缘层700，所述取向膜设置在绝缘层700上方，所述取向膜为取向膜材料层200经光配向获得，绝缘层700能够吸收和/或反射对所述取向膜材料层进行光配向时的配向光。
在对取向膜材料层200进行光配向时，配向光穿透取向膜材料层后，被绝缘层700吸收和/或反射，不会到达周边电路100，因此，进而不会到达平坦化层，因此，所述平坦化层不会受到配向光的影响，从而能够保证良好的密封性能，不会受到后续工艺中的水汽腐蚀。也就是说，包括所述阵列基板的显示面板中不会出现相框Mura等不良。
绝缘层700可以对透过取向膜材料层200的配向光进行完全吸收，防止配向光到达周边电路100。
绝缘层成700还可以对透过取向膜材料层200的配向光进行完全反射，防止配向光到达周边电路100。
周边电路可以包括移位寄存器、边缘轴线等电路结构。
作为本发明的一种具体实施方式，绝缘层700可以吸收部分配向光并反射部分配向光，从而可以防止配向光到达周边电路。为了实现这一目的，如图2和图3所示，绝缘层700包括绝缘基体710和形成在绝缘基体710表面的反光结构720，绝缘基体710能够吸收所述配向光的一部分，反光结构720能够反射所述配向光的一部分。
通过绝缘基体710与反光结构720相结合，可以更好地防止配向光到达周边电路100。
在本发明中，对反光结构720的具体结构并没有特殊的限定。例如，在图2中所示的具体实施方式中，反光结构720包括形成在绝缘基体720表面的多个凹槽。当配向光透过取向膜材料层到达绝缘层后，一部分进入凹槽内，由凹槽表面进行反射，另一部分直接被绝缘基体720吸收。
在图3中所示的具体实施方式中，反光结构包括形成在绝缘基体720表面的多个凸起。当配向光透过取向膜材料层到达绝缘层后，一部分由凸起表面进行反射，另一部分直接被绝缘基体720吸收。
如上文中所述，通常利用紫外光对取向膜材料层200进行光配向。因此，只要绝缘层700能够吸收波长不小于紫外光的光线即可。
优选地，绝缘层700可以由红色的绝缘材料制成。例如，绝缘层为由红色彩膜层材料制成。
由于红色彩膜层材料为有机材料，通过光刻构图工艺可以获得所述反光结构。
作为本发明的第二个方面，提供一种阵列基板的制造方法，其中，如图4所示，所述制造方法包括：
在步骤S110中，提供初始基板，所述初始基板被划分为显示区和环绕该显示区的周边区，所述初始基板包括设置在所述周边区的周边电路和设置在所述显示区的平坦化层；
在步骤S120中，在所述周边电路上形成绝缘层，所述绝缘层能够吸收和/或反射配向光；
在步骤S130中，在形成有所述绝缘层的初始基板上形成取向膜材料层；
在步骤S140中，利用所述配向光照射所述取向膜材料层，以获得取向膜，并获得所述阵列基板。
上述制造方法用于制造本发明所提供的上述阵列基板。
由于步骤S120中在周边电路上设置了所述绝缘层，因此，在步骤S140中，配向光透过所述取向膜材料层之后，被所述绝缘层吸收和/或反射，不会到达所述周边电路上，因此，也不会被周边电路反射至平坦化层，从而确保了平坦化层的完整性。完整的平坦化层具有良好的密封性能，后续工艺中的水汽不会对平坦化层下方的像素电路造成侵蚀，因此，利用本发明所提供的方法制造获得的阵列基板不会出现相框Mura等不良。
在本发明中，对步骤S130并没有特殊的步骤，作为一种优选实施方式，步骤S130可以包括：
设置取向膜材料层200；
在取向膜材料层200上方设置偏光片600，并利用紫外光源500照射，以获得取向膜。
作为一种优选实施方式，所述初始基板可以包括衬底基板、形成在衬底基板上的栅极图形层、形成在栅极图形层上方的栅绝缘层、形成在栅绝缘层上方的有源图形层以及公共电极层、形成在所述有源图形层上方的源漏图形层、形成在所述源漏图形层上方的平坦化层、形成在所述平坦化层上的像素电极层。当然，本发明并不限于此。
如上文中所述，所述绝缘层可以只反射配向光，也可以只吸收配向光。在图2和图3所示的具体实施方式中，绝缘层可以反射一部分配向光并吸收一部分配向光。相应地，步骤S120可以包括：
在步骤S121中，在所述周边电路上设置绝缘材料层，所述绝缘材料能够吸收部分所述配向光；
在步骤S122中，对所述绝缘材料层进行构图，以获得所述绝缘层，所述绝缘层包括绝缘基体和由构图获得的反光结构，所述反光结构能够反射部分所述配向光。
如上文中所述，所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面的凹槽；或者所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面上的多个凸起。
在本发明中，对所述绝缘层的具体材料没有特殊的限定，例如，所述绝缘层的材料包括红色彩膜层材料。
紫外光源500可以发出波长为350nm至400nm的紫外光。红色彩膜层材料可以吸收波长小于620nm的光，因此，可以吸收紫外光。
由于红色彩膜层材料为有机树脂，因此，只需要对所述红色彩膜层进行曝光显影即可获得图2和图3中所示的绝缘层。
优选地，可以利用半色调掩膜板对形成在周边区的红色彩膜层材料进行曝光。
作为本发明的第三个方面，提供一种显示面板，该显示面板包括阵列基板，其中，所述阵列基板为本发明所提供的上述阵列基板。
如上文中所述，由于所述周边电路与所述取向膜之间形成有绝缘层，因此，在对取向膜材料层进行光配向时，配向光不会到达周边电路，因此，不会被周边电路反射至平坦化层，从而可以确保平坦化层的完整性，后续工艺中不会出现水汽侵蚀像素电路，进而可以避免因水汽侵蚀像素电路而导致的相框Mura。也就是说，所述显示面板具有较高的良率。
所述显示面板为液晶显示面板，因此，所述显示面板还包括与所述阵列基板对盒设置的对盒基板。为了实现彩色显示，可以在所述阵列基板或者所述对盒基板上设置彩膜层。
如上文中所述，所述绝缘层可以由红色彩膜层材料制成，因此，当将彩膜层设置在阵列基板上时，可以在制造彩膜层的同时制造所述绝缘层。
作为本发明的第四个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括显示面板，其中，所述显示面板为本发明所提供的上述显示面板。
如上文中所述，所述显示装置在进行显示时不会出现相框Mura等不良。并且，由于所述取向膜由光配向的方法获得，因此，所述显示装置具有较高的开口率、高对比度、响应速度快等优点。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种阵列基板，所述阵列基板被划分为显示区和环绕所述显示区设置的周边区，所述阵列基板包括取向膜、设置在所述显示区的平坦化层和设置在所述周边区的周边电路，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述周边电路上方的绝缘层，所述取向膜设置在所述绝缘层上方，所述取向膜为取向膜材料层经光配向获得，所述绝缘层能够吸收和/或反射对所述取向膜材料进行光配向时的配向光。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层包括绝缘基体和形成在所述绝缘基体表面的反光结构，所述绝缘基体能够吸收所述配向光的一部分，所述反光结构能够反射所述配向光的一部分。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面的多个凹槽；或者
所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面上的多个凸起。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层为由红色彩膜层材料制成。
5.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，制造方法包括：
提供初始基板，所述初始基板被划分为显示区和环绕该显示区的周边区，所述初始基板包括设置在所述周边区的周边电路和设置在所述显示区的平坦化层；
在所述周边电路上形成绝缘层，所述绝缘层能够吸收和/或反射配向光；
在形成有所述绝缘层的初始基板上形成取向膜材料层；
利用所述配向光照射所述取向膜材料层，以获得取向膜，并获得所述阵列基板。
6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，在所述周边电路上形成绝缘层的步骤包括：
在所述周边电路上设置绝缘材料层，所述绝缘材料能够吸收部分所述配向光；
对所述绝缘材料层进行构图，以获得所述绝缘层，所述绝缘层包括绝缘基体和由构图获得的反光结构，所述反光结构能够反射部分所述配向光。
7.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面的凹槽；或者
所述反光结构包括形成在所述绝缘基体表面上的多个凸起。
8.根据权利要求5至7中任意一项所述的制造方法，其特征在于，所述绝缘层的材料包括红色彩膜层材料。
9.一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板，其特征在于，所述阵列基板为权利要求1至5中任意一项所述的阵列基板。
10.一种显示装置，所述显示装置包括显示面板，其特征在于，所述显示面板为权利要求9所述的显示面板。
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