CN106950758B - 一种显示面板及其制程和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种显示面板及其制程和显示装置，所述显示面板包括基板；电极层，所述电极层设置在所述基板上；所述电极层上设置有第一缺陷位和电极修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上。本发明由于对电极层上的第一缺陷位直接使用透明导电修补层进行修补，使得电极层恢复正常工作的功能，解决配向不良的问题具有更佳的显示品味，更提高了修补成功率，避免因为缺陷过大造成报废。

Description

一种显示面板及其制程和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，更具体的说，涉及一种显示面板及其制程和显示装置。
背景技术
液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶面板及背光模组(backlightmodule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
其中，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay，TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面品质以及较高的生产良率等性能，目前已经逐渐占据了显示领域的主导地位。同样，薄膜晶体管液晶显示器包含液晶面板和背光模组，液晶面板包括彩膜基板(ColorFilter Substrate，CF Substrate，也称彩色滤光片基板)、薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Substrate，TFTSubstrate)和光罩(Mask)，上述基板的相对内侧存在透明电极。两片基板之间夹一层液晶分子(LiquidCrystal，LC)。
然而在设置间隔单元(photo spacer，PS)后通常需要进行修补，例如有异物附着，由于异物与基板间的附着性差，在对异物的清除时容易产生因移除异物而导致电极层部分剥落出现缺陷，或者存在的其他导致电极层部分剥落出现缺陷的情形，这样在工作时缺陷区域附近的液晶将无法正常动作，彩膜基板和或阵列基板无Vcom电位，电位出现Floating，导致点灯时会有配向不良的问题，例如偏黑异常，因此显示品味降低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种修补成功率高、配向正常的显示面板。
此外，本发明还提供一种显示面板的制程。
另外，本发明还提供一种显示装置。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：
一种显示面板，所述显示面板包括
基板；
电极层，所述电极层设置在所述基板上；
所述电极层上设置有第一缺陷位和电极修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上。
其中，所述透明导电修补层采用胶体材料。胶体(Colloid)又称胶状分散体(colloidal dispersion)是一种较均匀混合物，在胶体中含有两种不同状态的物质，一种分散相，另一种连续相。分散质的一部分是由微小的粒子或液滴所组成，分散质粒子直径在1-100nm之间的分散系是胶体；胶体是一种分散质粒子直径介于粗分散体系和溶液之间的一类分散体系，这是一种高度分散的多相不均匀体系。
其中，所述胶体材料的成分为氧化铟、氧化锡、氧化锌、或前述成分的混合物。氧化铟是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性。氧化锡一种优秀的透明导电材料，为了提高其导电性和稳定性，常进行掺杂使用。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能。
其中，所述显示面板包括第一光阻层，所述第一光阻层覆置在所述电极层表面，所述第一光阻层对应所述第一缺陷位的位置设置有第二缺陷位和第一光阻修补层。第二光阻层覆盖设置在电极层表面的情形时，第二缺陷位与第一缺陷位的位置相对应，透明导电修补层覆置于第一缺陷位进行修补，第一光阻修补层覆置于第二缺陷位进行修补。
其中，所述显示面板包括第二光阻层，所述电极层覆置在所述第二光阻层表面，所述第二光阻层对应第一缺陷位的位置设置有第三缺陷位和第二光阻修补层。电极层覆盖设置在第二光阻层表面的情形时，第三缺陷位与第一缺陷位的位置相对应，第二光阻修补层覆置于第三缺陷位进行修补，透明导电修补层覆置于第一缺陷位进行修补。
其中，所述基板包括第一基板，第一基板上设置有主动开关；所述电极层包括与主动开关耦合的像素电极层；所述像素电极层上设置有所述第一缺陷位和所述透明导电修补层。显示面板的具体设置，像素电极层上设置有第一缺陷位和透明导电修补层。
其中，所述基板包括第二基板，所述电极层包括覆盖在第二基板上的公共电极层；所述公共电极层上设置有所述第一缺陷位和所述透明导电修补层。显示面板的具体设置，公共电极层上设置有第一缺陷位和透明导电修补层。
根据本发明的另一个方面，本发明还公开了一种显示面板的制程，所述显示面板包括基板，包括步骤：
在所述基板上设置电极层；
所述电极层具有第一缺陷位，在所述第一缺陷位上覆置透明导电修补层。
其中，所述显示面板的制程采用油墨涂布方式。油墨涂布(INK)的方式效果佳，粘附性能优异，操作工艺简单，不容易出现脱落和漏光的现象。
根据本发明的另一个方面，本发明还公开了一种显示装置，所述显示装置包括背光模组和上述任一项所述的显示面板。
与现有技术相比，本发明的技术效果是：
本发明由于对电极层上的第一缺陷位直接使用透明导电修补层进行修补，使得电极层恢复正常工作的功能，解决配向不良的问题具有更佳的显示品味，更提高了修补成功率，避免因为缺陷过大造成报废。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
图1是本发明实施例一种显示面板的结构示意图；
图2是本发明实施例一种显示面板的结构示意图；
图3是本发明实施例一种显示面板的结构示意图；
图4是本发明实施例一种显示面板的结构示意图；
图5是本发明实施例一种显示面板的结构示意图；
图6是本发明实施例一种显示面板的制程示意图。
其中，1、基板；11、第一基板；12、第二基板；2、电极层；21、像素电极层；22、公共电极层；23、第一缺陷位；24、透明导电修补层；3、异物；5、第一光阻层；51、第二缺陷位；6、第二光阻层；61、第三缺陷位；7、主动开关。
具体实施方式
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
这里所使用的术语仅仅是为了描述具体实施例而不意图限制示例性实施例。除非上下文明确地另有所指，否则这里所使用的单数形式“一个”、“一项”还意图包括复数。还应当理解的是，这里所使用的术语“包括”和/或“包含”规定所陈述的特征、整数、步骤、操作、单元和/或组件的存在，而不排除存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步详细说明。
作为本发明的一个实施例，如图1所示，所述显示面板包括基板；电极层，所述电极层设置在所述基板上；所述电极层上设置有第一缺陷位和电极修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上。由于对电极层上的第一缺陷位直接使用透明导电修补层进行修补，使得电极层恢复正常工作的功能，解决配向不良的问题具有更佳的显示品味，更提高了修补成功率，避免因为缺陷过大造成报废。
具体的，所述透明导电修补层采用胶体材料。胶体(Colloid)又称胶状分散体(colloidal dispersion)是一种较均匀混合物，在胶体中含有两种不同状态的物质，一种分散相，另一种连续相。分散质的一部分是由微小的粒子或液滴所组成，分散质粒子直径在1-100nm之间的分散系是胶体；胶体是一种分散质粒子直径介于粗分散体系和溶液之间的一类分散体系，这是一种高度分散的多相不均匀体系。其中，电极层2中包括材质氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或其他透明导电材料，所以透明导电修补层6的组成可采用例如为复数透明导电例子以及溶剂等所组成。
具体的，所述胶体材料的成分为氧化铟、氧化锡、氧化锌、或前述成分的混合物。氧化铟是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性。氧化锡一种优秀的透明导电材料，为了提高其导电性和稳定性，常进行掺杂使用。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能。代表性的TCO材料有氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化镉、四氧化二铟镉、四氧化锡二镉、四氧化锡二锌和氧化铟-氧化锡等。这些氧化物半导体的能隙都在3eV以上，所以可见光(约1.6-3.3eV)的能量不足以将价带(valence band)的电子激发到导带(conduction band)，只有波长在350-400nm(紫外线)以下的光才可以。因此，由电子在能带间迁移而产生的光吸收，在可见光范围中不会发生，TCO对可见光为透明。如果进一步地在氧化铟中加入Sn(成为ITO)，在氧化锡中加入Sb、F，或在ZnO中加入In、Ga(成为GZO)或A1(成为AZO)等掺杂物，可将载子(carrier)的浓度增加到10-10cm，使比电阻降低。这些掺杂物，例如在ITO中为4价的Sn置换了3价的In位置，GZO或AZO中则是3价的Ga或A1置换了2价的Zn，因此一个掺杂物原子可以提供一个载子。然而现实中并非所有掺杂物都是这种置换型固溶，它们有可能以中性原子存在于晶格间，成为散射中心，或偏析在晶界或表面上。要如何有效地形成置换型固溶，提升掺杂的效率，对于低电阻透明导电膜的制作是非常重要的。
作为本发明的又一个实施例，如图2所示，所述显示面板包括基板；电极层，所述电极层设置在所述基板上；所述电极层上设置有第一缺陷位和电极修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上。所述显示面板包括第一光阻层，所述第一光阻层覆置在所述电极层表面，所述第一光阻层对应所述第一缺陷位的位置设置有第二缺陷位和第一光阻修补层。
具体的，所述透明导电修补层采用胶体材料。胶体(Colloid)又称胶状分散体(colloidal dispersion)是一种较均匀混合物，在胶体中含有两种不同状态的物质，一种分散相，另一种连续相。分散质的一部分是由微小的粒子或液滴所组成，分散质粒子直径在1-100nm之间的分散系是胶体；胶体是一种分散质粒子直径介于粗分散体系和溶液之间的一类分散体系，这是一种高度分散的多相不均匀体系。其中，电极层2中包括材质氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或其他透明导电材料，所以透明导电修补层6的组成可采用例如为复数透明导电例子以及溶剂等所组成。
具体的，所述胶体材料的成分为氧化铟、氧化锡、氧化锌、或前述成分的混合物。氧化铟是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性。氧化锡一种优秀的透明导电材料，为了提高其导电性和稳定性，常进行掺杂使用。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能。代表性的TCO材料有氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化镉、四氧化二铟镉、四氧化锡二镉、四氧化锡二锌和氧化铟-氧化锡等。这些氧化物半导体的能隙都在3eV以上，所以可见光(约1.6-3.3eV)的能量不足以将价带(valence band)的电子激发到导带(conduction band)，只有波长在350-400nm(紫外线)以下的光才可以。因此，由电子在能带间迁移而产生的光吸收，在可见光范围中不会发生，TCO对可见光为透明。如果进一步地在氧化铟中加入Sn(成为ITO)，在氧化锡中加入Sb、F，或在ZnO中加入In、Ga(成为GZO)或A1(成为AZO)等掺杂物，可将载子(carrier)的浓度增加到10-10cm，使比电阻降低。这些掺杂物，例如在ITO中为4价的Sn置换了3价的In位置，GZO或AZO中则是3价的Ga或A1置换了2价的Zn，因此一个掺杂物原子可以提供一个载子。然而现实中并非所有掺杂物都是这种置换型固溶，它们有可能以中性原子存在于晶格间，成为散射中心，或偏析在晶界或表面上。要如何有效地形成置换型固溶，提升掺杂的效率，对于低电阻透明导电膜的制作是非常重要的。
具体的，所述第一光阻修补层采用彩色光阻修补层，并且或者，所述光阻修补层采用黑色光阻修补层。通过彩色和或黑色光阻修补层使得第二缺陷位恢复电极层中原有像素所呈现的颜色，提高显示品质。彩色光阻例如RGB，但不限于R像素、G像素、B像素还可以包括W(White白)、Y(Yellow黄)等颜色对应的像素，色彩更丰富，显示效果也更好。
作为本发明的又一个实施例，如图3所示，所述显示面板包括基板；电极层，所述电极层设置在所述基板上；所述电极层上设置有第一缺陷位和电极修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上。.所述显示面板包括第二光阻层，所述电极层覆置在所述第二光阻层表面，所述第二光阻层对应第一缺陷位的位置设置有第三缺陷位和第二光阻修补层。
具体的，所述透明导电修补层采用胶体材料。胶体(Colloid)又称胶状分散体(colloidal dispersion)是一种较均匀混合物，在胶体中含有两种不同状态的物质，一种分散相，另一种连续相。分散质的一部分是由微小的粒子或液滴所组成，分散质粒子直径在1-100nm之间的分散系是胶体；胶体是一种分散质粒子直径介于粗分散体系和溶液之间的一类分散体系，这是一种高度分散的多相不均匀体系。其中，电极层2中包括材质氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或其他透明导电材料，所以透明导电修补层6的组成可采用例如为复数透明导电例子以及溶剂等所组成。
具体的，所述胶体材料的成分为氧化铟、氧化锡、氧化锌、或前述成分的混合物。氧化铟是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性。氧化锡一种优秀的透明导电材料，为了提高其导电性和稳定性，常进行掺杂使用。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能。代表性的TCO材料有氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化镉、四氧化二铟镉、四氧化锡二镉、四氧化锡二锌和氧化铟-氧化锡等。这些氧化物半导体的能隙都在3eV以上，所以可见光(约1.6-3.3eV)的能量不足以将价带(valence band)的电子激发到导带(conduction band)，只有波长在350-400nm(紫外线)以下的光才可以。因此，由电子在能带间迁移而产生的光吸收，在可见光范围中不会发生，TCO对可见光为透明。如果进一步地在氧化铟中加入Sn(成为ITO)，在氧化锡中加入Sb、F，或在ZnO中加入In、Ga(成为GZO)或A1(成为AZO)等掺杂物，可将载子(carrier)的浓度增加到10-10cm，使比电阻降低。这些掺杂物，例如在ITO中为4价的Sn置换了3价的In位置，GZO或AZO中则是3价的Ga或A1置换了2价的Zn，因此一个掺杂物原子可以提供一个载子。然而现实中并非所有掺杂物都是这种置换型固溶，它们有可能以中性原子存在于晶格间，成为散射中心，或偏析在晶界或表面上。要如何有效地形成置换型固溶，提升掺杂的效率，对于低电阻透明导电膜的制作是非常重要的。
具体的，所述第二光阻修补层采用彩色光阻修补层，并且或者，所述光阻修补层采用黑色光阻修补层。通过彩色和或黑色光阻修补层使得第三缺陷位恢复电极层中原有像素所呈现的颜色，提高显示品质。彩色光阻例如RGB，但不限于R像素、G像素、B像素还可以包括W(White白)、Y(Yellow黄)等颜色对应的像素，色彩更丰富，显示效果也更好。
具体的，如图5所示，图中左上角对异物3开始做油墨涂布(INK)修补；图中右上角采用激光(Laser)将异物3打掉，但也因此电极层和第二光阻层也在相应位置遭到攻击被清除；图中右下角对其中的第二光阻层用第二光阻修补层进行修补；图中左下角对其中的电极层用透明导电修补层进行修补。这样第一缺陷位仍旧具备配向能力。不论第一缺陷位的大小或形状均可方便的采用此步骤进行修补。
作为本发明的又一个实施例，如图4所示，所述显示面板包括基板；电极层，所述电极层设置在所述基板上；所述电极层上设置有第一缺陷位和电极修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上。所述基板包括第一基板，第一基板上设置有主动开关；所述电极层包括与主动开关耦合的像素电极层；所述像素电极层上设置有所述第一缺陷位和所述透明导电修补层。
具体的，所述透明导电修补层采用胶体材料。胶体(Colloid)又称胶状分散体(colloidal dispersion)是一种较均匀混合物，在胶体中含有两种不同状态的物质，一种分散相，另一种连续相。分散质的一部分是由微小的粒子或液滴所组成，分散质粒子直径在1-100nm之间的分散系是胶体；胶体是一种分散质粒子直径介于粗分散体系和溶液之间的一类分散体系，这是一种高度分散的多相不均匀体系。其中，电极层2中包括材质氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或其他透明导电材料，所以透明导电修补层6的组成可采用例如为复数透明导电例子以及溶剂等所组成。
具体的，所述胶体材料的成分为氧化铟、氧化锡、氧化锌、或前述成分的混合物。氧化铟是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性。氧化锡一种优秀的透明导电材料，为了提高其导电性和稳定性，常进行掺杂使用。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能。代表性的TCO材料有氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化镉、四氧化二铟镉、四氧化锡二镉、四氧化锡二锌和氧化铟-氧化锡等。这些氧化物半导体的能隙都在3eV以上，所以可见光(约1.6-3.3eV)的能量不足以将价带(valence band)的电子激发到导带(conduction band)，只有波长在350-400nm(紫外线)以下的光才可以。因此，由电子在能带间迁移而产生的光吸收，在可见光范围中不会发生，TCO对可见光为透明。如果进一步地在氧化铟中加入Sn(成为ITO)，在氧化锡中加入Sb、F，或在ZnO中加入In、Ga(成为GZO)或A1(成为AZO)等掺杂物，可将载子(carrier)的浓度增加到10-10cm，使比电阻降低。这些掺杂物，例如在ITO中为4价的Sn置换了3价的In位置，GZO或AZO中则是3价的Ga或A1置换了2价的Zn，因此一个掺杂物原子可以提供一个载子。然而现实中并非所有掺杂物都是这种置换型固溶，它们有可能以中性原子存在于晶格间，成为散射中心，或偏析在晶界或表面上。要如何有效地形成置换型固溶，提升掺杂的效率，对于低电阻透明导电膜的制作是非常重要的。
具体的，所述主动开关可采用薄膜晶体管(TFT)。
作为本发明的又一个实施例，所述显示面板包括基板；电极层，所述电极层设置在所述基板上；所述电极层上设置有第一缺陷位和电极修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上。所述基板包括第二基板，所述电极层包括覆盖在第二基板上的公共电极层；所述公共电极层上设置有所述第一缺陷位和所述透明导电修补层。显示面板的具体设置，公共电极层上设置有第一缺陷位和透明导电修补层。
具体的，所述透明导电修补层采用胶体材料。胶体(Colloid)又称胶状分散体(colloidal dispersion)是一种较均匀混合物，在胶体中含有两种不同状态的物质，一种分散相，另一种连续相。分散质的一部分是由微小的粒子或液滴所组成，分散质粒子直径在1-100nm之间的分散系是胶体；胶体是一种分散质粒子直径介于粗分散体系和溶液之间的一类分散体系，这是一种高度分散的多相不均匀体系。其中，电极层2中包括材质氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或其他透明导电材料，所以透明导电修补层6的组成可采用例如为复数透明导电例子以及溶剂等所组成。
具体的，所述胶体材料的成分为氧化铟、氧化锡、氧化锌、或前述成分的混合物。氧化铟是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性。氧化锡一种优秀的透明导电材料，为了提高其导电性和稳定性，常进行掺杂使用。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能。代表性的TCO材料有氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化镉、四氧化二铟镉、四氧化锡二镉、四氧化锡二锌和氧化铟-氧化锡等。这些氧化物半导体的能隙都在3eV以上，所以可见光(约1.6-3.3eV)的能量不足以将价带(valence band)的电子激发到导带(conduction band)，只有波长在350-400nm(紫外线)以下的光才可以。因此，由电子在能带间迁移而产生的光吸收，在可见光范围中不会发生，TCO对可见光为透明。如果进一步地在氧化铟中加入Sn(成为ITO)，在氧化锡中加入Sb、F，或在ZnO中加入In、Ga(成为GZO)或A1(成为AZO)等掺杂物，可将载子(carrier)的浓度增加到10-10cm，使比电阻降低。这些掺杂物，例如在ITO中为4价的Sn置换了3价的In位置，GZO或AZO中则是3价的Ga或A1置换了2价的Zn，因此一个掺杂物原子可以提供一个载子。然而现实中并非所有掺杂物都是这种置换型固溶，它们有可能以中性原子存在于晶格间，成为散射中心，或偏析在晶界或表面上。要如何有效地形成置换型固溶，提升掺杂的效率，对于低电阻透明导电膜的制作是非常重要的。
作为本发明的又一个实施例，显示面板的制程，所述显示面板，包括步骤：
在所述基板上设置电极层；
所述电极层具有第一缺陷位，在所述第一缺陷位上覆置透明导电修补层。
具体的，所述显示面板的制程采用油墨涂布方式。油墨涂布(INK)的方式效果佳，粘附性能优异，操作工艺简单，不容易出现脱落和漏光的现象。也可以在制程上采用采用化学气相沉积溅镀导电修补体的方式。CVD(Chemical Vapor Deposition)化学气相沉积法，在高温下的气相反应，作为涂层的手段而开发，但不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等。沉积温度低，薄膜成份易控，膜厚与淀积时间成正比，均匀性，重复性好，台阶覆盖性优良。同样也可以采用PVD(Physical VaporDeposition)物理气相沉积法，利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
作为本发明的又一个实施例，本发明实施例的显示装置包括背光模组和如上所述的显示面板。
需要说明的是，在上述实施例中，所述基板1的材料可以选用玻璃、塑料等。
在上述实施例中，显示面板包括液晶面板、OLED面板、曲面显示面板、等离子面板等，以液晶面板为例，液晶面板包括阵列基板和彩膜基板(CF)，所述阵列基板与彩膜基板相对设置，所述阵列基板与彩膜基板之间设有液晶和间隔单元(photo spacer，PS)，所述阵列基板上设有薄膜晶体管(TFT)，彩膜基板上设有彩色滤光层。
在一实施例中，彩膜及TFT阵列可形成于同一基板上，阵列基板可包括彩色滤光层。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括
基板；
电极层，所述电极层设置在所述基板上；
第二光阻层，所述电极层覆置在所述第二光阻层表面；
其中，所述电极层上设置有第一缺陷位和透明导电修补层，所述透明导电修补层覆置于所述第一缺陷位上；所述第二光阻层对应第一缺陷位的位置设置有第三缺陷位和第二光阻修补层，所述第二光阻修补层采用彩色光阻修补层，所述光阻修补层使得第三缺陷位恢复所述电极层中原有像素所呈现的颜色；
所述基板包括第一基板，第一基板上设置有主动开关；所述电极层包括与主动开关耦合的像素电极层；所述像素电极层上设置有所述第一缺陷位和所述透明导电修补层；
所述透明导电修补层采用胶体材料，所述胶体材料的成分为氧化铟、氧化锡、氧化锌、或前述成分的混合物。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一光阻层，所述第一光阻层覆置在所述电极层表面，所述第一光阻层对应所述第一缺陷位的位置设置有第二缺陷位和第一光阻修补层。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基板包括第二基板，所述电极层包括覆盖在第二基板上的公共电极层；所述公共电极层上设置有所述第一缺陷位和所述透明导电修补层。
4.一种显示面板的制程，其特征在于，用于制造如权利要求1所述的一种显示面板，所述显示面板包括基板，包括步骤：
在所述基板上设置电极层；
采用激光将电极层上的异物打掉，所述电极层和第二光阻层也在相应位置遭到攻击被清除；
所述电极层具有第一缺陷位；
对所述第二光阻层用第二光阻修补层进行修补；
对所述电极层用透明导电修补层进行修补，在所述第一缺陷位上覆置透明导电修补层。
5.如权利要求4所述的显示面板的制程，其特征在于，所述显示面板的制程采用油墨涂布方式，所述透明导电修补层涂设在所述第一缺陷位上，所述透明导电修补层采用胶体材料。
6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括背光模组和如权利要求1至3任一项所述的显示面板。
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