CN106932942A - 触控显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种触控显示装置。本发明实施例提供的触控显示装置,包括:显示面板以及中框;所述显示面板中设置有透明屏蔽电极层和触控电极层;所述透明屏蔽电极层设置在所述触控电极层与所述中框之间,且所述透明屏蔽电极层接地。本发明的技术方案中,在触控电极层与中框之间设置透明屏蔽电极层,使得触控电极层与透明屏蔽电极层之间的电容值不随外力挤压而发生变化,因此可以准确检测出相应的触摸位置,从而提高了检测触摸位置精度。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种触控显示装置。
背景技术
在应用内嵌式触控技术的液晶显示装置中,触控电极制作在阵列基板上,触控电极相对于地有一个电容值,当用户的手指触摸到显示装置的面板时,使得触控电极相对于地的电容值增大,进而通过电容值的变化,确定手指的位置。
液晶显示装置所在的终端中还设置有支撑液晶显示装置的中框,由于中框多利用金属材料制成,使得触控电极与中框之间也会形成电容,具有一定的电容值。
然而,当手指的压力过大时,压力传递至液晶显示装置中的阵列基板,使得阵列基板发生形变,但是由于中框不会因此发生形变,因此,触控电极与中框之间的距离发生改变,导致两者之间的电容值发生变化,该电容值的变化会对用户手纸触摸到显示装置的面板时产生的电容值的变化造成干扰,从而容易导致终端误判断。
发明内容
本发明实施例提供一种触控显示装置,用于解决当用户接触触控显示装置的压力过大时,容易导致终端误判断的问题。
本发明实施例提供一种触控显示装置,包括:显示面板以及中框;
所述显示面板中设置有透明屏蔽电极层和触控电极层;
所述透明屏蔽电极层设置在所述触控电极层与所述中框之间,且所述透明屏蔽电极层接地。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述显示面板中还包括:用于阵列基板的衬底基板;
所述触控电极层位于所述衬底基板的一侧,所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板的靠近所述触控电极层的一侧。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,在所述触控电极层与所述衬底基板之间还包括:栅极层、栅极绝缘层、层间绝缘层、数据线层、第一绝缘层、触控信号线;
所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板的靠近所述触控电极层的表面。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述显示面板中还包括:用于阵列基板的衬底基板;
所述触控电极层位于所述衬底基板的一侧,所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板的远离所述触控电极层的一侧。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述显示装置还包括:第二偏光片,所述第二偏光片位于所述衬底基板远离所述触控电极层的一侧;
所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板与所述第二偏光片之间。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述显示面板还包括:
沿第一方向延伸的数据线和沿第二方向延伸的栅极线;
在垂直于所述阵列基板的方向上,所述多条数据线和所述多条栅极线具有第一交叠区域;
所述透明屏蔽电极层上设置有沿所述第一方向延伸的第一镂空区域和沿所述第二方向延伸的第二镂空区域;
在垂直于所述阵列基板的方向上,所述第一镂空区域的投影与所述第一交叠区域之外的数据线的投影交叠,所述第二镂空区域的投影与所述第一交叠区域之外的栅极线的投影交叠,所述透明屏蔽电极层在所述第一镂空区域和所述第二镂空区域之外的部分为一体结构。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述触控电极层包括多个阵列分布的子触控电极。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述透明屏蔽电极层为连续的整面结构。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述透明屏蔽电极层的厚度大于或者等于且小于或者等于
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述透明屏蔽电极层的阻值小于或者等于104Ω/□。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述透明屏蔽电极层由氧化铟锡或者氧化锡锑材料制成。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述触控显示装置包括显示区域和非显示区域,所述非显示区域设置有金属走线;
所述透明屏蔽电极层通过所述非显示区域内的所述金属走线接地。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,所述显示装置还包括:导电结构;
所述透明屏蔽电极层通过所述导电结构接地。
如上所述的方面和任一可能的实现方式,进一步提供一种实现方式,其特征在于,所述触控显示装置为液晶显示装置。
本发明实施例还提供一种触控显示装置,其特征在于,包括:显示面板、背光模组以及中框;
所述背光模组设置在所述显示面板与所述中框之间;
所述显示面板中设置有触控电极层;
所述背光模组内设置有透明屏蔽电极层,且所述透明屏蔽电极层接地;
且所述透明屏蔽电极层与所述触控电极层之间的距离保持不变。
本发明实施例提供的触控显示装置,通过在触控电极层与中框之间设置透明屏蔽电极层并且将透明屏蔽电极层接地,使得触控电极层与透明屏蔽电极层之间可以产生一个电容,而触控电极层与中框之间不会产生电容,因为透明屏蔽电极层接地所以其电压是恒定的,当用户接触本发明实施例提供的触控显示装置时,即使阵列基板发生形变,透明屏蔽电极层也会随之发生形变,因此触控电极层与透明屏蔽电极层之间的距离不会发生变化,因此触控电极层与透明屏蔽电极层之间的电容值保持不变,而检测触摸位置时需要有电容的变化,因此不会对检测触摸位置产生干扰,可以准确检测出相应的触摸位置,从而实现了提高检测触摸位置精度的效果,解决了现有技术中当用户接触触控显示装置的压力过大时,容易导致终端误判断的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的触控显示装置的剖面示意图;
图2为图1中阵列基板15的第一剖面示意图;
图3为图1中阵列基板15的第二剖面示意图;
图4为图1中阵列基板15的俯视图;
图5为透明屏蔽电极层152的结构示意图;
图6为图1中阵列基板15的第二俯视图;
图7为本发明实施例提供的触控显示装置的另一剖面示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的,而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。
图1为本发明实施例提供的触控显示装置的剖面示意图,图2为图1中阵列基板15的第一剖面示意图,图3为图1中阵列基板15的第二剖面示意图,如图1-图3所示,本发明实施例中的触控显示装置,包括显示面板1以及中框2,其中,显示面板1中设置有透明屏蔽电极层152和触控电极层157,透明屏蔽电极层152设置在触控电极层157与中框2之间,且透明屏蔽电极层152接地。通过将透明屏蔽电极层152接地,使得透明屏蔽电极层152的电压保持恒定,进而与触控电极层157之间形成一个电容,当用户接触触控显示装置时,即使阵列基板发生形变,透明屏蔽电极层152也会随着阵列基板发生形变,触控电极层157与透明屏蔽电极层152之间的距离不会发生变化,因此触控电极层157与透明屏蔽电极层152之间的电容值保持不变。由于,透明屏蔽电极层152是设置在显示面板1以及中框2之间的,所以,中框与触控电极层157是不会产生电容的,进而避免中框2对触控电极层157的干扰,起到屏蔽的作用。
如图1所示,显示面板1中包括盖板11、第一偏光片12、彩膜基板13、液晶层14、阵列基板15以及第二偏光片16。
如图2和图3所示,在本发明实施例中,触控电极层157设置在阵列基板15内,阵列基板15还包括衬底基板151,并且在触控电极层157与衬底基板151之间包括栅极层(图中未示出)、栅极绝缘层153、层间绝缘层154、第一绝缘层155、第二绝缘层156、数据线层158、触控信号线层159。
栅极层中包括栅极以及栅极线,数据线层158包括数据线,触控信号线层159中包括触控信号线,显示面板1在使用过程中,会给栅线提供一个电信号,数据线用于给TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)中的源极提供电信号,通过栅线的电信号与通过数据线的电信号驱动TFT。触控信号线用于连接公共电极,给公共电极提供电信号。为了防止栅线、数据线以及触控信号线之间产生干扰,通过栅极绝缘层153、层间绝缘层154、第一绝缘层155、第二绝缘层156等进行绝缘,使其相互隔离。
由此可见,在触控电极层157与衬底基板151之间设置的膜层,其并非完全的平面结构,而衬底基板的为平面结构,因此,为了降低工艺难度,可以优先考虑将透明屏蔽电极层15设置在衬底基板的附近。如图2所示,在一个具体的实现过程中,触控电极层157位于衬底基板151的一侧,透明屏蔽电极层152位于衬底基板151的靠近触控电极层157的一侧,例如,透明屏蔽电极层152位于衬底基板151的靠近触控电极层157的表面。可以理解的是,衬底基板151为平面结构,将透明屏蔽电极层152设置在衬底基板151的靠近触控电极层157的表面,仅需在制作过程中,在衬底基板151的表面沉积一层制作透明屏蔽电极层的材料即可,制作简单,工艺难度较低。
如图3所示,在一个具体的实现过程中,触控电极层157位于衬底基板151的一侧,透明屏蔽电极层152位于衬底基板151的远离触控电极层157的一侧,如图2所示,第二偏光片162位于衬底基板151远离触控电极层157的一侧,则透明屏蔽电极层152可以位于衬底基板151与第二偏光片162之间。例如,透明屏蔽电极层152可以位于衬底基板151远离触控电极层157一侧的表面。可以理解的是,衬底基板151为平面结构,且衬底基板远离触控电极层151一侧的膜层均为平面结构,将透明屏蔽电极层152设置在衬底基板151的远离触控电极层157的表面,仅需在制作过程中,在衬底基板151的表面沉积一层制作透明屏蔽电极层的材料即可,制作简单,工艺难度较低。
图4为图1中阵列基板15的俯视图,如图4所示,在本发明实施例中,触控电极层157包括阵列分布的多个子触控电极,该阵列可以是p×q的阵列,其中p和q均为大于1的整数。在显示阶段,触控电极12还可以复用为公共电极。
图5为透明屏蔽电极层152的结构示意图,如图2和图5所示,当透明屏蔽电极层152位于衬底基板151的靠近触控电极层157的一侧且位于非衬底基板151的表面时,由于栅线层、数据线层158和触控信号线层159均为具有一定厚度且非连续的面,因此,为了减小阵列基板15的整体厚度,可以在透明屏蔽电极层152具有镂空区域。具体地,如图4所示,显示面板1中设置有沿第一方向延伸(图4中Y方向)的数据线和沿第二方向(图4中X方向)延伸的栅极线,在垂直于阵列基板15的方向上,多条数据线和多条栅极线具有第一交叠区域,透明屏蔽电极层152上设置有沿第一方向延伸的第一镂空区域和沿第二方向延伸的第二镂空区域。在垂直于阵列基板15的方向上,第一镂空区域的投影与第一交叠区域之外的数据线的投影交叠,第二镂空区域的投影与第一交叠区域之外的栅极线的投影交叠,透明屏蔽电极层152在第一镂空区域和第二镂空区域之外的部分为一体结构。可以理解的是,在透明屏蔽电极层152上设置镂空区域的目的在于减小阵列基板15整体厚度的同时,还可以保障透明屏蔽电极层152中各处的电压值保持一致。
如图3所示,当透明屏蔽电极层152可以位于衬底基板151与第二偏光片162之间时或者透明屏蔽电极层152可以位于衬底基板151远离触控电极层157一侧的表面时,透明屏蔽电极层152可以为连续的整面结构。由于衬底基板远离触控电极层151一侧的膜层均为平面结构,将透明屏蔽电极层152设置在衬底基板151的远离触控电极层157的表面,仅需在制作过程中,在衬底基板151的表面沉积一层制作透明屏蔽电极层的材料即可,制作简单,工艺难度较低。
在一个具体的实现过程中,透明屏蔽电极层152的阻值小于或者等于104Ω/□。在本发明实施例中,透明屏蔽电极层152的阻值越低越可以起到屏蔽的作用,阻值越高,屏蔽作用越不明显。而且,透明屏蔽电极层152的阻值与厚度是成反比关系的,也就是说,厚度越厚,阻值越低,采用较该阻值范围的透明屏蔽电极层152,在不影响透光性的同时,还可以达到良好的屏蔽效果。
在一个具体的实现过程中,透明屏蔽电极层152的厚度大于或者等于且小于或者等于在本发明实施例中,透明屏蔽电极层152的厚度需要考虑到阻值和透光率两个因素,其中厚度越厚,透明屏蔽电极层152的阻值越低。但是,透光率和厚度是成反比关系,也就是说,厚度越厚,透光率越低,因此,采用采用该厚度范围的透明屏蔽电极层152,在起到屏蔽作用的同时还可以起到减小对穿透率的影响的效果。
在一个具体的实现过程中,透明屏蔽电极层152由氧化铟锡或者氧化锡锑材料制成,采用前述两种材料制作可以提高透明度,以提高穿透率。
图6为图1中阵列基板15的第二俯视图,如图6所示,在本发明实施例中,触控显示装置包括显示区域A和非显示区域B,非显示区域B设置有金属走线B1,透明屏蔽电极层152通过非显示区域B内的金属走线B1接地。
在本发明实施例中,触控显示装置还包括:导电结构(图中未示出),透明屏蔽电极层152可以通过导电结构接地。在一个具体的实现过程中,非显示区域B内设置有背光导电遮光胶带或者具有贴附效果的导电材料,这两种结构都是具有导电性的,因此,透明屏蔽电极层152可以通过前述两种结构接地。
需要说明的是,本发明实施例提供的触控显示装置可以为液晶显示装置。
图7为本发明实施例提供的触控显示装置的另一剖面示意图,如图7所示,本发明实施例中还提供一种触控显示装置,包括:显示面板1、背光模组3以及中框2,背光模组3设置在显示面板1与中框2之间。
显示面板1中包括盖板11、第一偏光片12、彩膜基板13、液晶层14、阵列基板15以及第二偏光片16。显示面板1还中设置有触控电极层157,背光模组3内设置有透明屏蔽电极层31,且透明屏蔽电极层31接地。为了保证触控电极层157与透明屏蔽电极层31之间的电压差值保持一定值,透明屏蔽电极层31与触控电极层157之间的距离保持不变。
本发明实施例提供的触控显示装置,通过在触控电极层157与中框2之间设置透明屏蔽电极层152并且将透明屏蔽电极层152接地,使得触控电极层157与透明屏蔽电极层152之间可以产生一个电容,而触控电极层157与中框2之间不会产生电容,因为透明屏蔽电极层157接地所以其电压是恒定的,当用户接触本发明实施例提供的触控显示装置时,即使阵列基板15发生形变,透明屏蔽电极层152也会随之发生形变,因此触控电极层与透明屏蔽电极层之间的距离不会发生变化,使得触控电极层157与透明屏蔽电极层157之间的电容值保持不变,而检测触摸位置时需要有电容的变化,因此不会对检测触摸位置产生干扰,可以准确检测出相应的触摸位置,从而实现了提高检测触摸位置精度的效果,解决了现有技术中当用户接触触控显示装置的压力过大时,容易导致终端误判断的问题。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (15)
1.一种触控显示装置,其特征在于,包括:显示面板以及中框;
所述显示面板中设置有透明屏蔽电极层和触控电极层;
所述透明屏蔽电极层设置在所述触控电极层与所述中框之间,且所述透明屏蔽电极层接地。
2.根据权利要求1所述的触控显示装置,其特征在于,所述显示面板中还包括:用于阵列基板的衬底基板;
所述触控电极层位于所述衬底基板的一侧,所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板的靠近所述触控电极层的一侧。
3.根据权利要求2所述的触控显示装置,其特征在于,在所述触控电极层与所述衬底基板之间还包括:栅极层、栅极绝缘层、层间绝缘层、数据线层、第一绝缘层、触控信号线;
所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板的靠近所述触控电极层的表面。
4.根据权利要求1所述的触控显示装置,其特征在于,所述显示面板中还包括:用于阵列基板的衬底基板;
所述触控电极层位于所述衬底基板的一侧,所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板的远离所述触控电极层的一侧。
5.根据权利要求4所述的触控显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括:第二偏光片,所述第二偏光片位于所述衬底基板远离所述触控电极层的一侧;
所述透明屏蔽电极层位于所述衬底基板与所述第二偏光片之间。
6.根据权利要求1所述的触控显示装置,其特征在于,所述显示面板还包括:
沿第一方向延伸的数据线和沿第二方向延伸的栅极线;
在垂直于所述阵列基板的方向上,所述多条数据线和所述多条栅极线具有第一交叠区域;
所述透明屏蔽电极层上设置有沿所述第一方向延伸的第一镂空区域和沿所述第二方向延伸的第二镂空区域;
在垂直于所述阵列基板的方向上,所述第一镂空区域的投影与所述第一交叠区域之外的数据线的投影交叠,所述第二镂空区域的投影与所述第一交叠区域之外的栅极线的投影交叠,所述透明屏蔽电极层在所述第一镂空区域和所述第二镂空区域之外的部分为一体结构。
7.根据权利要求1所述的触控显示装置,其特征在于,所述触控电极层包括多个阵列分布的子触控电极。
8.根据权利要求4所述的触控显示装置,其特征在于,所述透明屏蔽电极层为连续的整面结构。
9.根据权利要求1所述的触控显示装置,其特征在于,所述透明屏蔽电极层的厚度大于或者等于且小于或者等于
10.根据权利要求1所述的触控显示装置,其特征在于,所述透明屏蔽电极层的阻值小于或者等于104Ω/□。
11.根据权利要求1所述的触控显示装置,其特征在于,所述透明屏蔽电极层由氧化铟锡或者氧化锡锑材料制成。
12.根据权利要求2所述的触控显示装置,其特征在于,所述触控显示装置包括显示区域和非显示区域,所述非显示区域设置有金属走线;
所述透明屏蔽电极层通过所述非显示区域内的所述金属走线接地。
13.根据权利要求4所述的触控显示装置,其特征在于,所述触控显示装置还包括:导电结构;
所述透明屏蔽电极层通过所述导电结构接地。
14.根据权利要求1-13中任一项所述的触控显示装置,其特征在于,所述触控显示装置为液晶显示装置。
15.一种触控显示装置,其特征在于,包括:显示面板、背光模组以及中框;
所述背光模组设置在所述显示面板与所述中框之间;
所述显示面板中设置有触控电极层;
所述背光模组内设置有透明屏蔽电极层,且所述透明屏蔽电极层接地;
且所述透明屏蔽电极层与所述触控电极层之间的距离保持不变。
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