CN106887472A - 一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 168
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 114
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 65
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 398
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 253
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 179
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 148
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 140
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 140
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 125
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 122
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims abstract description 113
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 85
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 60
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 34
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 84
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 58
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 38
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 36
- 239000004425 Makrolon Substances 0.000 claims description 18
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 16
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 12
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract description 63
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 13
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 52
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 52
- 230000008569 process Effects 0.000 description 29
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 25
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 22
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 21
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 21
- 230000006870 function Effects 0.000 description 20
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 19
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 18
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 8
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 6
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 5
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000011536 re-plating Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
- H01L31/02168—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
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- Sustainable Development (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明公开了一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是步骤为：首先用含有无机粒子的高分子涂覆液在模具上制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层，然后用硅胶在具有纳米凹凸结构的减反射涂层上制模，最后待硅胶固化后脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板；涂覆液由二氧化硅粒子与紫外光固化涂覆液混合制成，二氧化硅粒子由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9～9:1混合组成。采用本发明，制得的能连续制备塑料基材减反射结构的模板经卷对卷工艺能在塑料基材表面连续制备减反射纳米凹凸结构，操作简单、效果稳定，所得产品可用于电子产品的显示面板、太阳能光伏组件等领域，实用性强。
Description
技术领域
本发明属于功能性软模板的制备，涉及一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法。采用本发明制得的能连续制备塑料基材减反射结构的模板适用于电子产品的显示面板、太阳能光伏组件等领域。
背景技术
随着电子产业的迅速发展，显示面板的需求迅速增长，调查显示，中国显示产业十二五期间面板出货量近4500万平方米，在全球出货量的市场占有率从3.9％提升到22％，居于全球第三名。在需求数量增长的同时，市场对显示面板的外观及功能性的需求也不断增加。其中，减反射功能是一种广受关注、极具开发价值的功能；该功能的实现主要通过对材料表面进行物理或化学处理，减少材料表面对光线的反射，进而起到削弱眩光和反射影像、提高显示效果的作用。作为显示面板，减反射功能的赋予可以给使用者提供更加舒适和优质的观感体验。当应用于太阳能面板领域时，减反射功能还可起到增透和提高电池光电转换效率的作用。
现有技术中，减反射功能的实现主要有两种途径：一是采用镀膜技术在基材表面形成多层薄膜，通过控制膜厚和膜的折射率，利用干涉原理减少不同波长的光线的反射，起到减反效果；二是在材料表面构建纳米凹凸结构，在反射界面上形成渐进的折射率，起到减反的效果。国内外对减反射功能膜的研究主要集中在玻璃或硅片等无机材质的基体上，常见的制备方法有刻蚀法、溶胶-凝胶法、粒子沉积法、层层自组装法、纳米压印法和真空蒸镀法等。中国专利CN101508191A公开了一种在聚碳酸酯(简称PC)/聚甲基丙烯酸甲酯(也称亚克力，简称PMMA)复合板上的减反射膜及制备方法，该办法采用真空镀膜的办法，在基材上构建了氟化镁和三氧化二铝双层减反射膜。中国专利CN103771728A公开了在可见光与近红外光区域具有增透性质的涂层的制备方法及超疏水涂层，制备了含有六甲基二硅胺修饰的纳米二氧化硅空心球和PMMA的乙酸乙酯悬浊液，然后将玻璃片从悬浊液中提拉出来，空气干燥后用全氟辛基三乙氧基硅烷对玻璃片表面的涂层进行疏水化修饰，获得了在可见光与近红外光区域具有增透性质的超疏水涂层。中国专利CN103576448A公开了一种利用纳米压印制备多孔减反射薄膜的方法，该方法通过电子束曝光技术制备了所需结构的模板，然后用电子束蒸镀设备在模板上蒸镀20nm的金属Ni，再电镀生长一层100-300微米厚的Ni层，最后将Ni层与模板分离，以Ni层为模板压印PMMA或聚对苯二甲酸乙二酯(简称PET)等膜，获得减反射结构。
随着材料科学的发展，以PC、PMMA、PC-PMMA复合材料或PET为代表的光学塑料在很多领域显示出了传统玻璃无法取代的优势，特别是在显示面板领域开始占据越来越多的市场。然而，由于现有报道的减反射结构的制备方法在应用于塑料材质的基体上时，存在膜层附着力差、不能大面积生产、工艺复杂、重复性差、成本昂贵或须高温处理不适合塑料基材等诸多问题，实用性较差，尚无法实现大规模产业化。
发明内容
本发明的目的旨在克服现有技术中的不足，提供一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法。采用本发明制备的能连续制备塑料基材减反射结构的模板能采用卷对卷工艺在塑料基材表面连续制备减反射纳米凹凸结构，并且该模板的制作方法简单、制作成本低廉、使用时操作简单、效果稳定，克服了传统纳米压印模板价格昂贵、制备难度和技术要求高、面积有限、无法连续生产以及损坏率高的缺点，适合用于减反射面板的大规模工业化生产。
本发明的内容是：一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是步骤为：首先用含有无机粒子的高分子涂覆液在模具上制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层，然后用硅胶在具有纳米凹凸结构的减反射涂层上制模，最后待硅胶固化后脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板。
本发明内容所述的能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是具体步骤为：
a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：
取环状外套(1)和可以设置在环状外套(1)中、与环状外套(1)同心的柱状内衬(2)作为模具；即：模具由环状外套(1)和可以设置在环状外套(1)中、与环状外套(1)同心的柱状内衬(2)构成；具有纳米凹凸结构的减反射涂层(均匀)涂覆于环状外套(1)内壁，环状外套(1)和柱状内衬(2)之间形成有一定间隙，该间隙用于填充硅胶制模，间隙的厚度(即径向宽度)较好的是等于最终所制能连续制备塑料基材减反射结构的模板的厚度；
按二氧化硅粒子5～20％、紫外光固化涂覆液80～95％的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子(即二氧化硅粒子)的高分子涂覆液(即紫外光固化涂覆液)，备用；
b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：
将含有无机粒子的高分子涂覆液(均匀)涂覆于所述模具的环状外套(1)内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，烘干温度为80～130℃、烘干时间为1～5min，再经紫外光固化(即经紫外光照射，使含有纳米粒子的高分子涂覆液形成的涂层固化)，即在环状外套(1)内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层(3)；
所述步骤中，若烘干温度过低，不会有足够数量的二氧化硅粒子随(紫外光固化涂覆液中的)溶剂的挥发扩散至涂层表面，无法获得纳米级凹凸结构，且粒子团聚现象会加重，影响最终减反射制品的透光性；烘干温度提高有利于二氧化硅粒子向涂层表面的扩散，进而有利于获得纳米级凹凸结构，但过高的烘烤温度和长时间的烘烤会导致有机材质的模具变形，因此以烘干温度80～130℃、烘干时间1～5min为宜。
为获得质地良好、结构完整且分布均匀的纳米凹凸结构，要求(减反射)涂层与模具之间要有足够的结合力，不能在硅胶制模和脱模的过程中被破坏；因而，本发明采用将二氧化硅粒子和光固化树脂结合的方法，一方面利用二氧化硅粒子制造纳米凹凸的表面结构，另一方面利用(紫外光固化涂覆液中的)光固化树脂将这一结构牢固锁定在模具上，使所述具有纳米凹凸结构的减反射涂层与模具[即环状外套(1)内壁]之间能牢固结合，不会在使用硅胶制模和脱模过程中被破坏；
c、制模：
将柱状内衬(2)置于环状外套(1)中并同心放置，在柱状内衬(2)和环状外套(1)之间的间隙中注入(室温固化模板)硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；
所述模具上形成的(减反射)涂层具有纳米凹凸结构，这种纳米凹凸结构在反射界面上能形成渐进的折射率，进而可以起到减反射的效果；硅胶制模的目的即是将该纳米凹凸结构的互补结构(即阴模)转移至硅胶模具上，然后以硅胶为模板再在塑料基材表面连续复制出这种具有减反射功能的纳米凹凸结构；
d、脱模：
待硅胶固化后，(小心)脱模(即将与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶从模具中脱出)，即制得(环状履带式样的)能连续制备塑料基材减反射结构的模板(4)(或称为履带状硅胶模板)；该模板(4)的尺寸可以根据实际需要通过调整模具中环状外套(1)和柱状内衬(2)的直径和高度调节，特别适合用于卷对卷工艺连续大规模生产具有减反射功能的面板。
本发明的内容中：步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9～9:1混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为20～50nm，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为100～200nm；
不同粒径的二氧化硅粒子在步骤b所述涂层(即含有二氧化硅粒子的紫外光固化涂覆液流平后形成的涂层)烘干的过程中向空气-涂层界面扩散的速度不同，因而会导致涂层干燥后形成的凹凸程度存在差异；二氧化硅粒子在紫外光固化涂覆液中的质量百分比含量不能低于5％，低于5％则不能在涂层表面形成足够面积比例的纳米凹凸结构，从而影响减反射效果；但二氧化硅粒子的质量百分比含量也不能太高，高于20％则会影响涂层与模具之间的附着，也会由于形成更大尺寸的凹凸结构，使涂层不均匀或形成漫反射，影响最终产品的透明度、清晰度和感官体验。
本发明的内容中：步骤a中所述紫外光固化涂覆液为市售商品，可以是深圳撒比科技有限公司提供的HC-UVPCM-1、厦门茁耀科技有限公司提供的UV-8380、深圳市钟宏科技有限公司提供的宏泰品牌的UV固化液、深圳凡高化工材料有限公司提供的FC-300、无锡惠星新材料科技有限公司提供的晶钻品牌UV固化液、鹤山市励志门贸易有限公司提供的LE-6206X、苏州安富新材料技术有限公司提供的韩国HND生产的DHCS-M182或DHCS-C127、以及东莞市贝特利新材料有限公司提供的BTF系列的紫外光固化涂覆液中的任一种。
本发明的内容中：步骤c中所述硅胶系市售商品，为室温固化模板硅胶，可以是道康宁SYLGARD 184、东芝TSE-3488T、东莞市国创有机硅材料有限公司提供的C825、以及东莞市广志复合材料有限公司提供的GZ1730矽利康硅胶中的任一种。
本发明的内容中：步骤a中所述模具为透明模具，材质为(普通)玻璃、石英、亚克力、以及聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质中的任一种；这些材质均能与步骤b所述涂层紧密结合，且都为透明材质，便于紫外光对涂层进行固化。
本发明的内容中：步骤b中所述涂覆的方式可以是采用淋涂或喷涂方式中的任一种。
本发明的内容中：步骤a中所述二氧化硅粒子较好的是由(公知的)法制备。
本发明进一步的技术内容是：一种塑料基材减反射结构的连续制备方法，是将所述制得(环状履带式样)的能连续制备塑料基材减反射结构的模板在使用时优选采用卷对卷工艺(即Roll to Roll生产工艺，系现有技术)配合光固化工艺在塑料基材表面获得纳米减反射结构(如附图2所示)，具体方法及步骤为：
(a)将所制得(环状履带式样)的能连续制备塑料基材减反射结构的模板(4)套辊(5)；
(b)取透明塑料基材(8)[可以是聚碳酸酯(简称PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(简称PMMA)、PC-PMMA复合材料、或聚对苯二甲酸乙二酯(简称PET)等材质]，在透明塑料基材(8)表面涂覆光固化树脂层(9)并烘干；
(c)将涂覆了光固化树脂层(9)的透明塑料基材(8)放于传送辊(6)上，使光固化树脂层(9)向上，让透明塑料基材(8)在走辊过程中与能连续制备塑料基材减反射结构的模板(4)贴合，同时利用置于传送辊(6)下方的紫外灯(7)辐照并固化光固化树脂层(9)；
(d)随着走辊过程的进行，透明塑料基材(8)上的光固化树脂层(9)被固化，并在走辊过程中与能连续制备塑料基材减反射结构的模板(4)剥离，进而在透明塑料基材(8)表面获得与能连续制备塑料基材减反射结构的模板(4)之纳米凹凸结构互补的纳米减反射结构。
所述透明塑料基材表面反射率的测试执行标准为：ASTM F1252-2010。
与现有技术相比，本发明具有下列特点和有益效果：
(1)卷对卷工艺是一种能够实现连续大规模生产的工艺，以该工艺制备减反射结构的技术核心在于其模板的制备；本发明利用与所需减反射纳米凹凸结构具有互补结构的硅胶模板作为软模板，该模板能采用卷对卷工艺在塑料基材表面连续制备减反射纳米凹凸结构，并且该模板的制作方法简单、制作成本低廉、使用时操作简单、效果稳定，克服了传统纳米压印模板价格昂贵、制备难度和技术要求高、面积有限、无法连续生产以及损坏率高的缺点，适合用于减反射面板的大规模工业化生产，实用性强；
(2)采用本发明方法制备能连续制备塑料基材减反射结构的模板，进而在透明塑料基材上制备减反射结构，所需工艺建立在传统塑料基材表面涂覆工艺的基础上，无需对原有工艺进行实质性改动(特别是无需进行不利于塑料基材的高温处理)，可克服现有减反射工艺膜层附着力差、须高温处理等诸多问题，并且无需考虑透明塑料基材表面的涂层配方，不影响涂层厚度和涂层其他功能，还可方便地将减反射功能和其他功能组合，获得多功能的产品；
(3)采用本发明制备的能连续制备塑料基材减反射结构的模板，配合使用后期纳米结构转移工艺，适合用于各种材质基材表面减反射结构的制备，特别适用于透明塑料基材，例如PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET等光学塑料，效果良好；所得产品可广泛用于电子产品的显示面板、太阳能光伏组件等领域，具有广阔的市场前景。
附图说明
图1是本发明中模具的结构示意图；
图2是本发明能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备流程及塑料基材减反射结构的连续制备方法示意图；
图中：1-(模具的)环状外套、2-(模具的)柱状内衬、3-具有纳米凹凸结构的减反射涂层、4-(环状履带式样的)能连续制备塑料基材减反射结构的模板(或称履带状硅胶模板、或称履带式样的硅胶模板)、5-辊、6-传送辊、7-紫外灯、8-透明塑料基材、9-光固化树脂层；
Ⅰ-在模具内壁制备减反射结构；Ⅱ-制模；Ⅲ-脱模；Ⅳ-套辊；Ⅴ-在透明塑料基材上连续制备减反射结构。
具体实施方式
下面给出的实施例拟对本发明作进一步说明，但不能理解为是对本发明保护范围的限制，该领域的技术人员根据上述本发明的内容对本发明作出的一些非本质的改进和调整，仍属于本发明的保护范围。
实施例1：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径20nm、100nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：20nm与100nm的二氧化硅粒子的质量比为1:9，二氧化硅粒子的质量百分比为5％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为95％。然后将上述混合涂覆液淋涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为100℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4％。
实施例2：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径20nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：20nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为9:1，二氧化硅粒子的质量百分比为20％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为80％。然后将上述混合涂覆液喷涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为130℃，烘干时间为1min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4％。
实施例3：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径20nm、200nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：20nm与200nm的二氧化硅粒子的质量比为5:5，二氧化硅粒子的质量百分比为10％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为90％。然后将上述混合涂覆液喷涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为120℃，烘干时间为3min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于2.5％。
实施例4：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径30nm、100nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：30nm与100nm的二氧化硅粒子的质量比为7:3，二氧化硅粒子的质量百分比为15％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为85％。然后将上述混合涂覆液喷涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为130℃，烘干时间为3min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于2.5％。
实施例5：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径30nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：30nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为9:1，二氧化硅粒子的质量百分比为5％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为95％。然后将上述混合涂覆液喷涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为120℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于3.5％。
实施例6：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径30nm、200nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：30nm与200nm的二氧化硅粒子的质量比为3:7，二氧化硅粒子的质量百分比为20％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为80％。然后将上述混合涂覆液喷涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为100℃，烘干时间为4min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于5％。
实施例7：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径40nm、100nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：40nm与100nm的二氧化硅粒子的质量比为6:4，二氧化硅粒子的质量百分比为15％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为85％。然后将上述混合涂覆液淋涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为110℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于3％。
实施例8：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径40nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：40nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为4:6，二氧化硅粒子的质量百分比为10％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为90％。然后将上述混合涂覆液淋涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为100℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4％。
实施例9：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径40nm、200nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：40nm与200nm的二氧化硅粒子的质量比为5:5，二氧化硅粒子的质量百分比为20％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为80％。然后将上述混合涂覆液淋涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为130℃，烘干时间为3min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于2.5％。
实施例10：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径50nm、100nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：50nm与100nm的二氧化硅粒子的质量比为8:2，二氧化硅粒子的质量百分比为15％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为85％。然后将上述混合涂覆液淋涂于玻璃或石英材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为130℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于2.5％。
实施例11：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径50nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：50nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为1:9，二氧化硅粒子的质量百分比为5％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为95％。然后将上述混合涂覆液淋涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为80℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于5％。
实施例12：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径50nm、200nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：50nm与200nm的二氧化硅粒子的质量比为9:1，二氧化硅粒子的质量百分比为20％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为80％。然后将上述混合涂覆液喷涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平后形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为130℃，烘干时间为1min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4％。
实施例13：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径40nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：40nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为5:5，二氧化硅粒子的质量百分比为10％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为90％。然后将上述混合涂覆液喷涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为100℃，烘干时间为3min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于3.5％。
实施例14：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径50nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：50nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为7:3，二氧化硅粒子的质量百分比为15％、紫外光固化涂覆液中的质量百分比为85％。然后将上述混合涂覆液喷涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为120℃，烘干时间为4min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于2.5％。
实施例15：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径20nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：20nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为8:2，二氧化硅粒子的质量百分比为5％、紫外光固化涂覆液中的质量百分比为95％。然后将上述混合涂覆液喷涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为80℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4.5％。
实施例16：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径30nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：30nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为3:7，二氧化硅粒子的质量百分比为20％、紫外光固化涂覆液中的质量百分比为80％。然后将上述混合涂覆液喷涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为100℃，烘干时间为4min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于5％。
实施例17：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径50nm、100nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：50nm与100nm的二氧化硅粒子的质量比为6:4，二氧化硅粒子的质量百分比为15％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为85％。然后将上述混合涂覆液淋涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为80℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4％。
实施例18：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径50nm、150nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：50nm与150nm的二氧化硅粒子的质量比为4:6，二氧化硅粒子的质量百分比为10％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为90％。然后将上述混合涂覆液淋涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为100℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4％。
实施例19：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径40nm、200nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：40nm与200nm的二氧化硅粒子的质量比为5:5，二氧化硅粒子的质量百分比为20％、紫外光固化涂覆液的质量百分比为80％。然后将上述混合涂覆液淋涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为100℃，烘干时间为3min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于2.5％。
实施例20：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤是：首先将粒径20nm、200nm两种规格的二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液按下述比例混合均匀：20nm与200nm的二氧化硅粒子的质量比为2:8，二氧化硅粒子的质量百分比为15％、紫外光固化涂覆液中的质量百分比为85％。然后将上述混合涂覆液淋涂于亚克力、聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质的模具的环状外套内壁，待混合涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，并使烘干温度为90℃，烘干时间为5min。用紫外光照射透明模具使涂层固化，即在环状外套内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层。组装模具的同心柱状内衬，在内衬和外套间隙注入室温固化模板硅胶。待硅胶固化后，小心脱模，得到环状履带式样的硅胶模板。进一步，将得到的环状履带式样的硅胶模板套辊，采用卷对卷工艺方式配合光固化工艺在PC、PMMA、PC-PMMA复合板或PET板材上连续制作减反射结构，所得减反射板材在可见光波长范围内最大反射率低于4.5％。
实施例21：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤为：首先用含有无机粒子的高分子涂覆液在模具上制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层，然后用硅胶在具有纳米凹凸结构的减反射涂层上制模，最后待硅胶固化后脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板。
实施例22：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤为：
a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：
取环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2作为模具；即：模具由环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2构成；具有纳米凹凸结构的减反射涂层(均匀)涂覆于环状外套1内壁，环状外套1和柱状内衬2之间形成有一定间隙，该间隙用于填充硅胶制模，间隙的厚度(即径向宽度)较好的是等于最终所制能连续制备塑料基材减反射结构的模板的厚度；
按二氧化硅粒子5％、紫外光固化涂覆液95％的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子(即二氧化硅粒子)的高分子涂覆液(即紫外光固化涂覆液)，备用；
b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：
将含有无机粒子的高分子涂覆液(均匀)涂覆于所述模具的环状外套1内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，烘干温度为80℃、烘干时间为5min，再经紫外光固化(即经紫外光照射，使含有纳米粒子的高分子涂覆液形成的涂层固化)，即在环状外套1内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层3；
c、制模：
将柱状内衬2置于环状外套1中并同心放置，在柱状内衬2和环状外套1之间的间隙中注入(室温固化模板)硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；
所述模具上形成的(减反射)涂层具有纳米凹凸结构，这种纳米凹凸结构在反射界面上能形成渐进的折射率，进而可以起到减反射的效果；硅胶制模的目的即是将该纳米凹凸结构的互补结构(即阴模)转移至硅胶模具上，然后以硅胶为模板再在塑料基材表面连续复制出这种具有减反射功能的纳米凹凸结构；
d、脱模：
待硅胶固化后，(小心)脱模(即将与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶从模具中脱出)，即制得(环状履带式样的)能连续制备塑料基材减反射结构的模板4(或称为履带状硅胶模板)；该模板4的尺寸可以根据实际需要通过调整模具中环状外套1和柱状内衬2的直径和高度调节，特别适合用于卷对卷工艺连续大规模生产具有减反射功能的面板。
实施例23：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤为：
a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：
取环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2作为模具；即：模具由环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2构成；具有纳米凹凸结构的减反射涂层(均匀)涂覆于环状外套1内壁，环状外套1和柱状内衬2之间形成有一定间隙，该间隙用于填充硅胶制模，间隙的厚度(即径向宽度)较好的是等于最终所制能连续制备塑料基材减反射结构的模板的厚度；
按二氧化硅粒子20％、紫外光固化涂覆液80％的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子(即二氧化硅粒子)的高分子涂覆液(即紫外光固化涂覆液)，备用；
b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：
将含有无机粒子的高分子涂覆液(均匀)涂覆于所述模具的环状外套(1)内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，烘干温度为130℃、烘干时间为1min，再经紫外光固化(即经紫外光照射，使含有纳米粒子的高分子涂覆液形成的涂层固化)，即在环状外套1内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层3；
c、制模：
将柱状内衬2置于环状外套1中并同心放置，在柱状内衬2和环状外套1之间的间隙中注入(室温固化模板)硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；
所述模具上形成的(减反射)涂层具有纳米凹凸结构，这种纳米凹凸结构在反射界面上能形成渐进的折射率，进而可以起到减反射的效果；硅胶制模的目的即是将该纳米凹凸结构的互补结构(即阴模)转移至硅胶模具上，然后以硅胶为模板再在塑料基材表面连续复制出这种具有减反射功能的纳米凹凸结构；
d、脱模：
待硅胶固化后，(小心)脱模(即将与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶从模具中脱出)，即制得(环状履带式样的)能连续制备塑料基材减反射结构的模板4(或称为履带状硅胶模板)；该模板4的尺寸可以根据实际需要通过调整模具中环状外套1和柱状内衬2的直径和高度调节，特别适合用于卷对卷工艺连续大规模生产具有减反射功能的面板。
实施例24：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤为：
a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：
取环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2作为模具；即：模具由环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2构成；具有纳米凹凸结构的减反射涂层(均匀)涂覆于环状外套1内壁，环状外套1和柱状内衬2之间形成有一定间隙，该间隙用于填充硅胶制模，间隙的厚度(即径向宽度)较好的是等于最终所制能连续制备塑料基材减反射结构的模板的厚度；
按二氧化硅粒子12.5％、紫外光固化涂覆液87.5％的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子(即二氧化硅粒子)的高分子涂覆液(即紫外光固化涂覆液)，备用；
b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：
将含有无机粒子的高分子涂覆液(均匀)涂覆于所述模具的环状外套1内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，烘干温度为105℃、烘干时间为3min，再经紫外光固化(即经紫外光照射，使含有纳米粒子的高分子涂覆液形成的涂层固化)，即在环状外套1内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层3；
c、制模：
将柱状内衬2置于环状外套1中并同心放置，在柱状内衬2和环状外套1之间的间隙中注入(室温固化模板)硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；
所述模具上形成的(减反射)涂层具有纳米凹凸结构，这种纳米凹凸结构在反射界面上能形成渐进的折射率，进而可以起到减反射的效果；硅胶制模的目的即是将该纳米凹凸结构的互补结构(即阴模)转移至硅胶模具上，然后以硅胶为模板再在塑料基材表面连续复制出这种具有减反射功能的纳米凹凸结构；
d、脱模：
待硅胶固化后，(小心)脱模(即将与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶从模具中脱出)，即制得(环状履带式样的)能连续制备塑料基材减反射结构的模板4(或称为履带状硅胶模板)；该模板4的尺寸可以根据实际需要通过调整模具中环状外套1和柱状内衬2的直径和高度调节，特别适合用于卷对卷工艺连续大规模生产具有减反射功能的面板。
实施例25-31：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤为：
a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：
取环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2作为模具；即：模具由环状外套1和可以设置在环状外套1中、与环状外套1同心的柱状内衬2构成；具有纳米凹凸结构的减反射涂层(均匀)涂覆于环状外套1内壁，环状外套1和柱状内衬2之间形成有一定间隙，该间隙用于填充硅胶制模，间隙的厚度(即径向宽度)较好的是等于最终所制能连续制备塑料基材减反射结构的模板的厚度；
按二氧化硅粒子5～20％、紫外光固化涂覆液80～95％的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子(即二氧化硅粒子)的高分子涂覆液(即紫外光固化涂覆液)，备用；各实施例中各原料的具体质量百分比用量见下表：
b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：
将含有无机粒子的高分子涂覆液(均匀)涂覆于所述模具的环状外套1内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，用红外线烘干，烘干温度为80～130℃中任一温度、烘干时间为1～5min中任一时间，再经紫外光固化(即经紫外光照射，使含有纳米粒子的高分子涂覆液形成的涂层固化)，即在环状外套1内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层3；
c、制模：
将柱状内衬2置于环状外套1中并同心放置，在柱状内衬2和环状外套1之间的间隙中注入(室温固化模板)硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；
所述模具上形成的(减反射)涂层具有纳米凹凸结构，这种纳米凹凸结构在反射界面上能形成渐进的折射率，进而可以起到减反射的效果；硅胶制模的目的即是将该纳米凹凸结构的互补结构(即阴模)转移至硅胶模具上，然后以硅胶为模板再在塑料基材表面连续复制出这种具有减反射功能的纳米凹凸结构；
d、脱模：
待硅胶固化后，(小心)脱模(即将与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶从模具中脱出)，即制得(环状履带式样的)能连续制备塑料基材减反射结构的模板4(或称为履带状硅胶模板)；该模板4的尺寸可以根据实际需要通过调整模具中环状外套1和柱状内衬2的直径和高度调节，特别适合用于卷对卷工艺连续大规模生产具有减反射功能的面板。
实施例32：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为20nm，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为100nm；其它同实施例21-31中任一，省略。
实施例33：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为9:1混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为50nm，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为200nm；其它同实施例21-31中任一，省略。
实施例34：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:4.5混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为35nm，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为150nm；其它同实施例21-31中任一，省略。
实施例35：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为4.5:1混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为33nm，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为160nm；其它同实施例21-31中任一，省略。
实施例36-42：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9～9:1混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为20～50nm(实施例36-42的粒径分别为：23、26、29、32、38、43、46nm)，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为100～200nm(实施例36-42的粒径分别为：113、126、139、143、158、173、186nm)；其它同实施例21-31中任一，省略；各实施例中各原料的具体质量比用量见下表：
实施例43-49：
一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9～9:1混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为20～50nm(实施例43-49的粒径分别为：25、28、31、37、41、45、48nm)，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为100～200nm(实施例43-49的粒径分别为：115、129、143、159、171、182、196nm)；其它同实施例21-31中任一，省略；各实施例中各原料的具体质量比用量见下表：
上述实施例21-49中：步骤a中所述紫外光固化涂覆液为市售商品，可以是深圳撒比科技有限公司提供的HC-UVPCM-1、厦门茁耀科技有限公司提供的UV-8380、深圳市钟宏科技有限公司提供的宏泰品牌的UV固化液、深圳凡高化工材料有限公司提供的FC-300、无锡惠星新材料科技有限公司提供的晶钻品牌UV固化液、鹤山市励志门贸易有限公司提供的LE-6206X、苏州安富新材料技术有限公司提供的韩国HND生产的DHCS-M182或DHCS-C127、以及东莞市贝特利新材料有限公司提供的BTF系列的紫外光固化涂覆液中的任一种。
上述实施例21-49中：步骤c中所述硅胶系市售商品，为室温固化模板硅胶，可以是道康宁SYLGARD 184、东芝TSE-3488T、东莞市国创有机硅材料有限公司提供的C825、以及东莞市广志复合材料有限公司提供的GZ1730矽利康硅胶中的任一种。
上述实施例21-49中：步骤a中所述模具为透明模具，材质可以为(普通)玻璃、石英、亚克力、以及聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质中的任一种；这些材质均能与步骤b所述涂层紧密结合，且都为透明材质，便于紫外光对涂层进行固化。
上述实施例21-49中：步骤b中所述涂覆的方式可以是采用淋涂或喷涂方式中的任一种。
上述实施例21-49中：步骤a中所述二氧化硅粒子较好的是由公知的法制备。
上述实施例21-49的进一步的技术内容是：一种塑料基材减反射结构的连续制备方法，是将所述制得(环状履带式样)的能连续制备塑料基材减反射结构的模板在使用时优选采用卷对卷工艺方式(即Roll to Roll生产工艺，系现有技术)配合光固化工艺在塑料基材表面获得纳米减反射结构(如附图2所示)，具体方法及步骤为：
(a)将所制得(环状履带式样)的能连续制备塑料基材减反射结构的模板4套辊5；
(b)取透明塑料基材8[可以是聚碳酸酯(简称PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(简称PMMA)、PC-PMMA复合材料、或聚对苯二甲酸乙二酯(简称PET)等材质]，在透明塑料基材8表面涂覆光固化树脂层9并烘干；
(c)将涂覆了光固化树脂层9的透明塑料基材8放于传送辊6上，使光固化树脂层9向上，让透明塑料基材8在走辊过程中与能连续制备塑料基材减反射结构的模板4贴合，同时利用置于传送辊6下方的紫外灯7辐照并固化光固化树脂层9；
(d)随着走辊过程的进行，透明塑料基材8上的光固化树脂层9被固化，并在走辊过程中与能连续制备塑料基材减反射结构的模板4剥离，进而在透明塑料基材8表面获得与能连续制备塑料基材减反射结构的模板4之纳米凹凸结构互补的纳米减反射结构。
所述透明塑料基材表面反射率的测试执行标准为：ASTM F1252-2010。
上述实施例中：所采用的各原料均为市售产品。
上述实施例中：所采用的百分比例中，未特别注明的，均为质量(重量)百分比例或本领域技术人员公知的百分比例；所述质量(重量)份可以均是克或千克。
上述实施例中：各步骤中的工艺参数(温度、时间等)和各组分用量数值等为范围的，任一点均可适用。
本发明内容及上述实施例中未具体叙述的技术内容同现有技术。
本发明不限于上述实施例，本发明内容所述均可实施并具有所述良好效果。
Claims (8)
1.一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是步骤为：首先用含有无机粒子的高分子涂覆液在模具上制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层，然后用硅胶在具有纳米凹凸结构的减反射涂层上制模，最后待硅胶固化后脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板。
2.按权利要求1所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是具体步骤为：
a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：
取环状外套（1）和可以设置在环状外套（1）中、与环状外套（1）同心的柱状内衬（2）作为模具；环状外套（1）和柱状内衬（2）之间形成有一定间隙；
按二氧化硅粒子5～20%、紫外光固化涂覆液80～95%的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子的高分子涂覆液，备用；
b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：
将含有无机粒子的高分子涂覆液涂覆于所述模具的环状外套（1）内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，烘干，烘干温度为80～130℃、烘干时间为1～5 min，再经紫外光固化，即在环状外套（1）内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层（3）；
c、制模：
将柱状内衬（2）置于环状外套（1）中并同心放置，在柱状内衬（2）和环状外套（1）之间的间隙中注入硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；
d、脱模：
待硅胶固化后，脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板。
3.按权利要求2所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9～9:1混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为20～50 nm，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为100～200 nm。
4.按权利要求2或3所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述紫外光固化涂覆液是深圳撒比科技有限公司提供的HC-UVPCM-1、厦门茁耀科技有限公司提供的UV-8380、深圳市钟宏科技有限公司提供的宏泰品牌的UV固化液、深圳凡高化工材料有限公司提供的FC-300、无锡惠星新材料科技有限公司提供的晶钻品牌UV固化液、鹤山市励志门贸易有限公司提供的LE-6206X、苏州安富新材料技术有限公司提供的韩国HND生产的DHCS-M182或DHCS-C127、以及东莞市贝特利新材料有限公司提供的BTF系列的紫外光固化涂液中的任一种。
5.按权利要求2或3所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤c中所述硅胶是道康宁SYLGARD 184、东芝TSE-3488T、东莞市国创有机硅材料有限公司提供的C825、以及东莞市广志复合材料有限公司提供的GZ1730矽利康硅胶中的任一种。
6.按权利要求2或3所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述模具为透明模具，材质为玻璃、石英、亚克力、以及聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质中的任一种。
7.按权利要求2或3所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤b中所述涂覆是采用淋涂或喷涂方式。
8.按权利要求2或3所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述二氧化硅粒子由Stöber法制备。
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| CN106887472A true CN106887472A (zh) | 2017-06-23 |
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| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN106887472B (zh) |
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |