CN106731905A - 一种新型磺化聚砜复合纳滤膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种新型磺化聚砜复合纳滤膜及其制备方法,复合纳滤膜包括无纺布、基膜和复合层,使用聚砜、添加剂以及溶剂配制铸膜液,涂覆层以磺化聚砜和樟脑磺酸作为原料,采用稀溶液浸渍涂敷法制备超薄功能层复合膜。无纺布厚度在60‑100μm之间,基膜厚度在30‑50μm之间,复合层厚度在300‑500nm之间;纳滤基膜的膜分离孔径在0.05‑0.5μm之间,复合膜的截留分子量在800‑1000Da之间。该制膜方法简单易行、绿色无污染,所得新型纳滤复合膜抗氧化能力强,操作压力低,水通量高。
Description
技术领域
本发明属材料技术领域,具体涉及一种新型磺化聚砜复合纳滤膜及其制备方法。
背景技术
20世纪初,膜技术成为一种新型的分离技术。目前在水处理和净水产业生产过程中的需求日益迫切。膜分离技术具有分离环保、节能、易于控制和操作的特性,已经成为重要的分离提纯手段之一。复合膜的研制是一种膜制造的改性方法,同时也是当今使用最多且最为有效的制膜方法。制造复合膜最常用的方法是溶液涂覆法,将配制好的制膜液直接涂敷在基膜上,通过溶剂蒸发或者相转化法制成复合膜。此方法技术成熟,制得的复合膜性能稳定,可大规模生产。
现有涂覆工艺制备的复合纳滤膜存在成本高,涂层厚,通量低等问题,限制了大规模工业化应用。
专利CN104524933A中提供一种新型交联磺化聚砜/聚醚砜-磺化聚砜复合膜的制备方法。发明中选用多羟基、多胺基物质为交联剂,通过改变加入交联剂的种类和含量调整复合膜的截留性能。但此发明中基膜选用聚砜和聚醚砜共混铸膜,磺化聚砜层磺化聚砜的磺化度较高,这就存在产业化成本高的问题,同时所制复合膜的通量较低小于10LMH,不利于工程应用。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题,本发明提供一种新型磺化聚砜复合纳滤膜及其制备方法。
本发明采用的技术方案具体为:
一种新型磺化聚砜复合纳滤膜,包括无纺布、基膜和涂覆层,其中:
无纺布厚度在60-100μm之间,基膜厚度在30-50μm之间,复合层厚度在300-500nm之间;
所述基膜的分离孔径在0.05-0.5μm之间;
所述复合层的截留分子量在800-1000Da之间。
一种新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法,包括如下步骤:
(1)铸膜液体系的配制:
使用聚砜、添加剂以及溶剂配制铸膜液。
(2)复合纳滤膜的制备:
采用稀溶液浸渍涂敷法制膜,包括基膜的制备和复合膜的制备。
基膜的制备:向脱好泡的铸膜液中打入氮气,对其加压打料,将料液管放入料液槽中,开启铸膜机,开始铸膜;基膜出凝胶槽后需调整并测试其厚度,合格基膜收卷后清零铸膜计数器。基膜的预处理方式包括甘油保护风干、自然风干以及基膜表面有一定湿度。
复合膜的制备:将配制好的涂覆液浸渍涂覆在基膜表面。初步成型复合膜在一定的烘干时间下固化形成复合膜。然后再将复合膜浸泡在甘油中,之后自然风干。
上述新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法(1)中铸膜液体系由以下组分混合而成:
聚砜的固含量为0-30wt.%;
添加剂为小分子酮类、小分子醇类、不同分子量聚乙二醇、不同分子量聚乙烯吡咯烷酮,添加剂的含量为0-20wt.%。
余量为溶剂,溶剂为二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亚砜等至少一种。
上述新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法(2)中基膜的制备的反应条件如下:
铸膜室的湿度控制在20-60%;
温度控制在20-50℃;
在洁净的铸膜室内进行铸膜,基膜厚度为30-50um(无纺布采用三木74,90g/m2);
铸膜速度为6-10m/min。
上述新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法(2)中涂覆层配方由以下组分构成:
磺化聚砜类高聚物,为磺化聚砜或磺化聚醚砜,磺化度15-100%;
樟脑磺酸类添加剂,为樟脑磺酸或含有樟脑磺酸类结构的添加剂,添加剂含量为0-20wt.%。
本发明产生的有益效果是:
本发明将樟脑磺酸直接添加到磺化聚砜层中减小分离孔径,复合层外层为磺化聚砜与樟脑磺酸混合体系,体系简单,从膜制备角度上来讲,易于控制,简单易行,绿色无污染。本发明中复合膜具有良好的抗氧化性,常规纳滤膜的水通量较低,实际应用过程中能耗较高,本发明中复合膜操作压力低,水通量高。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的技术方案作进一步详细的说明。
实施一:
基膜预处理:将聚砜平板纳滤膜首先进行预处理:配制15%浓度甘油溶液,在25℃温度和55%空气相对湿度条件下,将15%浓度甘油溶液均匀涂覆于聚砜平板纳滤基膜上制得预处理基膜。
涂膜液的配制:将19.6kg乙二醇单甲醚溶液(MC)倒入搅拌釜中,加入0.1kg磺化聚砜(磺化度25%),在常温下搅拌溶液充分溶解后添加0.3kg的樟脑磺酸。其中,磺化聚砜的固含量为0.5wt.%,樟脑磺酸的固含量为1.5wt.%,溶剂添加量为98wt.%,搅拌均匀后静止脱泡。
将铸膜室的湿度控制在40%左右,温度控制在25℃左右,在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸膜厚度(无纺布+基膜)为130um(无纺布采用三木74,90g/m2),铸膜速度为10m/min。铸膜液快速进入温度为16.0℃的纯水中,并经过不同温度的纯水清洗槽,得到聚砜基膜。采用稀溶液浸渍涂覆法涂覆磺化聚砜层得到复合纳滤膜DF-1000。其中,涂覆速度为4m/s,滚动压力为1000N,蒸发时间为5s。
按照常规的膜性能评价方法,在压力为0.41MPa,料液温度为25℃,复合纳滤膜DF-1000的纯水通量为147LMH,对250mg/L的硫酸钠截留率为85.8%,对250mg/L的氯化钠截留率为36.9%,对PEG1000(相对分子量为1000)的截留率为91.4%。
实施二:
基膜预处理条件同实施条件1,基膜采甘油水溶液保护后风干。
涂膜液的配制:将19.8kg乙二醇单甲醚溶液(MC)倒入搅拌釜中,加入0.1kg磺化聚砜(磺化度25%),在常温下搅拌溶液充分溶解后添加0.1kg的樟脑磺酸。其中,磺化聚砜的固含量为0.5wt.%,樟脑磺酸的固含量为0.5wt.%,溶剂添加量为99wt.%,搅拌均匀后静止脱泡。
将铸膜室的湿度控制在40%左右,温度控制在25℃左右,在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸膜厚度为130um(无纺布采用三木74,90g/m2),铸膜速度为10m/min。铸膜液快速进入温度为16.0℃的纯水中,并经过不同温度的纯水清洗槽,得到聚砜基膜。采用稀溶液浸渍涂覆法涂覆磺化聚砜层得到复合纳滤膜DF-1000。其中,涂覆速度为4m/s,滚动压力为1000N,蒸发时间为5s。
按照常规的膜性能评价方法,在压力为0.41MPa,料液温度为25℃,复合纳滤膜DF-1000的纯水通量为140LMH,对250mg/L的硫酸钠截留率为83%,对250mg/L的氯化钠截留率为34.15%,对PEG1000(相对分子量为1000)的截留率为89.5%。
实施三:
基膜预处理条件同实施条件1,基膜采甘油水溶液保护后风干。
涂膜液的配制:将19.7kg乙二醇单甲醚溶液(MC)倒入搅拌釜中,加入0.1kg磺化聚砜(磺化度25%),在常温下搅拌溶液充分溶解后添加0.2kg的樟脑磺酸。其中,磺化聚砜的固含量为0.5wt.%,樟脑磺酸的固含量为1.0wt.%,溶剂添加量为98.5wt.%,搅拌均匀后静止脱泡。
将铸膜室的湿度控制在40%左右,温度控制在25℃左右,在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸膜厚度为130um(无纺布采用三木74,90g/m2),铸膜速度为10m/min。铸膜液快速进入温度为16.0℃的纯水中,并经过不同温度的纯水清洗槽,得到聚砜基膜。采用稀溶液浸渍涂覆法涂覆磺化聚砜层得到复合纳滤膜DF-1000。其中,涂覆速度为4m/s,滚动压力为1000N,蒸发时间为5s。
按照常规的膜性能评价方法,在压力为0.41MPa,料液温度为25℃,复合纳滤膜DF-1000的纯水通量为159LMH,对250mg/L的硫酸钠截留率为83.6%,对250mg/L的氯化钠截留率为35.2%,对PEG1000(相对分子量为1000)的截留率为89.35%。
实施四:
基膜预处理条件同实施条件1,基膜采甘油水溶液保护后风干。
涂膜液的配制:将19.5kg乙二醇单甲醚溶液(MC)倒入搅拌釜中,加入0.1kg磺化聚砜(磺化度25%),在常温下搅拌溶液充分溶解后添加0.4kg的樟脑磺酸。其中,磺化聚砜的固含量为0.5wt.%,樟脑磺酸的固含量为2.0wt.%,溶剂添加量为97.5wt.%,搅拌均匀后静止脱泡。
将铸膜室的湿度控制在40%左右,温度控制在25℃左右,在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸膜厚度为130um(无纺布采用三木74,90g/m2),铸膜速度为10m/min。铸膜液快速进入温度为16.0℃的纯水中,并经过不同温度的纯水清洗槽,得到聚砜基膜。采用稀溶液浸渍涂覆法涂覆磺化聚砜层得到复合纳滤膜DF-1000。其中,涂覆速度为4m/s,滚动压力为1000N,蒸发时间为5s。
按照常规的膜性能评价方法,在压力为0.41MPa,料液温度为25℃,复合纳滤膜DF-1000的纯水通量为147LMH,对250mg/L的硫酸钠截留率为84.7%,对250mg/L的氯化钠截留率为36.1%,对PEG1000(相对分子量为1000)的截留率为90.1%。
实施五:
基膜预处理条件同实施条件1,基膜采甘油水溶液保护后风干。
涂膜液的配制:将19.4kg乙二醇单甲醚溶液(MC)倒入搅拌釜中,加入0.1kg磺化聚砜(磺化度25%),在常温下搅拌溶液充分溶解后添加0.5kg的樟脑磺酸。其中,磺化聚砜的固含量为0.5wt.%,樟脑磺酸的固含量为2.5wt.%,溶剂添加量为97wt.%,搅拌均匀后静止脱泡。
将铸膜室的湿度控制在40%左右,温度控制在25℃左右,在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸膜厚度为130um(无纺布采用三木74,90g/m2),铸膜速度为10m/min。铸膜液快速进入温度为16.0℃的纯水中,并经过不同温度的纯水清洗槽,得到聚砜基膜。采用稀溶液浸渍涂覆法涂覆磺化聚砜层得到复合纳滤膜DF-1000。其中,涂覆速度为4m/s,滚动压力为1000N,蒸发时间为5s。
按照常规的膜性能评价方法,在压力为0.41MPa,料液温度为25℃,复合纳滤膜DF-1000的纯水通量为139.9LMH,对250mg/L的硫酸钠截留率为85.9%,对250mg/L的氯化钠截留率为37.8%,对PEG1000(相对分子量为1000)的截留率为90.2%。
实施六:
基膜预处理条件同实施条件1,基膜采甘油水溶液保护后风干。
涂膜液的配制:将19.6kg乙二醇单甲醚溶液(MC)倒入搅拌釜中,加入0.1kg磺化聚砜(磺化度25%),在常温下搅拌溶液充分溶解后添加0.3kg的樟脑磺酸。其中,磺化聚砜的固含量为0.5wt.%,樟脑磺酸的固含量为1.5wt.%,溶剂添加量为98wt.%,搅拌均匀后静止脱泡。
将铸膜室的湿度控制在40%左右,温度控制在25℃左右,在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸膜厚度为130um(无纺布采用三木74,90g/m2),铸膜速度为10m/min。铸膜液快速进入温度为16.0℃的纯水中,并经过不同温度的纯水清洗槽,得到聚砜基膜。采用稀溶液浸渍涂覆法涂覆磺化聚砜层得到复合纳滤膜DF-1000。其中,涂覆速度为2m/s,滚动压力为1000N,蒸发时间为5s。
按照常规的膜性能评价方法,在压力为0.41MPa,料液温度为25℃,复合纳滤膜DF-1000的纯水通量为154LMH,对250mg/L的硫酸钠截留率为90%,对250mg/L的氯化钠截留率为39.9%,对PEG1000(相对分子量为1000)的截留率为91.1%。
实施七:基膜预处理条件同实施条件1,基膜采甘油水溶液保护后风干。
涂膜液的配制:将19.6kg乙二醇单甲醚溶液(MC)倒入搅拌釜中,加入0.1kg磺化聚砜(磺化度25%),在常温下搅拌溶液充分溶解后添加0.3kg的樟脑磺酸。其中,磺化聚砜的固含量为0.5wt.%,樟脑磺酸的固含量为1.5wt.%,溶剂添加量为98wt.%,搅拌均匀后静止脱泡。
将铸膜室的湿度控制在40%左右,温度控制在25℃左右,在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸膜厚度为130um(无纺布采用三木74,90g/m2),铸膜速度为10m/min。铸膜液快速进入温度为16.0℃的纯水中,并经过不同温度的纯水清洗槽,得到聚砜基膜。采用稀溶液浸渍涂覆法涂覆磺化聚砜层得到复合纳滤膜DF-1000。其中,涂覆速度为4m/s,滚动压力为1000N,蒸发时间为10s。
按照常规的膜性能评价方法,在压力为0.41MPa,料液温度为25℃,复合纳滤膜DF-1000的纯水通量为130LMH,对250mg/L的硫酸钠截留率为91.3%,对250mg/L的氯化钠截留率为45.1%,对PEG1000(相对分子量为1000)的截留率为94.3%。
显然,以上所述仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何对本领域的技术人员来说是可轻易想到的、实质上没有脱离本发明的变化或替换,也均包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种新型磺化聚砜复合纳滤膜,其特征在于,所述复合纳滤膜包括无纺布、基膜和涂覆层,其中:
无纺布厚度在60-100μm之间,基膜厚度在30-50μm之间,复合层厚度在300-500nm之间;
所述基膜的分离孔径在0.05-0.5μm之间;
所述复合膜的截留分子量在800-1000Da之间。
2.一种新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)铸膜液体系的配制:
使用聚砜、添加剂以及溶剂配制铸膜液。
(2)复合纳滤膜的制备:
采用稀溶液浸渍涂敷法制膜,包括基膜的制备和复合膜的制备。
基膜的制备:向脱好泡的铸膜液中打入氮气,对其加压打料,将料液管放入料液槽中,开启铸膜机,开始铸膜;基膜出凝胶槽后需调整并测试其厚度,合格基膜收卷后清零铸膜计数器。基膜的预处理方式包括甘油保护风干、自然风干以及基膜表面有一定湿度。
复合膜的制备:将配制好的涂覆液浸渍涂覆在基膜表面。初步成型复合膜在一定的烘干时间下固化形成复合膜。然后再将复合膜浸泡在甘油中,之后自然风干。
3.如权利要求2,所述新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法,其特征在于,所述(1)中铸膜液体系由以下组分混合而成:
聚砜的固含量为0-30wt.%;
添加剂为小分子酮类、小分子醇类、不同分子量聚乙二醇、不同分子量聚乙烯吡咯烷酮,添加剂的含量为0-20wt.%。
余量为溶剂。
4.如权利要求2,所述新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法,其特征在于,所述(1)中铸膜液体系溶剂为二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亚砜等至少一种。
5.如权利要求2所述新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法,其特征在于,所述(2)中基膜的制备条件如下:
铸膜室的湿度控制在20-60%;
温度控制在20-50℃;
在洁净的铸膜室内进行铸膜,铸基膜厚度为30-50μm(无纺布采用不同型号三木);
铸膜速度为6-10m/min。
6.如权利要求2所述新型磺化聚砜复合纳滤膜的制备方法,其特征在于,所述(2)中涂覆层配方由以下组分构成:
磺化聚砜类高聚物,为磺化聚砜或磺化聚醚砜,磺化度15-100%;
樟脑磺酸类添加剂,为樟脑磺酸或含有樟脑磺酸类结构的添加剂,添加剂含量为0-20wt.%。
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PB01 | Publication | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
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Application publication date: 20170531 |