CN106675696A - 硅片切割用砂浆 - Google Patents

硅片切割用砂浆 Download PDF

Info

Publication number
CN106675696A
CN106675696A CN201611239531.1A CN201611239531A CN106675696A CN 106675696 A CN106675696 A CN 106675696A CN 201611239531 A CN201611239531 A CN 201611239531A CN 106675696 A CN106675696 A CN 106675696A
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicon chip
cutting
mortar
dispersant
chip cutting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
CN201611239531.1A
Other languages
English (en)
Inventor
张彩霞
阮文娟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SUZHOU GCL PHOTOVOLTAIC TECHNOLOGY Co Ltd
Original Assignee
SUZHOU GCL PHOTOVOLTAIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUZHOU GCL PHOTOVOLTAIC TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical SUZHOU GCL PHOTOVOLTAIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201611239531.1A priority Critical patent/CN106675696A/zh
Publication of CN106675696A publication Critical patent/CN106675696A/zh
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M129/00Lubricating compositions characterised by the additive being an organic non-macromolecular compound containing oxygen
    • C10M129/02Lubricating compositions characterised by the additive being an organic non-macromolecular compound containing oxygen having a carbon chain of less than 30 atoms
    • C10M129/26Carboxylic acids; Salts thereof
    • C10M129/28Carboxylic acids; Salts thereof having carboxyl groups bound to acyclic or cycloaliphatic carbon atoms
    • C10M129/30Carboxylic acids; Salts thereof having carboxyl groups bound to acyclic or cycloaliphatic carbon atoms having 7 or less carbon atoms
    • C10M129/36Carboxylic acids; Salts thereof having carboxyl groups bound to acyclic or cycloaliphatic carbon atoms having 7 or less carbon atoms containing hydroxy groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M141/00Lubricating compositions characterised by the additive being a mixture of two or more compounds covered by more than one of the main groups C10M125/00 - C10M139/00, each of these compounds being essential
    • C10M141/02Lubricating compositions characterised by the additive being a mixture of two or more compounds covered by more than one of the main groups C10M125/00 - C10M139/00, each of these compounds being essential at least one of them being an organic oxygen-containing compound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2201/00Inorganic compounds or elements as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2201/08Inorganic acids or salts thereof
    • C10M2201/084Inorganic acids or salts thereof containing sulfur, selenium or tellurium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2207/00Organic non-macromolecular hydrocarbon compounds containing hydrogen, carbon and oxygen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2207/10Carboxylix acids; Neutral salts thereof
    • C10M2207/12Carboxylix acids; Neutral salts thereof having carboxyl groups bound to acyclic or cycloaliphatic carbon atoms
    • C10M2207/121Carboxylix acids; Neutral salts thereof having carboxyl groups bound to acyclic or cycloaliphatic carbon atoms having hydrocarbon chains of seven or less carbon atoms
    • C10M2207/124Carboxylix acids; Neutral salts thereof having carboxyl groups bound to acyclic or cycloaliphatic carbon atoms having hydrocarbon chains of seven or less carbon atoms containing hydroxy groups; Ethers thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2010/00Metal present as such or in compounds
    • C10N2010/04Groups 2 or 12

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

本发明涉及一种硅片切割用砂浆。其包括切割液以及悬浮在所述切割液中的磨料,切割液包括有机盐类分散剂。上述硅片切割用砂浆中,有机盐类分散剂可以吸附在磨料颗粒的表面,改变磨料颗粒表面的性质,从而改变磨料颗粒与切割液、颗粒与颗粒之间的相互作用,使磨料颗粒之间有较强的排斥力,从而使磨料颗粒均匀分散在切割液中,以抑制浆料絮凝,使得颗粒不容易沉积。

Description

硅片切割用砂浆
技术领域
本发明涉及硅片加工领域,特别是涉及一种硅片切割用砂浆。
背景技术
多线切割是利用并排的钢丝在运动过程中将切割用砂浆带入硅块切割缝隙中,通过砂浆中磨料的滚磨作用将硅块加工成硅片的过程。在光伏行业,砂浆线切割已发展成重要的硅片加工技术,此加工技术稳定可行,已实现产业的全覆盖。
砂浆作为切割辅料,是以磨料(通常为碳化硅)和切割液混合配制而成,然而,传统的砂浆在硅片切割过程中存在严重的沉积问题,即硅片切割过程中因砂浆品质异常导致切屑不能及时移出锯缝,从而造成阻塞。目前砂浆沉积造成了两大问题:一、切割辅料砂浆的颗粒沉积导致硅片成品质量下降,影响成品性能,增加加工成本;二、沉积的碎屑会残留于加工出的硅片表面,大大增加了污片率和碎片率,会增加后道清洗工序成本。因此,砂浆沉积问题严重制约着硅片质量和生产成本。
发明内容
基于此,有必要针对传统的硅片切割用砂浆存在颗粒沉积的问题,提供一种颗粒不容易沉积的硅片切割用砂浆。
一种硅片切割用砂浆,包括切割液以及悬浮在所述切割液中的磨料,所述切割液包括有机盐类分散剂。
上述硅片切割用砂浆中,有机盐类分散剂可以吸附在磨料颗粒的表面,改变磨料颗粒表面的性质,从而改变磨料颗粒与切割液、颗粒与颗粒之间的相互作用,使磨料颗粒之间有较强的排斥力,从而使磨料颗粒均匀分散在切割液中,以抑制浆料絮凝,使得颗粒不容易沉积。
在其中一个实施例中,所述有机盐类分散剂为有机酸盐。
在其中一个实施例中,所述有机酸盐选自草酸盐、苹果酸盐和柠檬酸盐中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述有机盐类分散剂占所述硅片切割用砂浆的质量分数为0.08‰~0.1‰。
在其中一个实施例中,所述切割液还包括有机酸类分散助剂。
在其中一个实施例中,所述切割液还包括无机盐类分散剂。
在其中一个实施例中,所述有机盐类分散剂、所述有机酸类分散助剂和所述无机盐类分散剂的质量比为15:1:1~30:1:1。
在其中一个实施例中,所述无机盐类分散剂选自硫酸镁和氯化铵中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述有机盐类分散剂、所述有机酸类分散助剂和所述无机盐类分散剂的和与所述硅片切割用砂浆的体积比为3~4:7000。
在其中一个实施例中,所述碳化硅、所述切割液与所述硅片切割用砂浆的质量比为1:1:2~1:1.1:2.1。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
本发明提供一种硅片切割用砂浆,包括切割液以及悬浮在切割液中的磨料,切割液包括有机盐类分散剂。
太阳能硅片的线切割的机理是利用磨料的坚硬特性和锋利菱角将硅棒逐步截断。磨料优选为碳化硅。碳化硅俗名金刚砂或者耐火砂,纯品为无色晶体。工业品因含杂质而呈暗黑色。密度3.06~3.20g/cm3。硬度仅次于金刚石,莫氏硬度约9。一般为无色细颗粒,结构与金刚石相似。具有高硬度、高化学惰性、高热稳定性和半导体性。
切割液是以聚乙二醇(PEG)为主体,添加多种助剂复配而成。本发明的切割液中包括有机盐类分散剂,可以吸附在碳化硅颗粒的表面,改变碳化硅颗粒表面的性质,从而改变碳化硅颗粒与切割液、颗粒与颗粒之间的相互作用,使碳化硅颗粒之间有较强的排斥力,从而使碳化硅颗粒均匀分散在切割液中,以抑制浆料絮凝,使得颗粒不容易沉积。
在一个较优的实施例中,有机盐类分散剂为有机酸盐。更优选的,有机酸盐选自草酸盐、苹果酸盐和柠檬酸盐中的至少一种。这几种有机酸盐类分散剂具有优良的抗絮凝性能,加入切割砂浆中,能够更好的提升砂浆中碳化硅颗粒的缓凝性和稳定性,而使得加工出的硅片品质得到保证。同时,有机酸盐类分散剂不会对后续清洗环节造成影响,便于洗净不会残留于硅片表面。此类分散剂价格低廉,几乎不使硅片加工成本增加。
在一个较优的实施例中,有机盐类分散剂占硅片切割用砂浆的质量分数为0.08‰~0.1‰。更优的,当有机盐类分散剂为有机酸盐时,且有机酸盐占硅片切割用砂浆的质量分数为0.08‰~0.1‰时,分散性能显著提升,能够使砂浆沉积概率降低80%~90%,从而使加工过程中的碎片率降低达0.5%,污片率降低达0.25%。
在一个较优的实施例中,切割液还包括有机酸类分散助剂。有机酸类分散助剂可以选自草酸、苹果酸和柠檬酸中的至少一种。有机酸类分散助剂起到辅助分散的作用。
本发明的硅片切割用砂浆中,切割液还可以包括无机盐类分散剂。在一个较优的实施例中,无机盐类分散剂选自硫酸锰和氯化铵中的至少一种。硫酸锰或者氯化铵类的无机盐类分散剂与草酸盐、苹果酸盐或者柠檬酸盐类的有机酸盐配合使用,起到协同作用,能够使得切割砂浆中的碳化硅颗粒具有更好的抗絮凝性能,进一步提升切割砂浆的悬浮稳定性。
在一个较优的实施例中,有机盐类分散剂与无机盐类分散剂的摩尔比为100:1~100:2。经过试验证明,当有机盐类分散剂与无机盐类分散剂的配比处于上述范围内时,切割砂浆中的碳化硅颗粒具有最佳的抗絮凝性能,能够大幅提升切割砂浆的悬浮稳定性。
在一个较优的实施例中,有机盐类分散剂、有机酸类分散助剂和无机盐类分散剂的质量比为15:1:1~30:1:1。有机盐类分散剂、有机酸类分散助剂和无机盐类分散剂配合使用,起到协同作用,能够使得切割砂浆中的碳化硅颗粒具有更好的抗絮凝性能,进一步提升切割砂浆的悬浮稳定性。
在一个较优的实施例中,有机盐类分散剂、有机酸类分散助剂和无机盐类分散剂的和与硅片切割用砂浆的体积比为3~4:7000。经过试验证明,当有机盐类分散剂、有机酸类分散助剂和无机盐类分散剂的和与硅片切割用砂浆的体积比为3~4:7000时,分散性能显著提升,能够使砂浆沉积概率降低80%~90%,使加工过程中的碎片率降低达0.5%,污片率降低达0.25%。
此外,在一个较优的实施例中,碳化硅、切割液与硅片切割用砂浆的质量比为1:1:2~1:1.1:2.1。
上述硅片切割用砂浆中,有机盐类分散剂可以吸附在磨料颗粒的表面,改变磨料颗粒表面的性质,从而改变磨料颗粒与切割液、颗粒与颗粒之间的相互作用,使磨料颗粒之间有较强的排斥力,从而使磨料颗粒均匀分散在切割液中,以抑制浆料絮凝,使得颗粒不容易沉积。
下面结合具体实施例对本发明的硅片切割用砂浆进行进一步的说明。
其中,砂浆沉积概率和碎片率是有现场实施监控,统计数据人员得出;污片率是由分选机测得。
实施例1
将175kg碳化硅微粉与175kg切割液混合均匀,其中,切割液包括50g三种不同的有机酸盐类分散剂,得到三组硅片切割用砂浆。
之后由统计人员统计出砂浆沉积概率和碎片率,由分选机测得污片率,结果如表1所示。
表1实施例1的硅片切割用砂浆的组分及测试结果
从表1可以看出,当有机酸盐类分散剂选自柠檬酸盐时,本实施例的砂浆沉积概率最小,碎片率最低,且污片率最低。
实施例2
将175kg碳化硅微粉、三组不同质量的切割液混合均匀,其中,切割液包括50g柠檬酸盐,得到三组硅片切割用砂浆。
之后由统计人员统计出砂浆沉积概率和碎片率,由分选机测得污片率,结果如表2所示。
表2实施例2的硅片切割用砂浆的组分及测试结果
从表2可以看出,当碳化硅颗粒和切割液的质量比为1:1.05时,本实施例的砂浆沉积概率最小,碎片率最低,且污片率最低。
实施例3
将175kg碳化硅微粉与175kg切割液混合均匀,其中,切割液包括三种不同的分散剂,得到三组硅片切割用砂浆。
之后由统计人员统计出砂浆沉积概率和碎片率,由分选机测得污片率,结 果如表3所示。
表3实施例3的硅片切割用砂浆的组分及测试结果
从表3可以看出,当分散剂由32g柠檬酸盐、2g柠檬酸和2g硫酸镁组成时,本实施例的砂浆沉积概率最小,碎片率最低,且污片率最低。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种硅片切割用砂浆,其特征在于,包括切割液以及悬浮在所述切割液中的磨料,所述切割液包括有机盐类分散剂。
2.根据权利要求1所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述有机盐类分散剂为有机酸盐。
3.根据权利要求2所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述有机酸盐选自草酸盐、苹果酸盐和柠檬酸盐中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述有机盐类分散剂占所述硅片切割用砂浆的质量分数为0.08‰~0.1‰。
5.根据权利要求1所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述切割液还包括有机酸类分散助剂。
6.根据权利要求5所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述切割液还包括无机盐类分散剂。
7.根据权利要求6所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述有机盐类分散剂、所述有机酸类分散助剂和所述无机盐类分散剂的质量比为15:1:1~30:1:1。
8.根据权利要求6所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述无机盐类分散剂选自硫酸镁和氯化铵中的至少一种。
9.根据权利要求6~8中任一项所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述有机盐类分散剂、所述有机酸类分散助剂和所述无机盐类分散剂的和与所述硅片切割用砂浆的体积比为3~4:7000。
10.根据权利要求1所述的硅片切割用砂浆,其特征在于,所述碳化硅、所述切割液与所述硅片切割用砂浆的质量比为1:1:2~1:1.1:2.1。
CN201611239531.1A 2016-12-28 2016-12-28 硅片切割用砂浆 Withdrawn CN106675696A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611239531.1A CN106675696A (zh) 2016-12-28 2016-12-28 硅片切割用砂浆

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611239531.1A CN106675696A (zh) 2016-12-28 2016-12-28 硅片切割用砂浆

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106675696A true CN106675696A (zh) 2017-05-17

Family

ID=58873239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611239531.1A Withdrawn CN106675696A (zh) 2016-12-28 2016-12-28 硅片切割用砂浆

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106675696A (zh)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1903968A (zh) * 2005-07-25 2007-01-31 尤希路化学工业有限公司 水性磨料分散剂组合物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1903968A (zh) * 2005-07-25 2007-01-31 尤希路化学工业有限公司 水性磨料分散剂组合物

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
沈一丁、李小瑞编: "《陶瓷添加剂》", 31 July 2004, 化学工业出版社 *
熊兆贤等: "《无机材料研究方法》", 31 March 2001, 厦门大学出版社 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI281493B (en) Polishing material
AU2007290605B2 (en) Concentrated abrasive slurry compositions, methods of production, and methods of use thereof
TWI619805B (zh) 用於硬脆材料之研磨用組成物、硬脆材料基板之研磨方法及製造方法
TW200914655A (en) Wire saw process
CN113683962B (zh) 二氧化硅研磨抛光剂的制备方法
CN101161800B (zh) 一种水悬浮磨削液
CN108864948A (zh) 玻璃用抛光粉、抛光液及其制备方法、玻璃和电子产品
KR20130103513A (ko) 연마용 조성물
CN101684392B (zh) 一种化学机械抛光液
CN104830236A (zh) C向蓝宝石抛光液及其制备方法
CN106517857B (zh) 一种高含泥体系超长保坍混凝土专用型聚羧酸系减水剂
TW201704442A (zh) 研磨組成物以及使用其研磨組成物之研磨方法
CN102241959B (zh) 混合型研磨材料的生产方法
CN103641458B (zh) 一种高温纳米复合陶瓷材料及其制备方法
CN105273823B (zh) 一种多线硅片切割水溶性切削液及其制备方法
CN108017998A (zh) 一种cmp抛光液的制备方法
CN106675696A (zh) 硅片切割用砂浆
CN1951574A (zh) 一种碳化硅精细微粉的生产方法
CN108659811A (zh) 一种利用石英砂生产石油支撑剂的工艺制备方法
JP6899449B2 (ja) 切削油組成物
CN108753175A (zh) 适用于不锈钢抛光的化学机械抛光液及其用途
CN108165177A (zh) 一种半导体硅片研磨液稳定性控制方法
CN114230217A (zh) 一种水泥助磨剂
CN108950453B (zh) 增加磨具表面硬度的镀膜材料及增加磨具表面硬度的方法
Salahudeen et al. Chemical, morphological characterizations of Ririwai biotite and determination of yield point of its weighting agent application in drilling mud

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WW01 Invention patent application withdrawn after publication
WW01 Invention patent application withdrawn after publication

Application publication date: 20170517