CN106670180A - 薄玻璃基板清洗装置及清洗方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种薄玻璃基板清洗装置，包括清洗槽、设置在所述的清洗槽内的超声波发生机构，设置在所述的清洗槽一侧用以承载所述的超薄玻璃基板的摆架，以所述的摆架靠近清洗槽侧为末端，以所述的摆架远离清洗槽侧为始端，所述的摆架末端受驱动上下摆动以实现所述的超薄玻璃基板浸入或者脱离所述的清洗槽。本发明的采用超声波清洗玻璃基板，尤其适用于厚度2‑4mm的平板玻璃清洗，其为非压力接触玻璃基板方式，具有降低玻璃破碎率，达到几乎不破碎之目的，无需使用传统的盘刷、滚刷等复杂设备，简化生产线，降低生产成本，同时清洗液及水可重复也使用避免了浪费；而且采用超声波清洗，还有提高玻璃基板表面清洁度，增强反射镜的反射率，延长反射镜的使用寿命等优点。同时，采用侧倾斜式入水方式，超薄玻璃基板承受的液体冲击力小，避免入液出液时造成的破碎。

Description

薄玻璃基板清洗装置及清洗方法

技术领域

本发明涉及反射镜生产技术领域，特别是涉及一种薄玻璃基板清洗装置。

背景技术

太阳能光热发电是指利用大规模阵列抛物或碟形镜面收集太阳热能，通过换热装置提供蒸汽，结合传统汽轮发电机的工艺，从而达到发电的目的。采用太阳能光热发电技术，避免了昂贵的硅晶光电转换工艺，可以大大降低太阳能发电的成本。

因超薄玻璃制成的反射镜反射率较普通玻璃的高，所以超薄玻璃为优选的反射镜的玻璃基板，玻璃基板的现有盘洗、滚洗清洗技术，但是当施加于超薄玻璃清洗时，容易清洗不彻底和玻璃基板破碎，继而导致反射率降低或生产成本增加。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术中存在的技术缺陷，而提供一种薄玻璃基板清洗装置。

为实现本发明的目的所采用的技术方案是：

一种薄玻璃基板清洗装置，包括清洗槽、设置在所述的清洗槽内的超声波发生机构，设置在所述的清洗槽一侧用以承载所述的超薄玻璃基板的摆架，以所述的摆架靠近清洗槽侧为末端，以所述的摆架远离清洗槽侧为始端，所述的摆架末端受驱动上下摆动以实现所述的超薄玻璃基板浸入或者脱离所述的清洗槽。

所述的摆架始端与支架可旋转连接，其通过气缸或者电机带动连杆实现所述的摆架的上下摆动。

所述的摆架的末端设置有吸盘。

摆架末端端部设置有柔性定位块。

所述的摆架包括与所述的支架可旋转连接的纵轴，多个与所述的纵轴垂直固定连接且间隔布置的横轴，至少在两个所述的横轴上设置有传送带机构。

所述的薄玻璃基板为厚度2-4mm的平板玻璃。

一种薄玻璃基板清洗装置的清洗方法，包括以下步骤，

1)摆架位于脱离清洗槽状态，将超薄玻璃基板自传送机构转载至摆架，

2)超薄玻璃基板移动至摆架末端直至被末端限位并被定位，

3)摆架末端向下摆动使超薄玻璃基板以倾斜姿态进入清洗槽内的清洗液并进行超声波清洗；

4)清洗完毕后摆架末端向上摆动使超薄玻璃基板脱离清洗液；

5)将超薄玻璃基板转载至传送机构。

所述的步骤2)中超薄玻璃基板由传送带机构输运至末端并被末端的吸盘定位。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明的采用超声波清洗玻璃基板，尤其适用于厚度1-4mm的平板玻璃清洗，其为非压力接触玻璃基板方式，具有降低玻璃破碎率，达到几乎不破碎之目的，无需使用传统的盘刷、滚刷等复杂设备，简化生产线，降低生产成本，同时清洗液及水可重复也使用避免了浪费；而且采用超声波清洗，还有提高玻璃基板表面清洁度，增强反射镜的反射率，延长反射镜的使用寿命等优点。同时，采用侧倾斜式入水方式，超薄玻璃基板承受的液体冲击力小，避免入液出液时造成的破碎。

附图说明

图1所示为本发明的薄玻璃基板清洗装置的侧视结构示意图；

图2所示为图1所示的俯视结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图1和2所示，本发明的薄玻璃基板清洗装置包括矩形清洗槽1、设置在所述的清洗槽内，一般为底部的超声波发生机构(图中未示出)，设置在所述的清洗槽一侧用以承载所述的超薄玻璃基板2的摆架3，以所述的摆架靠近清洗槽侧或于清洗槽上方侧为末端，以所述的摆架远离清洗槽侧为始端，所述的摆架末端受驱动上下摆动以实现所述的超薄玻璃基板浸入或者脱离所述的清洗槽1。

本发明的采用超声波清洗玻璃基板，尤其适用于厚度2-4mm的平板玻璃清洗，其为非压力接触玻璃基板方式，具有降低玻璃破碎率，达到几乎不破碎之目的，无需使用传统的盘刷、滚刷等复杂设备，简化生产线，降低生产成本，同时清洗液及水可重复也使用避免了浪费；而且采用超声波清洗，还有提高玻璃基板表面清洁度，增强反射镜的反射率，延长反射镜的使用寿命等优点。同时，采用侧倾斜式入水方式，超薄玻璃基板承受的液体冲击力小，避免入液出液时造成的破碎。

具体来说，所述的摆架始端与所述的支架可旋转连接，其通过气缸或者电机带动连杆实现所述的摆架的上下摆动。所述的摆架包括与所述的支架可旋转连接的纵轴，多个与所述的纵轴垂直固定连接且间隔布置的横轴，在至少两个，优选为两侧的横轴上设置有往复式或循环式传送带机构5。所述的纵轴上设置有驱动机构或通过内部传动套驱动传送带机构往复运动，此与现有的传送带机理类似，在此不再展开描述。

采用末端定位驱动的方式，各个横轴间隔地延伸，能保证对薄玻璃基板提供支撑的同时，减少接触，提高整体清洗效果。

为提高进液出液时的稳定性，所述的摆架的末端设置有多组吸盘6，吸盘可将玻璃基板吸住以防止其漂浮或者侧移，同时，为辅助玻璃基板末端的定位，所述的摆架末端端部设置有柔性定位块7，如橡胶等弹性材质。

具体地说，本发明薄玻璃基板清洗装置的清洗方法，包括以下步骤，

1)摆架位于脱离清洗槽状态，将超薄玻璃基板转载至摆架，

2)超薄玻璃基板由传送带机构输运至末端直至被末端的柔性定位块定位且被吸盘吸紧定位，

3)摆架末端向下摆动使超薄玻璃基板以倾斜姿态浸入清洗槽内的清洗液并进行超声波清洗；

4)清洗完毕后摆架末端向上摆动使超薄玻璃基板脱离清洗液；

5)传送带机构将超薄玻璃基板输送至始端。

整个过程流畅，多个清洗装置与传送机构的配合即可实现传送机构间续或连续运行，保证整体清洗效果和处理效率，提高设备的整体自动化。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出的是，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种薄玻璃基板清洗装置，其特征在于，包括清洗槽、设置在所述的清洗槽内的超声波发生机构，设置在所述的清洗槽一侧用以承载所述的超薄玻璃基板的摆架，以所述的摆架靠近清洗槽侧为末端，以所述的摆架远离清洗槽侧为始端，所述的摆架末端受驱动上下摆动以实现所述的超薄玻璃基板浸入或者脱离所述的清洗槽。

2.如权利要求1所述的薄玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述的摆架始端与支架可旋转连接，其通过气缸或者电机带动连杆实现所述的摆架的上下摆动。

3.如权利要求1所述的薄玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述的摆架的末端设置有吸盘。

4.如权利要求1所述的薄玻璃基板清洗装置，其特征在于，摆架末端端部设置有柔性定位块。

5.如权利要求2所述的薄玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述的摆架包括与所述的支架可旋转连接的纵轴，多个与所述的纵轴垂直固定连接且间隔布置的横轴，至少在两个所述的横轴上设置有传送带机构。

6.如权利要求1所述的薄玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述的薄玻璃基板为厚度1-4mm的平板玻璃。

7.一种如权利要求1薄玻璃基板清洗装置的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤，

1)摆架位于脱离清洗槽状态，将超薄玻璃基板自传送机构转载至摆架，

2)超薄玻璃基板移动至摆架末端直至被末端限位并被定位，

3)摆架末端向下摆动使超薄玻璃基板以倾斜姿态进入清洗槽内的清洗液并进行超声波清洗；

4)清洗完毕后摆架末端向上摆动使超薄玻璃基板脱离清洗液；

5)将超薄玻璃基板转载至传送机构。

8.如权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，所述的步骤2)中超薄玻璃基板由传送带机构输运至末端并被末端的吸盘定位。