CN206454953U - 吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,包括多个传送轴构成的传输机构,以及设置在传输机构一侧且其内设置有超声波发生机构的清洗槽,可上下旋转地设置在清洗槽与传送机构相邻侧的摆架,以及吸取薄玻璃基板并在摆架和传送机构间交互的转移架,所述的转移架下部设置有吸取机构,本实用新型的采用超声波清洗玻璃基板,尤其适用于厚度2‑4mm的平板玻璃清洗,其为非压力接触玻璃基板方式,具有降低玻璃破碎率,达到几乎不破碎之目的,无需使用传统的盘刷、滚刷等复杂设备,简化生产线,降低生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及反射镜生产技术领域,特别是涉及一种吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统。
背景技术
太阳能光热发电是指利用大规模阵列抛物或碟形镜面收集太阳热能,通过换热装置提供蒸汽,结合传统汽轮发电机的工艺,从而达到发电的目的。采用太阳能光热发电技术,避免了昂贵的硅晶光电转换工艺,可以大大降低太阳能发电的成本。
因超薄玻璃制成的反射镜反射率较普通玻璃的高,所以超薄玻璃为优选的反射镜的玻璃基板,玻璃基板的现有盘洗、滚洗清洗技术,但是当施加于超薄玻璃清洗时,容易清洗不彻底和玻璃基板破碎,继而导致反射率降低或生产成本增加。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术中存在的技术缺陷,而提供一种吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统。
为实现本实用新型的目的所采用的技术方案是:
一种吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,包括多个传送轴构成的传输机构,以及设置在传输机构一侧且其内设置有超声波发生机构的清洗槽,可上下旋转地设置在清洗槽与传送机构相邻侧的摆架,以及吸取薄玻璃基板并在摆架和传送机构间交互的转移架,所述的转移架下部设置有吸取机构,
以所述的摆架靠近清洗槽侧为末端,以所述的摆架远离清洗槽侧为始端,所述的摆架末端受驱动上下摆动以实现所述的超薄玻璃基板浸入或者脱离所述的清洗槽。
所述的摆架始端与所述的支架可旋转连接,其通过气缸或者电机带动连杆实现所述的摆架的上下摆动。
所述的摆架的末端设置有吸盘。
摆架末端端部设置有柔性定位块。
所述的摆架包括与所述的支架可旋转连接的纵轴,多个与所述的纵轴垂直固定连接且间隔布置的横轴,在至少一个所述的横轴上设置有传送带机构。
所述的薄玻璃基板为厚度1-4mm的平板玻璃。
所述的转移架的底部两端分别设置有吸取机构以在摆架和传输机构上同步吸取或释放。
所述的吸取机构包括吸盘和/或带有吸孔的吸附板。
一种吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统的清洗方法,包括以下步骤,
1)摆架位于脱离清洗槽状态,转移架吸取传输机构上的薄玻璃基板并转移至摆架,
2)摆架将超薄玻璃基板移动至末端直至被末端限位并被定位,
3)摆架末端向下摆动使超薄玻璃基板以倾斜姿态进入清洗槽内的清洗液并进行超声波清洗;
4)清洗完毕后摆架末端向上摆动使超薄玻璃基板脱离清洗液;
5)转移架吸取超薄玻璃基板并转载至传送机构。
转移架在传输机构上吸取或释放薄玻璃基板的同时在摆架上吸取或释放薄玻璃基板。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型的采用超声波清洗玻璃基板,尤其适用于厚度2-4mm的平板玻璃清洗,其为非压力接触玻璃基板方式,具有降低玻璃破碎率,达到几乎不破碎之目的,无需使用传统的盘刷、滚刷等复杂设备,简化生产线,降低生产成本,同时清洗液及水可重复也使用避免了浪费;而且采用超声波清洗,还有提高玻璃基板表面清洁度,增强反射镜的反射率,延长反射镜的使用寿命等优点。同时,采用侧倾斜式入水方式,超薄玻璃基板承受的液体冲击力小,避免入液出液时造成的破碎。
附图说明
图1所示为本实用新型的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统的侧视结构示意图;
图2所示为图1所示的俯视结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图1和2所示,本实用新型发吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统包括多个传送轴4构成的传输机构,以及设置在传输机构一侧且其内设置有超声波发生机构的清洗槽1,可上下旋转地设置在清洗槽与传送机构相邻侧的摆架3,以及吸取薄玻璃基板2并在摆架和传送机构间交互的转移架10,所述的转移架下部设置有吸取机构11,以所述的摆架靠近清洗槽侧为末端,以所述的摆架远离清洗槽侧为始端,所述的摆架末端受驱动上下摆动以实现所述的超薄玻璃基板浸入或者脱离所述的清洗槽。优选地,所述的转移架10的底部两端分别设置有吸取机构以在摆架和传输机构上同步吸取或释放。所述的吸取机构包括吸盘和/或带有吸孔的具有弹性的吸附板。可采用吸附板将超薄玻璃吸起并脱离传送轴然后在利用吸盘吸紧,这即可保证吸取时减少摩擦同时能保证转移过程中稳定不发生跌落。
本实用新型的采用超声波清洗玻璃基板,尤其适用于厚度1-4mm的平板玻璃清洗,其为非压力接触玻璃基板方式,具有降低玻璃破碎率,达到几乎不破碎之目的,无需使用传统的盘刷、滚刷等复杂设备,简化生产线,降低生产成本,同时清洗液及水可重复也使用避免了浪费;而且采用超声波清洗,还有提高玻璃基板表面清洁度,增强反射镜的反射率,延长反射镜的使用寿命等优点。同时,采用侧倾斜式入水方式,超薄玻璃基板承受的液体冲击力小,避免入液出液时造成的破碎。同时,为配合传输机构的连续运行,通过传输速度的控制,利用吸取式转移架的设置,可在线将薄玻璃基板自传输机构上取下进行线下清洗然后再转载至传输机构线上,通过合理配置薄玻璃基板的传输速度和清洗装置的数量,能有效实现在线不间断清洗,提高整体效率。
具体来说,所述的摆架3始端与所述的支架可旋转连接,其通过气缸或者电机带动连杆实现所述的摆架的上下摆动。所述的摆架包括与所述的支架可旋转连接的纵轴,多个与所述的纵轴垂直固定连接且间隔布置的横轴,在所述的横轴上设置有往复式或循环式传送带机构5。所述的纵轴上设置有驱动机构或通过内部传动套驱动传送带机构往复运动,此与现有的传送带机理类似,在此不再展开描述。
采用末端定位驱动的方式,各个横轴间隔地延伸,能保证对薄玻璃基板提供支撑的同时,减少接触,提高整体清洗效果。
为提高进液出液时的稳定性,所述的摆架的末端设置有多组吸盘6,吸盘可将玻璃基板吸住以防止其漂浮或者侧移,同时,为辅助玻璃基板末端的定位,所述的摆架末端端部设置有柔性定位块,如橡胶等弹性材质。
具体地说,本实用新型吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统的清洗方法,包括以下步骤,
1)摆架位于脱离清洗槽状态,转移架吸取传输机构上的薄玻璃基板并转移至摆架,
2)摆架将超薄玻璃基板移动至末端直至被末端限位并被定位,
3)摆架末端向下摆动使超薄玻璃基板以倾斜姿态进入清洗槽内的清洗液并进行超声波清洗;
4)清洗完毕后摆架末端向上摆动使超薄玻璃基板脱离清洗液;
5)转移架吸取超薄玻璃基板并转载至传送机构。
当下一片薄玻璃基板运行至预定位置时,重复步骤1-5。整个过程流畅,多个清洗装置与传送机构的配合即可实现传送机构间续或连续运行,保证整体清洗效果和处理效率,提高设备的整体自动化。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出的是,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (8)
1.一种吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,包括多个传送轴构成的传输机构,以及设置在传输机构一侧且其内设置有超声波发生机构的清洗槽,可上下旋转地设置在清洗槽与传送机构相邻侧的摆架,以及吸取薄玻璃基板并在摆架和传送机构间交互的转移架,所述的转移架下部设置有吸取机构,
以所述的摆架靠近清洗槽侧为末端,以所述的摆架远离清洗槽侧为始端,所述的摆架末端受驱动上下摆动以实现所述的薄玻璃基板浸入或者脱离所述的清洗槽。
2.如权利要求1所述的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,所述的摆架始端与支架可旋转连接,其通过气缸或者电机带动连杆实现所述的摆架的上下摆动。
3.如权利要求1所述的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,所述的摆架的末端设置有吸盘。
4.如权利要求1所述的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,摆架末端端部设置有柔性定位块。
5.如权利要求2所述的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,所述的摆架包括与所述的支架可旋转连接的纵轴,多个与所述的纵轴垂直固定连接且间隔布置的横轴,在至少一个所述的横轴上设置有传送带机构。
6.如权利要求1所述的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,所述的薄玻璃基板为厚度1-4mm的平板玻璃。
7.如权利要求1所述的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,所述的转移架的底部两端分别设置有吸取机构以在摆架和传输机构上同步吸取或释放。
8.如权利要求1所述的吸取转移式薄玻璃基板连续清洗系统,其特征在于,所述的吸取机构包括吸盘和/或带有吸孔的吸附板。
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