CN106498743A - 一种合成革用聚氨酯抛光处理剂及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种合成革用聚氨酯抛光处理剂及其制备方法。所述合成革用聚氨酯抛光处理剂包含以下组分：改性聚氨酯、丁醚、甲苯、乙酯、二氧化硅消光粉、有机硅油及分散剂。本发明所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的各组分相互协调、共同作用，抛光后亮面和油蜡效果佳，手感滑爽，耐温性好，用此种处理剂做出的革光泽自然，色泽清晰，真皮效果强，综合效果佳。

Description

一种合成革用聚氨酯抛光处理剂及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种合成革用聚氨酯抛光处理剂，特别涉及应用于合成革前段工艺的合成革用聚氨酯抛光处理剂，同时本发明还公开了该合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法。
背景技术
目前，现有的合成革用聚氨酯抛光处理剂抛光后亮面和油蜡效果、手感及耐温性都不十分理想。应用这样的聚氨酯抛光处理剂的合成革，其光泽和色泽较差，真皮效果也不尽如人意。因此，需要一种改进的聚氨酯抛光处理剂。
发明内容
本发明的目的是提供一种合成革用聚氨酯抛光处理剂。
本发明的合成革用聚氨酯抛光处理剂通过以下技术方案实现：
本发明所公开的合成革用聚氨酯抛光处理剂，包含以下组分：改性聚氨酯、丁醚、甲苯、乙酯、二氧化硅消光粉、有机硅油及分散剂。
以树脂的总重量为基准，本发明提供的合成革用聚氨酯抛光处理剂的各组分的配比可以为：改性聚氨酯23～25质量份，丁醚11～13质量份，甲苯11～13质量份，乙酯40～42质量份，二氧化硅消光粉4～6质量份，有机硅油2～4质量份，分散剂0～1质量份。
在本发明的一个实施例中，合成革用聚氨酯抛光处理剂的各组分的配比如下：改性聚氨酯23质量份，丁醚11质量份，甲苯13质量份，乙酯42质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
在本发明的另一实施例中，合成革用聚氨酯抛光处理剂的各组分的配比如下：改性聚氨酯25质量份，丁醚13质量份，甲苯11质量份，乙酯40质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
在本发明的另一实施例中，合成革用聚氨酯抛光处理剂的各组分的配比如下：改性聚氨酯24质量份，丁醚13质量份，甲苯13质量份，乙酯41质量份，二氧化硅消光粉5质量份，有机硅油3质量份，分散剂1质量份。
本发明还提供一种合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法，包含以下步骤：
1)将一部分改性聚氨酯、丁醚、甲苯、乙酯、二氧化硅消光粉及分散剂搅拌后研磨过滤；
2)在步骤1)得到的混合物中加入另一部分改性聚氨酯及有机硅油，均匀搅拌后即得所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂。
本发明的合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法中的各组分的配比可以如下：改性聚氨酯23～25质量份，丁醚11～13质量份，甲苯11～13质量份，乙酯40～42质量份，二氧化硅消光粉4～6质量份，有机硅油2～4质量份，分散剂0～1质量份。
优选地，各组分的配比如下：改性聚氨酯23质量份，丁醚11质量份，甲苯13质量份，乙酯42质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
更优选地，各组分的配比如下：改性聚氨酯25质量份，丁醚13质量份，甲苯11质量份，乙酯40质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
更优选地，各组分的配比如下：改性聚氨酯24质量份，丁醚13质量份，甲苯13质量份，乙酯41质量份，二氧化硅消光粉5质量份，有机硅油3质量份，分散剂1质量份。
由于采用以上技术方案，本发明与现有技术相比具有如下优点：
1.本发明所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的各组分相互协调、共同作用，抛光后亮面和油蜡效果佳，手感滑爽，耐温性好，用此种处理剂做出的革光泽自然，色泽清晰，真皮效果强，综合效果佳；
2.本发明所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂在现有合成革生产线上应用，工艺简单，是前段印刷的一种新型材料，无需改变生产设备增加成本，也可以用作后处理。
3.本发明所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法简单，无需采用复杂的机械处理，节约了生产成本，适于工业化生产。
具体实施方式
下面通过实施例，对本发明技术方案进行详细说明，但是本发明的保护范围不局限于所述实施例。
实施例1
合成革用聚氨酯抛光处理剂包含23质量份改性聚氨酯，11质量份丁醚，13质量份甲苯，42质量份乙酯，6质量份二氧化硅消光粉，4质量份有机硅油，1质量份分散剂。
上述合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法是：将18质量份改性聚氨酯、11质量份丁醚，13质量份甲苯，42质量份乙酯，6质量份二氧化硅消光粉及1质量份分散剂；然后在所得的混合物中加入5质量份改性聚氨酯和4质量份有机硅油，均匀搅拌后即得所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂。所得到的合成革用聚氨酯抛光处理剂的性能指标见表1。
上述制备过程中所采用的搅拌、过滤等方法均为本领域内惯用的方法。
实施例2
合成革用聚氨酯抛光处理剂包含25质量份改性聚氨酯，13质量份丁醚，11质量份甲苯，40质量份乙酯，6质量份二氧化硅消光粉，4质量份有机硅油，1质量份分散剂。
上述合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法是：将15质量份改性聚氨酯，13质量份丁醚，11质量份甲苯，40质量份乙酯，6质量份二氧化硅消光粉及1质量份分散剂搅拌后研磨过滤；然后在所得的混合物中加入10质量份改性聚氨酯和4质量份有机硅油，均匀搅拌后即得所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂。所得到的合成革用聚氨酯抛光处理剂的性能指标见表1。
上述制备过程中所采用的搅拌、过滤等方法均为本领域内惯用的方法。
实施例3
合成革用聚氨酯抛光处理剂包含24质量份改性聚氨酯，13质量份丁醚，13质量份甲苯，41质量份乙酯，5质量份二氧化硅消光粉，3质量份有机硅油，1质量份分散剂。
上述合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法是：将14质量份改性聚氨酯，13质量份丁醚，13质量份甲苯，41质量份乙酯，5质量份二氧化硅消光粉及1质量份分散剂搅拌后研磨过滤；然后在所得的混合物中加入10质量份改性聚氨酯和3质量份有机硅油，均匀搅拌后即得所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂。所得到的合成革用聚氨酯抛光处理剂的性能指标见表1。
上述制备过程中所采用的搅拌、过滤等方法均为本领域内惯用的方法。
表1
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明的实施范围；如果不脱离本发明的精神和范围，对本发明进行修改或者等同替换，均应涵盖在本发明权利要求的保护范围当中。

Claims (10)

1.一种合成革用聚氨酯抛光处理剂，其特征在于，包含以下组分：改性聚氨酯、丁醚、甲苯、乙酯、二氧化硅消光粉、有机硅油及分散剂。
2.根据权利要求1所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯23～25质量份，丁醚11～13质量份，甲苯11～13质量份，乙酯40～42质量份，二氧化硅消光粉4～6质量份，有机硅油2～4质量份，分散剂0～1质量份。
3.根据权利要求2所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯23质量份，丁醚11质量份，甲苯13质量份，乙酯42质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
4.根据权利要求2所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯25质量份，丁醚13质量份，甲苯11质量份，乙酯40质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
5.根据权利要求2所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯24质量份，丁醚13质量份，甲苯13质量份，乙酯41质量份，二氧化硅消光粉5质量份，有机硅油3质量份，分散剂1质量份。
6.权利要求1所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：
1)将一部分改性聚氨酯、丁醚、甲苯、乙酯、二氧化硅消光粉及分散剂搅拌后研磨过滤；
2)在步骤1)得到的混合物中加入另一部分改性聚氨酯及有机硅油，均匀搅拌后即得所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂。
7.根据权利要求6所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯23～25质量份，丁醚11～13质量份，甲苯11～13质量份，乙酯40～42质量份，二氧化硅消光粉4～6质量份，有机硅油2～4质量份，分散剂0～1质量份。
8.根据权利要求7所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯23质量份，丁醚11质量份，甲苯13质量份，乙酯42质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
9.根据权利要求7所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯25质量份，丁醚13质量份，甲苯11质量份，乙酯40质量份，二氧化硅消光粉6质量份，有机硅油4质量份，分散剂1质量份。
10.根据权利要求7所述的合成革用聚氨酯抛光处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯24质量份，丁醚13质量份，甲苯13质量份，乙酯41质量份，二氧化硅消光粉5质量份，有机硅油3质量份，分散剂1质量份。
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