CN106245089B - 一种铝合金阳极氧化后的高光工艺和铝合金制品 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：对铝合金进行阳极氧化；在研磨液作用下，采用研磨皮对所述阳极氧化后的铝合金进行研磨处理；其中，所述研磨皮包括海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的聚氨酯弹性体层，所述聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构。该工艺通过采用特殊结构的研磨皮和合适的研磨液，工艺散热性好，有效解决了研磨过程中形成的橘皮不良问题，极大提升了产品外观效果。本发明还提供了一种铝合金制品，该铝合金制品表面为平整镜面，光泽度良好。

Description

一种铝合金阳极氧化后的高光工艺和铝合金制品
技术领域
本发明涉及铝合金表面处理技术领域，特别是涉及一种铝合金阳极氧化后的高光工艺和铝合金制品。
背景技术
目前，铝合金阳极氧化后的高光工艺，通常是采用研磨皮配合研磨液进行平面研磨或者采用抛光轮进行抛光，然而，现有的研磨或者抛光工艺获得的铝合金产品，光泽不能达到要求且表面会出现橘皮不良的现象，严重影响产品外观。
而由于橘皮不良是机械作用产生的热量对铝合金表面作用而导致的铝合金表面起皱，因此，有必要提供一种散热良好的工艺以消除橘皮不良的产生。
发明内容
鉴于此，本发明实施例提供了一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，该工艺可有效解决研磨过程中形成的橘皮不良问题，提升产品外观效果。
具体地，本发明提供了一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：
对铝合金进行阳极氧化；
在研磨液作用下，采用研磨皮对所述阳极氧化后的铝合金进行研磨处理；其中，所述研磨皮包括海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的聚氨酯弹性体层，所述聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构。
本发明提供的铝合金阳极氧化后的高光工艺，该工艺通过采用特殊结构的研磨皮和合适的研磨液，工艺散热性好，有效解决了研磨过程中形成的橘皮不良问题，极大提升了产品外观效果。
本发明还提供了一种铝合金制品，该铝合金制品表面为平整镜面，光泽度良好。
附图说明
图1所示为现有传统高光工艺获得的铝合金灯管反射光效果图；
图2为本发明实施例1的铝合金阳极氧化后的高光工艺获得的铝合金灯管反射光效果图。
具体实施方式
以下所述是本发明实施例的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明实施例原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明实施例的保护范围。
本发明实施例提供的一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：
(1)对铝合金进行阳极氧化；
(2)在研磨液作用下，采用研磨皮对所述阳极氧化后的铝合金进行研磨处理；其中，所述研磨皮包括海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的聚氨酯弹性体层，所述聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构。
本发明实施例铝合金阳极氧化后的高光工艺，其采用了特殊结构的研磨皮和合适的研磨液，研磨皮包括海绵基体和聚氨酯弹性体层，其中，海绵基体充当保护层，在研磨过程中起到缓冲保护作用，而聚氨酯弹性体层，在研磨过程中与铝合金表面直接接触，由于其表面具有微米级孔洞结构，因此在研磨过程中不但可以使铝合金表面在研磨液作用下获得有效研磨，提高光泽度，同时可使研磨过程中产生的热量得到及时散发，消除橘皮不良，最终获得表面为平整镜面的铝合金。
本发明实施方式步骤(1)中，阳极氧化操作为现有常规铝合金阳极氧化工艺，本发明对此不作特殊限定。
本发明实施方式中，所述海绵基体的厚度为0.8cm-2cm。例如可以是0.8cm、1cm、1.2cm、1.5cm、1.8cm、2cm。
本发明实施方式中，所述聚氨酯弹性体层的厚度为0.5mm-1.5mm。例如可以是0.5mm、0.8mm、1mm、1.2mm、1.5mm。
本发明实施方式中，所述微米级孔洞的孔径大小为1μm-5μm。
本发明实施方式中，所述研磨液中包含水和粒径为纳米级别的磨料，所述磨料包括碳化硅纳米颗粒、二氧化硅纳米颗粒和氧化铝纳米颗粒中的至少一种。
本发明实施方式中，研磨液通过采用粒径较小的磨料，有助于铝合金表面获得平整镜面。具体地，所述磨料的粒径可以为10nm-50nm、20nm-30nm。所述研磨液中，磨料的质量含量为2％-5％。
本发明实施方式中，所述研磨液呈酸性，pH在3.0-5.0范围。所述研磨液还可包含其他助剂，例如有机冷却剂等。
本发明实施方式中，所述平面研磨处理过程中，控制对所述铝合金所加压力为75g/cm2-100g/cm2，转速为20rpm-30rpm。此处的压力是指研磨皮相对铝合金的研磨压力，转速是指研磨皮的转速。控制适合的研磨压力和转速，可以使得研磨过程产生的热量得到及时散发，保证铝合金表面为平整镜面。
本发明实施方式中，所述平面研磨处理的研磨时间为1-3小时。
本发明实施方式中，所述平面研磨处理过程中，所述研磨液的滴速为50-70滴/min。
本发明实施方式中，所述铝合金阳极氧化后的高光工艺在平面研磨装置中完成，本发明对平面研磨装置的具体结构不作特殊限定，能实现铝合金的平面研磨即可。例如可以是，研磨装置包括研磨盘和研磨液箱，所述研磨盘的底部设置研磨皮，所述研磨液箱用于盛装研磨液。
本发明实施例提供的铝合金阳极氧化后的高光工艺，通过采用特殊结构的研磨皮和合适的研磨液，工艺散热性好，有效解决了研磨过程中形成的橘皮不良问题，极大提升了产品外观效果。
本发明实施例还提供了一种由上述高光工艺制得的铝合金制品，该铝合金制品表面为平整镜面，光泽度良好。该铝合金制品可以是终端外壳等。
下面分多个实施例对本发明实施例进行进一步的说明。
实施例1
一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：
(1)取铝合金进行阳极氧化处理，然后将经阳极氧化后的铝合金，固定在平面研磨装置上；
(2)在研磨液作用下，采用研磨皮对所述经阳极氧化后的铝合金进行平面研磨处理2小时，得到表面为平整镜面的铝合金；
其中，所述研磨液呈酸性，pH值为5.0，包含粒径为10nm-20nm的碳化硅纳米颗粒和二氧化硅纳米颗粒两种磨料，磨料质量含量为4％；所述研磨皮包括厚度为1cm的海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的厚度为0.5mm的聚氨酯弹性体层，其中，聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构，孔径大小为1μm-5μm。研磨过程中，控制对铝合金所加压力为80g/cm2，转速为25rpm，研磨液滴速为60滴/min。
如图1所示为现有传统高光工艺获得的铝合金灯管反射光效果图；图2为本发明实施例1的铝合金阳极氧化后的高光工艺获得的铝合金灯管反射光效果图。从图中可以看出，本发明实施例的高光工艺获得的铝合金灯管反射出来的光显示灯管清晰，而现有传统工艺显示灯管暗淡，因此可说明本发明实施例的高光工艺获得的铝合金产品其表面光泽度、镜面平整度明显优于现有传统高光工艺。
实施例2
一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：
(1)取铝合金进行阳极氧化处理，然后将经阳极氧化后的铝合金，固定在平面研磨装置上；
(2)在研磨液作用下，采用研磨皮对所述经阳极氧化后的铝合金进行平面研磨处理1小时，得到表面为平整镜面的铝合金；
其中，所述研磨液呈酸性，pH值为4.0，包含质量含量为2％、粒径为20nm-30nm的氧化铝纳米颗粒；所述研磨皮包括厚度为1.5cm的海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的厚度为1.5mm的聚氨酯弹性体层，其中，聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构，孔径大小为1μm-5μm；研磨过程中，控制对铝合金所加压力为90g/cm2，转速为30rpm，研磨液滴速为70滴/min。
实施例3
一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：
(1)取铝合金进行阳极氧化处理，然后将经阳极氧化后的铝合金，固定在平面研磨装置上；
(2)在研磨液作用下，采用研磨皮对所述经阳极氧化后的铝合金进行平面研磨处理3小时，得到表面为平整镜面的铝合金；
其中，所述研磨液呈酸性，pH值为4.0，包含质量含量为5％、粒径为30nm-40nm的碳化硅纳米颗粒；所述研磨皮包括厚度为2cm的海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的厚度为1mm的聚氨酯弹性体层，其中，聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构，孔径大小为1μm-5μm；研磨过程中，控制对铝合金所加压力为75g/cm2，转速为20rpm，研磨液滴速为50滴/min。
实施例4
一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：
(1)取铝合金进行阳极氧化处理，然后将经阳极氧化后的铝合金，固定在平面研磨装置上；
(2)在研磨液作用下，采用研磨皮对所述经阳极氧化后的铝合金进行平面研磨处理3小时，得到表面为平整镜面的铝合金；
其中，所述研磨液呈酸性，pH值为4.0，包含质量含量为3％、粒径为40nm-50nm的碳化硅和氧化铝纳米颗粒；所述研磨皮包括厚度为0.8cm的海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的厚度为0.5mm的聚氨酯弹性体层，其中，聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构，孔径大小为1μm-5μm；研磨过程中，控制对铝合金所加压力为100g/cm2，转速为25rpm，研磨液滴速为60滴/min。
实施例5
一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，包括以下步骤：
(1)取铝合金进行阳极氧化处理，然后将经阳极氧化后的铝合金，固定在平面研磨装置上；
(2)在研磨液作用下，采用研磨皮对所述经阳极氧化后的铝合金进行平面研磨处理2小时，得到表面为平整镜面的铝合金；
其中，所述研磨液呈酸性，pH值为3.0，包含质量含量为3％、粒径为10nm-20nm的二氧化硅纳米颗粒；所述研磨皮包括厚度为1cm的海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的厚度为1mm的聚氨酯弹性体层，其中，聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构，孔径大小为1μm-5μm；研磨过程中，控制对铝合金所加压力为80g/cm2，转速为25rpm，研磨液滴速为60滴/min。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (11)

1.一种铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，包括以下步骤：
对铝合金进行阳极氧化；
在研磨液作用下，采用研磨皮对所述阳极氧化后的铝合金进行研磨处理；其中，所述研磨液中包含水和粒径为纳米级别的磨料，所述磨料包括碳化硅纳米颗粒、二氧化硅纳米颗粒和氧化铝纳米颗粒中的至少一种，所述研磨皮包括海绵基体和粘结在所述海绵基体表面的聚氨酯弹性体层，所述聚氨酯弹性体层的表面具有微米级孔洞结构，所述聚氨酯弹性体层在研磨过程中与所述阳极氧化后的铝合金表面直接接触。
2.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述海绵基体的厚度为0.8cm-2cm。
3.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述聚氨酯弹性体层的厚度为0.5mm-1.5mm。
4.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述微米级孔洞的孔径大小为1μm-5μm。
5.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述磨料的粒径为10nm-50nm。
6.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述研磨液中，磨料的质量含量为2％-5％。
7.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述研磨液呈酸性，pH在3.0-5.0范围。
8.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述平面研磨处理过程中，控制对所述铝合金所加压力为75g/cm2-100g/cm2，转速为20rpm-30rpm。
9.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述平面研磨处理的研磨时间为1-3小时。
10.如权利要求1所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺，其特征在于，所述平面研磨处理过程中，所述研磨液的滴速为50-70滴/min。
11.一种铝合金制品，其特征在于，所述铝合金制品应用如权利要求1-10任一项所述的铝合金阳极氧化后的高光工艺制得。
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