CN106226312A - 基板成膜检查装置 - Google Patents

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CN106226312A CN201610515785.5A CN201610515785A CN106226312A CN 106226312 A CN106226312 A CN 106226312A CN 201610515785 A CN201610515785 A CN 201610515785A CN 106226312 A CN106226312 A CN 106226312A
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李淳钟
禹奉周
朴炳澯
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Abstract

本发明公开一种基板成膜检查装置，包括基板成膜检查装置，该基板成膜检查装置包括：检查台；照明模块；相机，对成膜以单层或多层得到涂布的基板的表面进行逐行扫描方式的拍摄，并对基板的横向部边缘和纵向部边缘进行逐行扫描方式的拍摄；检查单元，由借助于相机拍摄到的图像信息分别计算出在基板的表面涂布为单层或多层的成膜与基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离，且检查所计算出的距离是否对应于歪斜状态，其中，在基板的表面被涂布为单层或多层的成膜与基板的横向部边缘或纵向部边缘之间的距离以如下方式得到计算：对从相机拍摄到的图像信息中测定出的单层或多层的成膜与横向部边缘或纵向部边缘之间的像素数乘以每个单像素的基准长度。

Description

基板成膜检查装置
本申请是申请日为2012年01月13日、申请号为201210013362.5、名称为“基板成膜检查装置”的发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及检查成膜(例如，聚酰亚胺)的不良与否的技术，该成膜涂布于用在有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)或液晶显示器的基板(以下称为“基板”)的表面上，尤其涉及能够通过测量涂布于基板表面的成膜与基板边缘部分之间的距离来检查涂布于基板表面的成膜的歪斜不良的基板成膜检查装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示装置大体由用于形成薄膜晶体管的下部基板和用于形成滤色器的上部基板以及注入于下部基板与上部基板之间的液晶构成，制造所述液晶显示装置的工艺可分为薄膜晶体管(TFT)工序、单元(cell)工序、模块工序这三个部分。
所述TFT工序与半导体制造工序非常相似，是一种通过反复进行蒸镀工序(deposition)和光刻工序(photolithography)以及蚀刻工序而将薄膜晶体管排列到基板上进行制造的工序。
所述单元工序中，在TFT下板和形成有滤色器(Color filter)的上板形成配向膜，并配向为使液晶在配向膜上较好地排列之后，散布间隔物(Spacer)，并通过密封(seal)印刷进行贴合。贴合之后利用毛细管现象将液晶注入到内部，然后封住注入口，由此完成针对液晶显示装置的制造工艺。
所述模块工艺为确定最终传递给用户的产品品质的步骤，在所完成的面板上粘贴偏光板并贴装驱动集成电路(Driver-IC)之后，装配印刷电路板(Printed CircuitBoard)，从而最终装配背光单元和结构件，由此完成液晶模块。
另外，OLED通过对上板和下板玻璃之间的各个单元蒸镀有机物质来制得，这种OLED具有能够在较低的电压下被驱动且能够制造成较薄的薄型的优点，而且具有较宽的视角和较快的响应速度，因此即使在一侧观看，画质也不会发生变化，且画面上也不会残留残像，这一点与一般的LCD不同。
并且，在小型画面方面，由于具有超出LCD的画质以及简单的制造工艺，因此具有有利的价格竞争力。
这种OLED对于彩色显示方式而言，具有三色(红、绿、蓝)独立像素方式、颜色转换方式(CCM)以及滤色方式，而根据用于显示器的发光材料分为低分子OLED和高分子OLED，根据驱动方式分为手动型驱动方式(passive matrix)和主动型驱动方式(active matrix)。
并且，OLED相比LCD、PDP，不仅在结构上更加简单，厚度更薄，而且还具有能够弯曲的特性，因此使得可挠式显示器的市场的前景更加光明。
此时，在制造所述LCD或OLED的基板的工艺中，对于涂布形成于所述基板表面的多个成膜而言，应当根据其涂布而整齐地排列，如果其排列发生不良，则存在基板的显示不良的问题。
即，在基板的表面上涂布成膜时，成膜与基板的边缘部分之间的水平以及垂直距离应当恒定，但是在基板的表面上涂布形成成膜时，经常会发生所涂布的所述成膜与基板边缘部分的水平及垂直距离歪斜而并不恒定的情况，而以往检查这种成膜的歪斜的装置并不存在。
发明内容
本发明是为了解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种通过制造出检查涂布于基板表面的成膜与基板边缘部分的水平以及垂直距离是否恒定的装置，有效地检查涂布于基板表面的成膜的歪斜不良，且通过这种检查能够防止在经过处理室完成LCD或OLED产品的制造的状态下，因成膜位置不均而引起的显示不良的基板成膜检查装置。
为了实现上述目的，本发明的基板成膜检查装置包括：检查台；照明模块，布置于所述检查台的下端，以用于当涂布有成膜的基板经过所述检查台时向所述基板照射光源；相机模块，布置于所述照明模块的上端，以用于当从所述照明模块向基板照射光源时，拍摄所述基板的表面和横向部边缘以及纵向部边缘；以及检查单元，控制所述照明模块和所述相机模块的动作，并从由所述相机模块拍摄的图像信息检查涂布于基板表面的成膜与基板的横向部边缘以及纵向部边缘的距离是否分别为正常范围内的距离。
并且，所述相机模块为用于以行扫描方式对移动的基板的表面和横向部边缘以及纵向部边缘进行拍摄的行扫描相机。
并且，所述照明模块为氙气灯、卤素灯、高频荧光灯、发光二极管照明器中的任意一个。
并且，所述检查单元搭载有检查程序，该检查程序用于从由相机模块拍摄的图像信息计算出涂布于基板表面的成膜与基板的横向部边缘以及纵向部边缘的距离之后，将其计算值与正常范围基准值进行比较计算，以检查是否正常或歪斜不良。
并且，所述检测单元内已储存有针对涂布于所述基板表面的成膜与基板的横向部边缘以及纵向部边缘的距离的正常范围基准值。
并且，涂布于所述基板表面的成膜与基板的横向部边缘的距离通过对从图像信息测定的成膜与横向部边缘之间的像素数运算(乘法)每像素的基准长度而算出，涂布于所述基板表面的成膜与基板的纵向部边缘的距离通过对从图像信息测定的成膜与纵向部边缘之间的像素数运算(乘法)每像素的基准长度而算出。
如上所述，本发明构成用于检查涂布于基板表面的成膜与基板边缘部分的水平及垂直距离是否恒定的装置，通过这种装置可以期待如下的效果，即有效地检查出难以用肉眼识别的涂布于基板表面的成膜的歪斜不良，同时防止在经过处理室完成LCD或OLED产品的制造的状态下，因成膜歪斜而引起的显示不良。
附图说明
图1为示出作为本发明的实施例的基板成膜检查装置的结构的侧视图；
图2为示出作为本发明的实施例的基板成膜检查装置的结构的俯视图；
图3为示出作为本发明的实施例的由相机模块产生的形成有成膜的基板的图像信息的概略图；
图4为作为本发明的实施例的图3的放大图，是涂布有单层成膜的基板的边缘部分的放大图；
图5为示出作为本发明的实施例的基板成膜检查装置的概略的方框图；
图6为作为本发明的另一实施例的涂布有多层成膜的基板的边缘部分的放大图。
符号说明：
10：检查台 20：照明模块
30：相机模块 40：检查单元
100：基板 101、101a、101b：成膜
具体实施方式
以下，参照附图说明本发明的实施例。
图1为示出作为本发明的实施例的基板成膜检查装置的结构的侧视图，图2为示出作为本发明的实施例的基板成膜检查装置的结构的俯视图，图3为示出作为本发明的实施例的由相机模块产生的形成有成膜的基板的图像信息的概略图，图4为作为本发明的实施例的图3的放大图，是涂布有单层成膜的基板的边缘部分的放大图，图5为示出作为本发明的实施例的基板成膜检查装置的概略的方框图。
参照图1至图5，本发明的实施例提供的基板成膜检查装置设置于用于投入所述基板100的检查台10，以在基板100的表面上将包含聚酰亚胺薄膜的多个成膜101涂布到所述基板100上而形成图案时，检查所述成膜101是否歪斜，这种本发明包括照明模块20、相机模块30以及检查单元40。
所述照明模块20为氙气灯、卤素灯、高频荧光灯、发光二极管照明器中的任意一个，其在所述检查台10的下端沿着与基板100的投入方向(长度方向)垂直相交的宽度方向布置，且构成为当涂布有成膜101的基板经过所述检查台10时，对所述基板100的表面照射光源自不必说，还对所述基板100的横向部边缘H以及纵向部边缘V照射光源。
所述相机模块30布置在所述检查台10的上端，其构成为对经过所述检查台10的基板100的表面自不必说，对经过所述检查台10的基板100的横向部边缘H以及纵向部边缘V以行扫描方式拍摄之后，将此提供给所述检查单元40。
即，所述相机模块30构成为根据从所述照明模块20照射至基板100的表面的光源自不必说，根据从所述照明模块20照射至基板100的横向部边缘H以及纵向部边缘V的光源，对移动的基板100的表面自不必说，对移动的基板100的横向部边缘H以及纵向部边缘V以行扫描方式拍摄。
所述检查单元40搭载有用于开/关控制所述照明模块20和相机模块30的动作的控制程序自不必说，还搭载有用于从由所述相机模块30拍摄的图像信息检查涂布到基板100的表面的成膜101与基板100的横向部边缘H以及纵向部边缘V的距离d1、d2是否分别属于正常范围内的距离，或者是否由于歪斜而维持非正常距离的检查程序。
即，所述检查单元40从由相机模块30拍摄的图像信息分别计算涂布于基板100表面的成膜101与基板100的横向部边缘H的距离d1以及与纵向部边缘V的距离d2之后，将其计算值与已储存的正常范围基准值进行比较运算，由此检查是否歪斜不良。
此时，涂布于所述基板的100的表面的成膜101与基板100的横向部边缘H的距离d1通过对从图像信息测定的成膜101与横向部边缘H之间的像素(Pixel)数乘以每像素的基准长度(例如46μm)而计算得出，涂布于所述基板的100的表面的成膜101与纵向部边缘V的距离d2通过对从图像信息测定的成膜101与纵向部边缘V之间的像素数乘以每像素的基准长度(例如46μm)而计算得出。
如图1至图5所示，在如上构成的本发明的实施例提供的基板成膜检查装置中，首先当朝检查台10侧投入表面涂布有成膜101的基板100时，检查单元40对设置于检查台10的照明模块20的动作进行控制自不必说，还对设置于检查台10的相机模块30的动作进行控制。
即，所述检查单元40对固定设置于所述检查台10的上端的相机模块30的动作进行控制自不必说，还对固定布置于所述检查台10的下端的条状的照明模块20的动作进行控制。所述照明模块20向经过检查台10的基板100照射光源，而位于所述检查台10的上侧的相机模块30拍摄经过所述检查台10的基板100中的横向部边缘H以及纵向部边缘V之后，将其传送至检查单元40。
此后，所述检查单元40驱动检查程序，由此从由所述相机模块30拍摄的图像信息检测出涂布于基板100的表面的成膜101是否歪斜。
即，所述检查单元40已储存有针对距离d1的正常范围基准值和针对距离d2的正常范围基准值的信息(在此，所述正常范围基准值是由各个制造商各自任意设定的，其基准值有可能不同)，所述距离d1为涂布于基板100的表面的成膜101与基板100的横向部边缘H的距离，所述距离d2为涂布于所述基板100的表面的成膜101与基板100的纵向部边缘V的距离。
所述检查单元40通过对从由所述相机模块30拍摄而提供的图像信息测定的成膜101与横向部边缘H之间的像素数运算(乘法)每像素的基准长度(例如46μm)而计算出涂布于所述基板100表面的成膜101与基板100的横向部边缘H的距离d1的同时，通过对从由所述相机模块30拍摄而提供的图像信息测定的成膜101与纵向部边缘V之间的像素数运算(乘法)每像素的基准长度(例如46μm)而计算出涂布于所述基板100表面的成膜101与基板100的纵向部边缘V的距离d2。
接着，所述检查单元40将所计算出的涂布于表面的成膜101与基板100的横向部边缘H以及纵向部边缘V的距离d1、d2与已储存的正常范围基准值进行比较，由此判断涂布于所述基板100表面的成膜101是在歪斜的状态下形成涂布的的还是正常被涂布的。
作为一例，由于在由所述相机模块30拍摄的图像信息中一个像素具有46μm的长度，因此当假设为在由所述相机模块30拍摄的图像信息中，基板100的横向部边缘H与成膜101之间的距离d1为252个像素时，计算出的所述横向部边缘H与成膜101之间的距离d1为252像素×46微米＝11.592mm，然后确认所算出的所述距离d1(d1＝11.592mm)是否属于所述检查单元40中已储存的正常范围基准值范围内。
进而，由于在由所述相机模块30拍摄的图像信息中一个像素具有46μm的长度，因此当假设为在由所述相机模块30拍摄的图像信息中，基板100的纵向部边缘V与成膜101之间的距离d2为147个像素时，计算出所述纵向部边缘V与成膜101之间的距离d2为147像素×46微米＝6.762mm，然后确认所算出的所述距离d2(d1＝6.762mm)是否属于所述检查单元40中已储存的正常范围基准值范围内。
据此，所述检查单元40从所述比较结果判断为所算出的距离d1、d2与正常范围内的基准值相同或相近似时，判定为涂布于所述基板100的表面的成膜101被涂布成无歪斜且正常。
另外，虽然在所述图1至图5的实施例中对成膜101以单层涂布于基板100的表面，且检查这种单层成膜101的歪斜不良的情况进行了说明，但是如另外的图6所示，所述检查单元40还能够在成膜101、101a、101b以多层涂布于所述基板100的表面时检查出这种多层成膜101、101a、101b的歪斜不良。
即，如图6所示，当基板100上涂布有多层成膜101、101a、101b时，所述检查单元40按照首先从离基板100的横向部边缘H以及纵向部边缘V最远的成膜101b，即涂布于所述基板100表面的成膜的大小最小的成膜101b开始至最大的成膜101的顺序(101b→101a→101)计算出距离(d1″，d2″)(d1′，d2′)(d1，d2)即可，这种计算方法分别与前述的图1至图5的实施例相同。
以上，虽然结合附图说明了本发明的基板成膜检查装置的技术思想，但是，这仅仅示例性说明了本发明的最佳的实施例，本发明并不局限于此。
据此，本发明并不局限于具有上述特征的优选的实施例，对于本发明所述技术领域的具有通常知识的技术人员而言应当知道，在不脱离权利要求书所请求的本发明的主旨的情况下，任何人都可以进行各种变形，而这样的变更都属于权利要求书所请求的范围。

Claims (5)

1.一种基板成膜检查装置，其特征在于，包括：
基板成膜检查装置，在基板的表面上以与横向部边缘及纵向部边缘维持预定距离的方式涂布包含有聚酰亚胺膜的单层或多层的成膜时，计算出涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的横向部边缘之间的距离、以及涂布为单层或多层的所述成膜与所述纵向部边缘之间的距离，从而检查出在所述基板的表面上被涂布为单层或多层的所述成膜是否以歪斜状态得到涂布，
其中，所述基板成膜检查装置包括：
检查台，用于使所述成膜以单层或多层得到涂布的所述基板经过；
照明模块，在检查台中沿着与所述基板的行进方向正交的宽度方向布置，用于向经过所述检查台的所述基板的横向部边缘和纵向部边缘照射光源；
逐行扫描式相机，在所述检查台中沿着与所述基板的行进方向正交的宽度方向布置，不仅对成膜以单层或多层得到涂布的所述基板的表面进行逐行扫描方式的拍摄，而且还对所述基板的横向部边缘和纵向部边缘进行逐行扫描方式的拍摄；以及
检查单元，用于控制所述照明模块及所述逐行扫描式相机的操作，并由借助于所述逐行扫描式相机拍摄到的图像信息分别计算出在所述基板的表面涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离，且检查所计算出的距离是否对应于歪斜状态，
其中，在所述基板的表面被涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的横向部边缘之间的距离以如下方式得到计算：对从所述逐行扫描式相机拍摄到的图像信息中测定出的单层或多层的所述成膜与所述横向部边缘之间的像素数乘以每个单像素的基准长度，
在所述基板的表面被涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的纵向部边缘之间的距离以如下方式得到计算：对从所述逐行扫描式相机拍摄到的图像信息中测定出的单层或多层的所述成膜与所述纵向部边缘之间的像素数乘以每个单像素的基准长度。
2.如权利要求1所述的基板成膜检查装置，其特征在于，所述照明模块为氙气灯、卤素灯、高频荧光灯、发光二极管照明器中的任意一个。
3.如权利要求1所述的基板成膜检查装置，其特征在于，所述检查单元搭载有检查程序，该检查程序用于从由逐行扫描式相机拍摄到的图像信息中计算出以单层或多层涂布于基板表面的成膜与基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离，然后将求出的计算值与正常范围基准值进行比较计算，以检查单层或多层的所述成膜究竟是正常涂布的成膜还是以歪斜状态得到涂布的不良成膜。
4.如权利要求3所述的基板成膜检查装置，其特征在于，以单层或多层涂布于所述基板的表面的所述成膜与基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离的相关正常范围距离基准值预存储于所述检查单元内。
5.如权利要求4所述的基板成膜检查装置，其特征在于，被涂布为多层的所述成膜与所述基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离以如下方式依序得到计算：
在涂布于所述基板的表面的成膜中，按从大小最小的成膜开始次第选取大小相近并较大的成膜的顺序计算所述成膜与所述基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离。
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