CN106057852A - 柔性显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供了一种柔性显示装置及其制造方法，该柔性显示装置包括：第一柔性基底；显示单元，位于第一柔性基底上；薄膜包封层，用于包封显示单元；覆盖层，用于覆盖薄膜包封层；触摸屏层，位于覆盖层上；以及第二柔性基底，位于触摸屏层上，其中，触摸屏层包括感测图案单元和电连接到感测图案单元的触摸垫单元，其中，覆盖层位于感测图案单元下方，其中，从薄膜包封层的上表面到触摸屏层的下表面的覆盖层的厚度为大约1μm至大约20μm。

Description

柔性显示装置及其制造方法
本申请要求于2015年4月15日在韩国知识产权局提交的第10-2015-0053141号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
技术领域
一个或更多个示例性实施例涉及一种柔性显示装置和制造该柔性显示装置的方法。
背景技术
目前，与努力提供各种形式的电子装置一起，对于提供安装在电子装置中的各种类型的显示装置，进行研究和开发。还正在进行关于将触摸面板功能应用于显示装置的研究。当将触摸面板功能应用于显示装置时，用户的手指、笔等接触显示装置的表面，因此显示装置可以用作输入装置。
有机发光二极管(OLED)显示器不需要另外的光源，因此可以用低电压驱动，并且可以被制造为质轻且薄。此外，OLED显示器具有诸如宽视角、高对比度和快响应速度的有利特性，因此作为下一代显示器已备受关注。
发明内容
一个或更多个示例性实施例涉及一种柔性显示装置和制造该柔性显示装置的方法。
附加的方面将在随后的描述中部分地阐述，并且部分地通过描述将是明显的，或者可以通过所提出的实施例的实施来获知。
根据一个或更多个示例性实施例，柔性显示装置包括：第一柔性基底；显示单元，位于第一柔性基底上；薄膜包封层，用于包封显示单元；覆盖层，用于覆盖薄膜包封层；触摸屏层，位于覆盖层上；以及第二柔性基底，位于触摸屏层上，其中，触摸屏层包括感测图案单元和电连接到感测图案单元的触摸垫单元，其中，覆盖层位于感测图案单元下方，其中，从薄膜包封层的上表面到触摸屏层的下表面的覆盖层的厚度为大约1μm至大约20μm。
覆盖层的厚度可以为大约5μm至大约20μm。
覆盖层可以包括硅基树脂。
柔性显示装置还可以包括位于触摸垫单元下方并且位于覆盖层的侧面处的连接单元。
柔性显示装置还可以包括位于第一柔性基底上并且被构造为将电信号传输到显示单元的垫单元，触摸垫单元与垫单元可在薄膜包封层的外部处彼此对齐。
第二柔性基底可以被切割，以暴露位于第一柔性基底上的垫单元。
连接单元可以包括其中分布有导电球的绝缘树脂层。
柔性显示装置还可以包括位于触摸屏层与第二柔性基底之间的偏振层。
显示单元可以包括多个子像素，偏振层可以在与所述多个子像素中的各个子像素对应的位置处限定多个开口。
柔性显示装置还可以包括在所述多个开口中的各个开口内与所述多个子像素发射的光的颜色对应的滤色器。
根据一个或更多个示例性实施例，制造柔性显示装置的方法包括以下步骤：在第一母基底的表面上形成第一柔性基底；在第一柔性基底上形成多个显示单元；在第一柔性基底上形成用于分别包封所述多个显示单元的多个薄膜包封层；在第二母基底的表面上形成第二柔性基底；在第二柔性基底上形成多个触摸屏层；用填充剂涂覆所述多个触摸屏层中的每个；布置第一母基底和第二母基底，使得所述多个显示单元面对所述多个触摸屏层；硬化填充剂以形成覆盖层，并通过覆盖层将第一母基底粘合到第二母基底；通过沿着切割线切割粘合的第一母基底和第二母基底来形成多个显示装置；以及将第一母基底和第二母基底的切割部分从所述多个显示装置去除，其中，触摸屏层中的每个包括感测图案单元和电连接到感测图案单元的触摸垫单元，其中，覆盖层位于感测图案单元下方，其中，从多个薄膜包封层中的一个薄膜包封层的上表面到多个触摸屏层中的一个触摸屏层的下表面的覆盖层中的每个覆盖层的厚度为大约1μm至大约20μm。
覆盖层中的每个的厚度可以为大约5μm至大约20μm。
覆盖层可以包括硅基树脂。
涂覆所述多个触摸屏层中的每个的步骤可以包括在触摸垫单元上形成其中分布有导电球的绝缘树脂层，硬化填充剂的步骤可以包括硬化绝缘树脂层以形成连接单元。
形成所述多个显示单元的步骤可以包括在第一柔性基底上形成电连接到所述多个显示装置中的各个显示装置的垫单元，切割所述多个显示单元的第二柔性基底以暴露位于第一柔性基底上的垫单元。
在所述多个显示装置中的每个中，可以将触摸垫单元和垫单元对齐。
所述方法还可以包括：在第二柔性基底上形成多个偏振层，其中，所述多个偏振层中的每个限定了多个开口；以及在所述多个开口中的每个中形成红色滤色器、绿色滤色器或蓝色滤色器。
所述多个显示单元可以包括与所述多个开口叠置的多个子像素，红色滤色器、绿色滤色器或蓝色滤色器可以与所述多个子像素中的各个子像素发射的颜色对应。
所述方法还可以包括：在形成第一柔性基底和第二柔性基底之前，在第一母基底和第二母基底上分别形成氧化石墨烯层。
去除第一母基底和第二母基底的切割部分的步骤可以包括将第一母基底和第二母基底的切割部分与氧化石墨烯层一起从所述多个显示装置物理地去除。
附图说明
通过下面结合附图对实施例的描述，这些和/或其它方面将变得明显且更加容易理解，在附图中：
图1是根据本发明的实施例的柔性显示装置的示意性平面图；
图2是沿着图1的线I-I'截取的剖视图；
图3是图2的部分A的放大剖视图；
图4是图1的柔性显示装置的变型的剖视图；
图5是图4的柔性显示装置的偏振层的示意性剖视图；
图6至图11是根据本发明的实施例的用于解释制造图1的柔性显示装置的方法的示意性视图。
具体实施方式
通过参照下面的实施例的详细描述和附图，本发明构思的特征及实现其的方法可以被更容易地理解。然而，本发明构思可以以很多不同的形式来实施并且不应被解释为受限于这里阐述的实施例。在下文中，将参照附图更加详细地描述示例实施例，其中，同样的附图标记始终表示同样的元件。然而，本发明可以以各种不同的形式来实施，并且不应被解释为仅受限于这里示出的实施例。相反地，这些实施例被提供为示例，使得该公开将是彻底的和完全的，并且将本发明的各方面和特征充分传达给本领域的技术人员。因此，可以不描述对本领域普通技术人员完全理解本发明的各方面和特征来说是不必要的工艺、元件和技术。除非另外指出，否则贯穿附图和书面描述，同样的附图标记表示同样的元件，因此，将不对其进行重复描述。在附图中，为了清楚，可以夸大元件、层和区域的相对尺寸。
将理解的是，尽管这里可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，下面描述的第一元件、组件、区域、层或部分可以被命名为第二元件、组件、区域、层或部分。
为了易于解释，这里可以使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下面的”、“在……下面”、“在……上方”、“上面的”等的空间相对术语来描述如图中示出的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意图包括除了在图中描绘的方位之外的装置在使用中或操作中的不同方位。例如，如果图中的装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”或“下面”的元件随后将被定位为“在”其它元件或特征“上方”。因此，示例术语“在……下方”和“在……下面”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。装置可以被另外定位(例如，旋转90度或在其它方位)，并应该对在这里使用的空间相对描述语做出相应的解释。
将理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在所述另一元件或层上、直接连接到或直接结合到所述另一元件或层，或者可以存在一个或更多个中间元件或中间层。另外，还将理解的是，当元件或层被称作“在”两个元件或层“之间”时，该元件或层可以是两个元件或层之间的唯一元件或层，或者还可以存在一个或更多个中间元件或中间层。
这里使用的术语仅是为了描述具体实施例的目的而不是意图限制本发明。如这里所使用的，除非上下文另外明确地指出，否则单数形式“一”、“一个(种)”和“该(所述)”也意图包括复数形式。还将理解的是，术语“包括”及其变型用在本说明书中时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但是不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。如这里所使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意组合和所有组合。诸如“……中的至少一个(种)”的表达在一列元件之后时，修饰整列元件，而不是修饰该列的个别元件。
如这里所使用的，术语“基本上”、“大约”和相似术语是用作近似的术语而不是用作程度的术语，并且意图解释本领域普通技术人员可以识别的测量值或计算值中的固有偏差。另外，当在描述本发明的实施例时“可以”的使用是指“本发明的一个或更多个实施例”。如这里所使用的，术语“使用”及其变型可以被认为与术语“利用”及其变型同义。另外，术语“示例性”意图指示例或举例说明。
这里描述的根据本发明的实施例的电子或电气装置和/或任何其它相关的装置或组件可以利用任何合适的硬件、固件(例如专用集成电路)、软件或者软件、固件和硬件的组合来实现。例如，这些装置的各个组件可以形成在一个集成电路(IC)芯片上或形成在单独的IC芯片上。另外，这些装置的各个组件可以在柔性印刷电路膜、载带封装件(TCP)、印刷电路板(PCB)上实现，或者形成在一个基底上。另外，这些装置的各个组件可以是进程或线程，所述进程或线程在一个或更多个计算装置中的一个或更多个处理器上运行，执行计算机程序指令并且与其它系统组件交互以执行这里描述的各种功能。计算机程序指令被存储在存储器中，所述存储器可以使用诸如以随机存取存储器(RAM)为例的标准存储器装置在计算装置中实现。计算机程序指令还可以存储在诸如以CD-ROM、闪速驱动器等为例的其它非临时性计算机可读介质中。另外，本领域技术人员应当认识到，在不脱离本发明的示例性实施例的精神和范围的情况下，可以将各种计算装置的功能结合或集成到单个计算装置中，或者可以将特定计算装置的功能分布于一个或更多个其它计算装置。
除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。将进一步理解的是，除非在此明确这样定义，否则诸如在通用字典中定义的术语应解释为具有与相关领域的环境和/或本说明书中的它们含义相一致的含义，并且不应当以理想化或过于形式化的含义来进行解释。
图1是根据本发明的实施例的柔性显示装置10的示意性平面图，图2是沿着图1的线I-I'截取的示意性剖视图，图3是图2的部分A的放大剖视图。
参照图1至图3，柔性显示装置10可以包括：第一柔性基底101；显示单元200，位于第一柔性基底101上；薄膜包封层300，包封显示单元200；覆盖层500，位于薄膜包封层300上；触摸屏层400，位于覆盖层500上；以及第二柔性基底102，位于触摸屏层400上。
第一柔性基底101是柔性的，因此可以由聚酰亚胺、丙烯酸酯等来形成。然而，本发明的实施例不限于此，第一柔性基底101可以由诸如塑料材料(诸如聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN))和/或金属材料的各种其它材料形成。在一些情况下，第一柔性基底101可以由诸如不锈钢/steel use stainless(不锈钢)(SUS)的薄金属箔形成。
包括显示区域和在显示区域外侧的垫(pad，或称为“焊盘”)单元114的显示单元200可以形成在第一柔性基底101上。显示单元200被构造为提供用户可以识别的图像。图3示出了显示单元200包括有机发光二极管(OLED)的实施例。然而，本发明的其它实施例不限于此，显示单元200可以包括液晶装置或任何其它类型的显示装置。垫单元114可以将电信号从电源装置或者从信号产生装置传输到显示单元200。现在将参照图3更详细地描述显示单元200。
缓冲层110可以形成在第一柔性基底101上。缓冲层110可以使第一柔性基底101的上表面平坦化，并且可以阻挡外来物质或湿气经由第一柔性基底101进入。例如，缓冲层110可以由无机材料(诸如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氮化铝、氧化钛和/或氮化钛)、有机材料(诸如聚酰亚胺、聚酯和/或丙烯酰材料)或这些材料的堆叠来形成。
显示单元200可以包括薄膜晶体管TFT、电容器Cap以及电连接到薄膜晶体管TFT的OLED。
薄膜晶体管TFT可以包括有源层120、栅电极140、源电极160和漏电极162。
有源层120可以包括非晶硅、多晶硅、氧化物半导体和/或有机半导体。栅电极140位于有源层120上，源电极160与漏电极162响应于施加到栅电极140的信号而彼此电连通。
例如，考虑到对相邻层的粘附性、堆叠在栅电极140上的层的表面平整度和可加工性，栅电极140可以由选自于铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和/或铜(Cu)中的至少一种以单层结构或以多层结构形成。
由例如氧化硅和/或氮化硅形成的栅极绝缘层130可以置于栅电极140与有源层120之间。
层间绝缘层150可以位于栅电极140上，并且可以由氧化硅、氮化硅等以单层结构或多层结构形成。
源电极160和漏电极162位于层间绝缘层150上。源电极160和漏电极162可以经由层间绝缘层150和栅极绝缘层130两者中各自的接触孔电连接到有源层120。
源电极160和漏电极162均可以由选自于铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和/或铜(Cu)中的至少一种以单层结构或多层结构形成。
第一绝缘层170可以位于源电极160和漏电极162上。当OLED位于薄膜晶体管TFT上时，第一绝缘层170主要使薄膜晶体管TFT的上表面平坦化，并且保护薄膜晶体管TFT和各种器件。第一绝缘层170可以由诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的丙烯酰类聚合物、聚苯乙烯(PS)、具有酚基的聚合物衍生物、酰亚胺类聚合物、丙烯酰基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯基醇类聚合物、无机材料等形成。
第二绝缘层180可以形成在薄膜晶体管TFT之上，可以位于第一绝缘层170上，并且可以限定开口。第二绝缘层180可以是在第一柔性基底101上限定像素区域的像素限定层。
第二绝缘层180可以是例如有机绝缘层。有机绝缘层可以包括诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的丙烯酰类聚合物、聚苯乙烯(PS)、具有酚基的聚合物衍生物、酰亚胺类聚合物、丙烯酰基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯基醇类聚合物和/或这些材料的混合物。
形成红色子像素250R、绿色子像素250G和蓝色子像素250B的OLED可以位于由第二绝缘层180限定的各个像素区域处。红色子像素250R可以包括红色发射像素电极210R、红色发射中间层220R和对电极230。绿色子像素250G可以包括绿色发射像素电极210G、绿色发射中间层220G和对电极230。蓝色子像素250B可以包括蓝色发射像素电极210B、蓝色发射中间层220B和对电极230。
像素电极210R、210G和210B可以分别电连接到薄膜晶体管TFT，并且可以通过利用透明电极或反射电极来实现。当像素电极210R、210G和210B形成为透明电极时，像素电极210R、210G和210B可以由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铟镓(IGO)和/或氧化铝锌(AZO)形成。当像素电极210R、210G和210B形成为反射电极时，像素电极210R、210G和210B中的每个可以包括由银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)和/或它们的组合形成的反射层以及由ITO、IZO、ZnO、In2O3、IGO和/或AZO形成的层。然而，本发明的实施例不限于此，像素电极210R、210G和210B可以由各种其它材料形成并且可以具有诸如单层结构或多层结构的各种结构。
在红色子像素250R、绿色子像素250G和蓝色子像素250B中分别包括的红色发射中间层220R、绿色发射中间层220G和蓝色发射中间层220B包括用于分别发射红光、绿光和蓝光的发射层(EML)，并且均还可以包括单一结构或复合结构的空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和/或电子注入层(EIL)。其它实施例的中间层220R、220G、220B不限于上面描述的层，并且可以具有各种其它结构。
对电极230可以是共电极(即，红色子像素250R、绿色子像素250G和蓝色子像素250B所共用的电极)，并且可以形成为透明电极或反射电极。
当对电极230形成为透明电极时，对电极230可以具有由具有小的逸出功的金属(即，Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg和/或它们的组合)形成的层以及由ITO、IZO、ZnO和/或In2O3形成的透明导电层。当对电极230形成为反射电极时，对电极230可以具有由Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg和/或它们的组合形成的层。对电极230的构造和用于形成对电极230的材料不限于上面描述的结构和材料，在其它实施例中可以对对电极230做出各种修改。
薄膜包封层300可以包封显示单元200以防止外部的氧、湿气等渗入显示单元200。薄膜包封层300可以包括多个有机层310和330以及多个无机层320和340。所述多个有机层310和330以及所述多个无机层320和340可以交替地堆叠。尽管在图3中薄膜包封层300包括两个有机层310和330以及两个无机层320和340，但本发明的实施例不限于此。换言之，薄膜包封层300还可以包括彼此交替地堆叠的多个附加的无机包封层和多个附加的有机包封层，堆叠的无机包封层的数量和堆叠的有机包封层的数量不受限制。
有机层310和330可以由选自于丙烯酰类树脂、甲基丙烯酰类树脂、聚异戊二烯、乙烯基类树脂、环氧类树脂、氨酯类树脂、纤维素类树脂和苝类树脂中的至少一种形成。
无机层320和340可以由选自于氮化硅、氮化铝、氮化锆、氮化钛、氮化铪、氮化钽、氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锡、氧化铈和/或氮氧化硅(SiON)中的至少一种形成。
覆盖层500可以位于薄膜包封层300上。覆盖层500可以由弹性材料形成。例如，覆盖层500的肖氏硬度可以为大约30(Shore A)。覆盖层500可以覆盖薄膜包封层300，并且可以防止在薄膜包封层300的无机层320和340中产生由外部物理力引起的缺陷(例如，裂纹)。当制造期间在薄膜包封层300上存在外来物质时，覆盖层500覆盖外来物质，并且使薄膜包封层300的上表面平坦化，从而防止薄膜包封层300的阻挡特性的劣化。另外，覆盖层500可以通过分散当柔性显示装置10弯曲时产生的应力来确保柔性显示装置10的机械可靠性。
覆盖层500可以由弹性粘合材料形成。覆盖层500可以由硅基光聚合物树脂或硅基热固性树脂形成。更详细地，覆盖层500可以由包括硅氧烷交联反应剂(例如，聚甲基三氟丙基硅氧烷或聚甲基乙烯基硅氧烷)的硅基树脂形成，但是本发明的实施例不限于此。
覆盖层500可以形成为具有大约1μm至大约20μm的厚度D。覆盖层500的厚度D表示从薄膜包封层300的上表面到触摸屏层400的下表面的最短距离。当覆盖层500具有小于大约1μm的厚度时，并且当颗粒存在于薄膜包封层300上时，这会难以充分地覆盖颗粒，因此，这还会难以防止在薄膜包封层300的无机层320和340中产生缺陷(诸如由外部物理力引起的裂纹)。另一方面，当覆盖层500具有大于大约20μm的厚度时，会使柔性显示装置10的柔性劣化。
当触摸屏层400正在被触摸时，覆盖层500可以改善触摸灵敏度。触摸屏层400可以是包括感测图案单元410的电容层(其可以包括彼此交叉的第一电极和第二电极)，感测图案单元410和对电极230可以形成电容器。在此情况下，当用户触摸第二柔性基底102时，外部触摸输入单元(例如，手指或触笔)和感测图案单元410形成另一个电容器。换言之，两个电容器可以通过外部触摸输入单元的触摸串联到彼此，因此，发生电容的变化。因此，可以感测电容变化的位置和电容变化的程度，以实现触摸面板的性能。
触摸灵敏度可以受到例如当触摸屏层400被触摸时电容的变化或者受到当触摸屏层400被触摸时产生的噪音的影响。详细地，触摸灵敏度可以随着在触摸期间电容的变化增大和随着噪音降低而增大。随着通过感测图案单元410和对电极230形成的电容器的电容减小，通过触摸引起的电容的变化可以增大，并且噪音产生可以减小。
因为通过感测图案单元410和对电极230形成的电容器的电容随着感测图案单元410与对电极230之间的间隙的增大而减小，所以考虑到作为覆盖层500的硅基树脂的介电常数，覆盖层500可以形成为具有大约5μm或更大的厚度。当覆盖层500具有小于大约5μm的厚度时，通过感测图案单元410和对电极230形成的电容器的电容会过度地增大，因此这会更难以感测电容的变化，还会增加在触摸期间产生的噪音。此外，电容器的充电/放电速度会变得低于驱动频率，从而导致触摸灵敏度的降低。
因此，覆盖层500可以形成为具有大约5μm至大约20μm的厚度以改善触摸屏层400的触摸灵敏度，保护薄膜包封层300，并且保持柔性显示装置10的柔性。
触摸屏层400还可以包括电连接到感测图案单元410的触摸垫单元420。触摸垫单元420可以电连接到垫单元114，并且可以将与根据触摸位置的电容变化对应的信息传输到显示单元200的驱动电路。
触摸垫单元420可以在水平方向上与薄膜包封层300分离(例如，触摸垫单元420在竖直方向上可以不与薄膜包封层300叠置)。因此，可以防止在用于将连接单元450连接到触摸垫单元420的压制工艺期间施加的竖直压力损坏薄膜包封层300。
例如，触摸垫单元420可以在薄膜包封层300的外侧/在薄膜包封层300的外部处与垫单元114对齐，因此，可以减少柔性显示装置10的无效区域(例如，非显示区域)，并且可以使柔性显示装置10具有紧凑结构。
连接单元450位于触摸垫单元420之下，并且电连接到触摸垫单元420。因为覆盖层500位于感测图案单元410之下，并且因为连接单元450位于触摸垫单元420之下，所以连接单元450可以与覆盖层500的侧表面(例如，在由图2中的Z轴和Y轴限定的平面方向上延伸的覆盖层500的表面)相邻。例如，连接单元450和覆盖层500可以在其侧表面处彼此接触。
连接单元450可以包括其中分布有导电球的绝缘树脂层。例如，连接单元450可以是各向异性导电粘合剂(ACA)。当连接单元450被压制以附着到触摸垫单元420时，导电球可以暴露于外侧(例如，暴露于绝缘树脂层的表面)，连接单元450可以通过暴露的导电球电连接到触摸垫单元420。
绝缘树脂层可以由例如环氧树脂、丙烯酰树脂、聚酰亚胺树脂或聚碳酸酯的高粘合性和高绝缘性的热固性树脂形成，导电球可以是例如高导电的Au球、Ag球、Ni球或Cu球，或者可以是通过使用上述金属中的每种镀覆聚合物材料而获得的球。
第二柔性基底102具有柔性特性，并且可以由聚酰亚胺、丙烯酸酯等形成。然而，本发明的实施例不限于此，第二柔性基底102可以由诸如塑料材料(诸如PET、PEN)和/或金属材料的各种其它材料形成。在一些情况下，第二柔性基底102可以由诸如SUS的薄金属箔形成。
第二柔性基底102被部分地切除，因此可以暴露垫单元114。因为触摸垫单元420可以在薄膜包封层300的外侧与垫单元114对齐，并且因为第二柔性基底102覆盖触摸屏层400，所以第二柔性基底102可以被成形为使得第二柔性基底102的一个侧边的一部分延伸超出薄膜包封层300并且覆盖触摸垫单元420。
因为第一柔性基底101和第二柔性基底102可以形成为不仅具有柔性而且具有足够的硬度(例如，通过利用填充剂、添加剂等)，所以第一柔性基底101和第二柔性基底102可以用作保护层。
图4是图1的柔性显示装置10的变型的剖视图。图5是图4的柔性显示装置20的偏振层600的示意性平面图。图4示出了沿着图1的线II-II'截取的柔性显示装置20的剖视图。
参照图4，柔性显示装置20可以包括：第一柔性基底101；显示单元200，位于第一柔性基底101上；薄膜包封层300，包封显示单元200；覆盖层500，位于薄膜包封层300上；触摸屏层400，位于覆盖层500上；偏振层600，位于触摸屏层400上；以及第二柔性基底102，位于偏振层600上。换言之，当与图1至图3的柔性显示装置10比较时，图4的柔性显示装置20还包括偏振层600。
因为第一柔性基底101、显示单元200、薄膜包封层300、覆盖层500、触摸屏层400和第二柔性基底102可以与上面参照图1至图3描述的各个组件相同，所以这里将省略其重复的描述。
偏振层600可以包括多个开口620(见图5)。所述多个开口620可以形成在分别与显示单元200的多个子像素对应的位置处。与子像素发射的光的颜色对应的滤色器可以分别位于所述多个开口620内。因此，通过显示单元200显示的图像可以具有改善的颜色纯度。
偏振层600可以由诸如钼(Mo)的黑色材料形成，并且可以位于触摸屏层400与第二柔性基底102之间。因此，偏振层600可以在除显示单元200的子像素之外的区域上(例如，在子像素之间的区域上或在子像素周围的区域上)用作黑色矩阵，并且可以防止通过触摸屏层400的外部光的反射，从而改善了柔性显示装置20的对比度。
图6至图11是根据本发明的实施例的用于解释制造图1的柔性显示装置10的方法的示意性视图。
制造图1的柔性显示装置10的方法可以包括以下步骤：准备具有其上形成有多个显示单元200和多个薄膜包封层300的第一表面的第一母基底1001(见图6)，以及具有多个触摸屏层400的第二母基底1002(见图8)，其中，多个触摸屏层400形成在面对第一母基底1001的第一表面的表面上；将第一母基底1001和第二母基底1002粘合在一起；以及沿着切割线C.L(见图10)切割第一母基底1001和第二母基底1002。
现在将参照图6至图11更详细地描述制造图1的柔性显示装置10的方法。图7是沿着图6的线III-III'截取的示意性剖视图，图9是沿着图8的线IV-IV'截取的示意性剖视图，图10是沿着图8的线V-V'截取的示意性剖视图。
首先，如图6和图7中所示，在第一母基底1001的整个表面上形成第一柔性基底101之后，在第一柔性基底101上形成所述多个显示单元200，在第一柔性基底101上形成用于分别包封所述多个显示单元200的所述多个薄膜包封层300。
第一母基底1001由诸如玻璃的刚性材料形成，并且在形成第一柔性基底101和所述多个显示单元200时用作支撑件。
所述多个显示单元200可以形成平面格子图案。当所述多个显示单元200形成时，还可以在第一柔性基底101上形成垫单元114，并且垫单元114可以分别电连接到所述多个显示单元200。
因为以上参照图3描述了显示单元200，并且因为各种形状和尺寸可以应用于显示单元200中的每个，所以省略了制造显示单元200的方法的详细描述。
可以通过在彼此上交替地堆叠多个有机层和多个无机层来形成薄膜包封层300中的每个。例如，可以通过蒸发和沉积液体单体、将紫外线照射到沉积的单体并且将单体变成聚合物来形成所述多个有机层。另外，例如，可以经由溅射、原子层沉积、化学气相沉积等形成所述多个无机层。
接着，如图8和图9中所示，在第二母基底1002的整个表面上形成第二柔性基底102，然后在第二柔性基底102上形成所述多个触摸屏层400。为了解释的方便，图8示出了如从顶部看，在其上形成有所述多个触摸屏层400的第二母基底1002的表面。
第二母基底1002由诸如玻璃的刚性材料形成，并且在形成第二柔性基底102和所述多个触摸屏层400时用作支撑件。
所述多个触摸屏层400中的每个可以包括感测图案单元410和触摸垫单元420。可以通过在第二柔性基底102上沉积透明材料(诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟(IO)、掺镓氧化锌(GZO)、氧化锌(ZnO)、掺铝氧化锌(AZO)、掺氟氧化锡(FTO)、掺锑氧化锡(ATO)和/或In2O3)然后经由光刻使沉积的透明材料图案化来形成所述多个触摸屏层400。
然后，如图10中所示，在使用填充剂涂覆所述多个触摸屏层400中的每个之后，布置/对齐第一母基底1001和第二母基底1002使得所述多个显示单元200面对所述多个触摸屏层400，然后硬化填充剂从而形成覆盖层500。仅在所述多个触摸屏层400中的每个的感测图案单元410上涂覆填充剂。因此，覆盖层500位于感测图案单元410之下。
覆盖层500中的每个可以由弹性粘合材料形成。例如，覆盖层500中的每个可以由包括硅氧烷交联反应剂(例如，聚甲基三氟丙基硅氧烷和/或聚甲基乙烯基硅氧烷)的硅基树脂形成。因此，第一母基底1001和第二母基底1002可以通过覆盖层500粘合在一起，即使在第一母基底1001和第二母基底1002被粘合在一起的同时在薄膜包封层300上存在颗粒时，覆盖层500也可以防止薄膜包封层300被颗粒损坏。覆盖层500中的每个可以形成为具有大约1μm至大约20μm的厚度。
当涂覆填充剂时，还可以在触摸垫单元420上涂覆其中分布有导电球的绝缘树脂层或者可以将所述绝缘树脂层附着到触摸垫单元420。在硬化填充剂时可以使其中分布有导电球的绝缘树脂层硬化，从而形成连接单元450。其中分布有导电球的绝缘树脂层可以是ACA。当压制连接单元450以使其附着到触摸垫单元420时，导电球被暴露以接触触摸垫单元420。
然后，沿着切割线C.L切割粘合的第一母基底1001和第二母基底1002。因此，如图11中所示，形成多个显示装置U，将第一母基底1001的切割部分和第二母基底1002的切割部分从所述多个显示装置U去除。
例如，通过将激光照射到第一柔性基底101和第二柔性基底102，第一母基底1001和第二母基底1002可以分别与第一柔性基底101和第二柔性基底102分离。然而，本发明的实施例不限于此。换言之，在第一母基底1001和第二母基底1002上形成第一柔性基底101和第二柔性基底102之前，还可以形成氧化石墨烯层，第一母基底1001和第二母基底1002可以与第一柔性基底101和第二柔性基底102物理分离，以将第一母基底1001和第二母基底1002的切割部分与氧化石墨烯层一起去除。
在去除了第一母基底1001和第二母基底1002之后，所述多个显示装置U中的每个包括第一柔性基底101和第二柔性基底102。多个第一柔性基底101可以是相同的尺寸，并且多个第二柔性基底102可以是相同的尺寸。可以进一步部分地切割第二柔性基底102以暴露垫单元114。
如上面描述的，根据本发明的实施例，在制造柔性显示装置10的方法中，在第二母基底1002上首先形成所述多个触摸屏层400之后，第一母基底1001和第二母基底1002经历粘合工艺和切割工艺，从而制造了柔性显示装置10。因此，制造良率可以比触摸屏面板单独地附着到柔性显示装置10的情况的制造良率高。因为经由沉积在第二柔性基底102上形成触摸屏层400，所以不需要用于将触摸屏层400附着到第二柔性基底102的粘合层。因此，柔性显示装置10均可以具有较小的厚度，由硅基树脂形成的覆盖层500均可以具有大约5μm至大约20μm的厚度，从而改善了触摸屏层400的触摸灵敏度。
尽管图6至图11说明了制造图1的柔性显示装置10的方法，然而该方法可等同地应用于制造图4的柔性显示装置20的方法。然而，制造图4的柔性显示装置20的方法还可以包括在第二柔性基底102上形成图4的多个偏振层600的步骤。
图4的所述多个偏振层600中的每个可以包括多个开口，可以在所述开口中的各个开口中形成红色滤色器、绿色滤色器和/或蓝色滤色器。所述多个开口可以与显示单元200的子像素叠置，滤色器可以具有与子像素中对应的子像素发射的光的颜色相同的颜色。
在第二柔性基底102上沉积Mo等之后，可以处理图4的所述多个偏振层600以经由光刻形成所述多个开口。可以通过在其上已经形成了图4的所述多个偏振层600的第二柔性基底102上沉积透明材料(诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟(IO)、掺镓氧化锌(GZO)、氧化锌(ZnO)、掺铝氧化锌(AZO)、掺氟氧化锡(FTO)、掺锑氧化锡(ATO)和/或In2O3)，然后经由光刻对沉积的透明材料进行图案化来形成所述多个触摸屏层400。换言之，经由沉积在第二柔性基底102上形成图4的偏振层600和触摸屏层400，可以省略用于将偏振层600和触摸屏层400附着到第二柔性基底102的粘合层。
根据本发明的实施例，柔性显示装置可以具有改善的触摸灵敏度，并且可以改善柔性显示装置的制造良率。
应理解的是，在此描述的示例性实施例应仅以描述性的含义来被考虑而不是出于限制的目的。每个实施例内的特征或方面的描述通常应被认为适用于其它实施例中的其它相似特征或方面。
虽然已经参照其示例性实施例具体地示出和描述了本发明，但是本领域的普通技术人员将理解的是，在不脱离如由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可以在此做出形式和细节上的各种变化。

Claims (20)

1.一种柔性显示装置，所述柔性显示装置包括：
第一柔性基底；
显示单元，位于所述第一柔性基底上；
薄膜包封层，用于包封所述显示单元；
覆盖层，用于覆盖所述薄膜包封层；
触摸屏层，位于所述覆盖层上；以及
第二柔性基底，位于所述触摸屏层上，
其中，所述触摸屏层包括感测图案单元和电连接到所述感测图案单元的触摸垫单元，
其中，所述覆盖层位于所述感测图案单元下方，
其中，从所述薄膜包封层的上表面到所述触摸屏层的下表面的所述覆盖层的厚度为1μm至20μm。
2.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述覆盖层的厚度为5μm至20μm。
3.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述覆盖层包括硅基树脂。
4.根据权利要求1所述的柔性显示装置，所述柔性显示装置还包括位于所述触摸垫单元下方并且位于所述覆盖层的侧面处的连接单元。
5.根据权利要求4所述的柔性显示装置，所述柔性显示装置还包括：
垫单元，位于所述第一柔性基底上并且被构造为将电信号传输到所述显示单元，
其中，所述触摸垫单元与所述垫单元在所述薄膜包封层的外部处彼此对齐。
6.根据权利要求5所述的柔性显示装置，其中，所述第二柔性基底被切割，以暴露位于所述第一柔性基底上的所述垫单元。
7.根据权利要求4所述的柔性显示装置，其中，所述连接单元包括其中分布有导电球的绝缘树脂层。
8.根据权利要求1所述的柔性显示装置，所述柔性显示装置还包括位于所述触摸屏层与所述第二柔性基底之间的偏振层。
9.根据权利要求8所述的柔性显示装置，其中，所述显示单元包括多个子像素，
其中，所述偏振层在与所述多个子像素中的各个子像素对应的位置处限定多个开口。
10.根据权利要求9所述的柔性显示装置，所述柔性显示装置还包括在所述多个开口中的各个开口内与所述多个子像素发射的光的颜色对应的滤色器。
11.一种制造柔性显示装置的方法，所述方法包括以下步骤：
在第一母基底的表面上形成第一柔性基底；
在所述第一柔性基底上形成多个显示单元；
在所述第一柔性基底上形成用于分别包封所述多个显示单元的多个薄膜包封层；
在第二母基底的表面上形成第二柔性基底；
在所述第二柔性基底上形成多个触摸屏层；
用填充剂涂覆所述多个触摸屏层中的每个；
布置所述第一母基底和所述第二母基底，使得所述多个显示单元面对所述多个触摸屏层；
硬化所述填充剂以形成覆盖层，并通过所述覆盖层将所述第一母基底粘合到所述第二母基底；
通过沿着切割线切割所述粘合的第一母基底和第二母基底来形成多个显示装置；以及
将所述第一母基底和所述第二母基底的切割部分从所述多个显示装置去除，
其中，所述触摸屏层中的每个包括感测图案单元和电连接到所述感测图案单元的触摸垫单元，
其中，所述覆盖层位于所述感测图案单元下方，
其中，从所述多个薄膜包封层中的一个薄膜包封层的上表面到所述多个触摸屏层中的一个触摸屏层的下表面的所述覆盖层中的每个覆盖层的厚度为1μm至20μm。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述覆盖层中的每个的厚度为5μm至20μm。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述覆盖层包括硅基树脂。
14.根据权利要求11所述的方法，其中，所述涂覆所述多个触摸屏层中的每个的步骤包括在所述触摸垫单元上形成其中分布有导电球的绝缘树脂层，
其中，所述硬化所述填充剂的步骤包括硬化所述绝缘树脂层以形成连接单元。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述形成所述多个显示装置的步骤包括：
在所述第一柔性基底上形成电连接到所述多个显示单元中的各个显示单元的垫单元；以及
切割所述多个显示单元的所述第二柔性基底以暴露位于所述第一柔性基底上的所述垫单元。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，在所述多个显示装置中的每个中，将所述触摸垫单元和所述垫单元对齐。
17.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括在所述第二柔性基底上形成多个偏振层，其中，所述多个偏振层中的每个限定了多个开口；以及
在所述多个开口中的每个中形成红色滤色器、绿色滤色器或蓝色滤色器。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述多个显示单元包括与所述多个开口叠置的多个子像素，
其中，所述红色滤色器、绿色滤色器或蓝色滤色器与所述多个子像素中的各个子像素发射的颜色对应。
19.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括：在所述形成所述第一柔性基底和所述第二柔性基底的步骤之前，在所述第一母基底和所述第二母基底上分别形成氧化石墨烯层。
20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述去除所述第一母基底和第二母基底的所述切割部分的步骤包括将所述第一母基底和第二母基底的所述切割部分与所述氧化石墨烯层一起从所述多个显示装置物理地去除。
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