CN106041689A - 一种研磨装置 - Google Patents

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刘书雨
刘敏
张爱红
赵业开
徐建建
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Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本发明涉及显示技术领域,公开一种研磨装置,包括基台,基台上设有面板承载面,还包括支架、固定在支架上的转轮组件以及包覆在转轮组件上且在转轮组件动作时可相对于基台上的面板运动的研磨带,其中:支架沿平行于面板承载面的方向可移动地安装于基台;研磨带上与面板相对的部分与面板平行;转轮组件的转动中心轴相平行、且与支架的移动方向相平行;支架沿平行于面板承载面的方向移动,转轮组件带动研磨带相对面板运动,杂质从面板转移到研磨带上,并随研磨带一起运动以清洁面板,由于研磨带能够与整个面板相接触,减少了研磨盲区,而研磨带能够相对于面板移动使得总有洁净的研磨带与面板相接触,以获得较好的清洗效果,使得产品良率较高。

Description

一种研磨装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种研磨装置。
背景技术
在液晶屏模组制造工程中,清洗工程设置在各工艺之间用于将面板在上一工艺过程中产生而未被洗净的树脂类异物、纤维屑等杂物清除掉,以避免对下一工艺过程造成污染,现在清洗工程中常用研磨装置来清洗面板。
目前,研磨装置中采用研磨头与面板相接触使得面板上的杂物转移到研磨头上,并随研磨头一起运动以洗净面板,但是为了达到3.5sTT(节拍时间),需要两个研磨头同时研磨,造成材料的浪费,且在研磨过程中由于研磨头的运动较为复杂,使得面板上存在研磨盲区,清洗效果较差,产品良率低。因此,设计一种清洗效果较好的研磨装置显得尤为重要。
发明内容
本发明提供一种研磨装置,该装置的清洗效果较好,产品良率较高。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种研磨装置,包括基台,所述基台上设有面板承载面,还包括支架、固定在所述支架上的转轮组件以及包覆在所述转轮组件上且在所述转轮组件动作时可相对于所述基台上的面板运动的研磨带,其中:
所述支架沿平行于所述面板承载面的方向可移动地安装于所述基台;
所述研磨带上与所述面板相对的部分与所述面板平行;
所述转轮组件的转动中心轴相平行、且与所述支架的移动方向相平行。
在上述研磨装置中,支架沿平行于面板承载面的方向移动,转轮组件带动研磨带相对面板运动,在面板与研磨带相接触的区域,面板上的杂质从面板上转移到研磨带上,并随研磨带一起运动以清洁面板,由于支架沿平行于面板承载面的方向移动、且研磨带上与面板相对的部分与面板平行能够保证研磨带能够与整个面板相接触,减少了研磨盲区,而研磨带能够在转轮组件的带动下相对于面板移动使得总有洁净的研磨带与面板相接触,以获得较好的清洗效果,使得产品良率较高。
优选地,所述转轮组件包括三角架、枢装在所述三角架角端的主动轮、从动轮以及张紧轮,其中:
所述主动轮、从动轮以及张紧轮的转动中心轴相平行、且与所述支架的移动方向相平行;
所述研磨带包覆在所述主动轮、从动轮以及张紧轮上,且在所述主动轮动作时所述研磨带可相对于所述基台上的面板运动。
优选地,所述从动轮和所述张紧轮的排列方向与所述支架的移动方向相垂直。
优选地,所述主动轮上设有用于驱动所述主动轮绕其转动中心轴转动的驱动装置。
优选地,所述驱动装置为电机。
优选地,所述支架上设有导向孔,且在所述基台上设有与所述导向孔相配合的导向杆。
优选地,所述支架上设有支架电机,所述支架电机用于驱动所述支架沿所述导向杆的延伸方向移动。
附图说明
图1为本发明提供的一种研磨装置的结构示意图;
图2为本发明提供的一种研磨装置中转轮组件的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1所示,一种研磨装置,包括基台1,基台1上设有面板承载面11,还包括支架2、固定在支架2上的转轮组件3以及包覆在转轮组件3上且在转轮组件3动作时可相对于基台1上的面板5运动的研磨带4,其中:
支架2沿平行于面板承载面11的方向可移动地安装于基台1;
研磨带4上与面板5相对的部分与面板5平行;
转轮组件3的转动中心轴相平行、且与支架2的移动方向相平行。
在上述研磨装置中,支架2沿平行于面板承载面11的方向移动,转轮组件3带动研磨带4相对面板5运动,在面板5与研磨带4相接触的区域,面板5上的杂质从面板5上转移到研磨带4上,并随研磨带4一起运动以清洁面板5,由于支架2沿平行于面板承载面11的方向移动、且研磨带4上与面板5相对的部分与面板5平行能够保证研磨带4能够与整个面板5相接触,减少了研磨盲区,而研磨带4能够在转轮组件3的带动下相对于面板5移动使得总有洁净的研磨带4与面板5相接触,以获得较好的清洗效果,使得产品良率较高。
一种优选实施方式中,如图1以及图2所示,转轮组件3包括三角架34、枢装在三角架34角端的主动轮31、从动轮32以及张紧轮33,其中:
主动轮31、从动轮32以及张紧轮33的转动中心轴相平行、且与支架2的移动方向相平行;
研磨带4包覆在主动轮31、从动轮32以及张紧轮33上,且在主动轮31动作时研磨带4可相对于基台1上的面板5运动。
在上述研磨装置中,主动轮31为包覆在其上的研磨带4提供动力以使研磨带4能够相对于面板5运动,张紧轮33为转轮组件3提供张紧力,通过调整张紧轮33相对于主动轮31以及从动轮32的位置以调整包覆在转轮组件3上的研磨带4的张力,进而控制研磨带4与面板5相互接触时的作用力,更好地将杂质从面板5上带离,获得更好的清洁效果。
主动轮31、从动轮32以及张紧轮33的转动中心轴相平行、且与支架2的移动方向相平行保证了支架2沿平行于面板承载面11的方向移动时,转轮组件3能够带动研磨带4相对面板5沿着与支架2移动方向相垂直的方向运动,即研磨带4能够在整个面板5上的运动,而研磨带4与整个面板5的接触避免研磨盲区的产生,清洁的效果较好,使得产品良率较高。
为了保证研磨带4上与面板5相对的部分与面板5平行,具体地,如图1以及图2所示,从动轮32和张紧轮33的排列方向可以与支架2的移动方向相垂直;或者是,从动轮32和主动轮31的排列方向可以与支架2的移动方向相垂直;再或者是,主动轮31和张紧轮33的排列方向可以与支架2的移动方向相垂直;通过保证转轮组件3中两个转轮的排列方向与支架2的移动方向相垂直使得研磨带4上与面板5相对的部分与面板5平行,增大研磨带4与面板5相接触的区域范围,提高了研磨装置的利用率,减少研磨盲区,提高清洁效率。
一种优选实施方式中,主动轮31上设有用于驱动主动轮31绕其转动中心轴转动的驱动装置。具体地,驱动装置为电机。电机为主动轮31提供动力,带动主动轮31转动,进而为包覆在其上的研磨带4提供动力以使研磨带4能够相对于面板5运动。
为了保证支架2能够始终沿平行于面板承载面11的方向移动,一种优选实施方式中,如图1所示,支架2上设有导向孔21,且在基台1上设有与导向孔21相配合的导向杆。在支架2的运动过程中,通过导向孔21与基台1上的导向杆相配合保证了支架2始终沿平行于面板承载面11的方向移动,另一方面,通过一次调整支架2相对于基台1的位置,保证在整个支架2的运动过程中,研磨带4与面板5的相对位置固定,避免因相对位置变化而导致面板5受到损伤,甚至时破损。
具体地,支架2上设有支架2电机,支架2电机用于驱动支架2沿导向杆的延伸方向移动。在支架2电机的驱动下,支架2上的导向孔21与基台1上的导向杆相配合,使得支架2沿着导向杆的延伸方向移动。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (7)

1.一种研磨装置,包括基台,所述基台上设有面板承载面,其特征在于,还包括支架、固定在所述支架上的转轮组件以及包覆在所述转轮组件上且在所述转轮组件动作时可相对于所述基台上的面板运动的研磨带,其中:
所述支架沿平行于所述面板承载面的方向可移动地安装于所述基台;
所述研磨带上与所述面板相对的部分与所述面板平行;
所述转轮组件的转动中心轴相平行、且与所述支架的移动方向相平行。
2.根据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,所述转轮组件包括三角架、枢装在所述三角架角端的主动轮、从动轮以及张紧轮,其中:
所述主动轮、从动轮以及张紧轮的转动中心轴相平行、且与所述支架的移动方向相平行;
所述研磨带包覆在所述主动轮、从动轮以及张紧轮上,且在所述主动轮动作时所述研磨带可相对于所述基台上的面板运动。
3.根据权利要求2所述的研磨装置,其特征在于,所述从动轮和所述张紧轮的排列方向与所述支架的移动方向相垂直。
4.根据权利要求2所述的研磨装置,其特征在于,所述主动轮上设有用于驱动所述主动轮绕其转动中心轴转动的驱动装置。
5.根据权利要求4所述的研磨装置,其特征在于,所述驱动装置为电机。
6.根据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,所述支架上设有导向孔,且在所述基台上设有与所述导向孔相配合的导向杆。
7.根据权利要求6所述的研磨装置,其特征在于,所述支架上设有支架电机,所述支架电机用于驱动所述支架沿所述导向杆的延伸方向移动。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109571236A (zh) * 2019-01-08 2019-04-05 京东方科技集团股份有限公司 一种研磨清洗装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07164302A (ja) * 1993-12-14 1995-06-27 Nippon Steel Corp 研削ベルトの蛇行防止方法
CN202684703U (zh) * 2012-07-09 2013-01-23 重庆大学 适用于航空航天整体叶盘叶片内、外弧面的砂带磨削装置
CN202701967U (zh) * 2012-06-29 2013-01-30 保定风帆精密铸造制品有限公司 一种砂带研磨机辅助研磨装置
CN103495921A (zh) * 2013-09-18 2014-01-08 佛山市杰成自动化设备有限公司 一种自动化打磨设备
CN104275633A (zh) * 2014-08-18 2015-01-14 赵水光 浮动支撑式自动磨料装置
CN105081930A (zh) * 2015-08-12 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 面板抛光装置和面板清洁设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07164302A (ja) * 1993-12-14 1995-06-27 Nippon Steel Corp 研削ベルトの蛇行防止方法
CN202701967U (zh) * 2012-06-29 2013-01-30 保定风帆精密铸造制品有限公司 一种砂带研磨机辅助研磨装置
CN202684703U (zh) * 2012-07-09 2013-01-23 重庆大学 适用于航空航天整体叶盘叶片内、外弧面的砂带磨削装置
CN103495921A (zh) * 2013-09-18 2014-01-08 佛山市杰成自动化设备有限公司 一种自动化打磨设备
CN104275633A (zh) * 2014-08-18 2015-01-14 赵水光 浮动支撑式自动磨料装置
CN105081930A (zh) * 2015-08-12 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 面板抛光装置和面板清洁设备

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109571236A (zh) * 2019-01-08 2019-04-05 京东方科技集团股份有限公司 一种研磨清洗装置

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