CN105940323B - 用于显示器照明的激光特征玻璃 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及具有位于基板表面上的或位于所述基板内的激光诱发散射特征的基板,以及制作此散射基板的方法。所公开的散射基板提供改善光提取性质并可用于各种应用,例如照明与电子显示器。
Description
本申请依据35U.S.C.§主张2014年1月29日提出的美国临时申请第61/933,064号的优先权权益,该临时申请的内容是本申请的基础,并且该临时申请的全文以引用的方式并入本文。
技术领域
本发明涉及具有在片材内的激光诱发特征的玻璃片材,以及制作此玻璃片材的方法。所公开的玻璃片材提供改善光提取性质并有用于各种应用,例如照明与电子显示器。
背景技术
对新类型电子显示器(例如LCD式显示器)的需求导致一直需要改进并入这些装置中的技术。例如,在已知LCD背光单元(BLU)中,光以高角度从光导提取,并且使用多散光器和转向(亮度加强)薄膜达成显示器所需的期望角度发射。这些膜不仅会增加成本、光耗损和系统复杂程度,也有若干材料缺陷而使其在电子设备方面的使用较不理想。现今聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光导具有高透明度,但因不良的模塑性而限制于使用在小型装置中,并且PMMA具有高吸湿性,导致在大型尺寸中不期望的机械表现(例如,翘曲以及材料膨胀)。其他聚合物、聚碳酸酯(PC)以及环烯烃共聚物(COP),通常由于较佳的模塑性与较少的吸湿性而用于手持装置,但受高光衰减。
另外,即便克服现今设计用于背光提取的材料、技术和工程困难,但是由于这些聚合物材料是不透明的,因此对于下一代透明显示器而言并不理想。显然,需要具有高透明度改进背光,所述改进背光也近乎垂直于光导来发射光,这不但使透明显示器成为可能,也简化了已知的显示器中的BLU堆栈。所公开的玻璃片材提供这些优点,并相较于PC与COP具有较佳衰减,同时维持良好机械表现属性,例如低CTE、低至无水份吸收以及较高尺寸稳定度。
发明内容
本发明涉及一种散射基板,包括:具有从约0.2mm至约3mm厚度的基板,其中可选地,所述基板包括小于100ppm的铁化合物;位于所述基板内的散射特征,其中所述散射特征包括具有从约5μm至约100μm直径的所述基板的改性区域,并且当测量所述基板的改性区域的边缘至边缘时,散射特征以至少约5μm相隔;以及可选地,其进一步包括以下一或多个:一或多个表面特征;一或多个聚合物膜;一或多个无机物膜;或者一或多个掩模或过滤器。在一些实施方式中,所述基板包括玻璃基板或玻璃陶瓷基板,所述玻璃或所述玻璃陶瓷可选地经化学或热回火,例如离子交换玻璃基板。在基板为化学或热回火玻璃或玻璃陶瓷的情况中,散射特征可约束在玻璃基板的中央张力区域中。
在一些实施方式中,散射特征具有从约10μm至约50μm的直径。在某些实施方式中,当测量基板的改性区域的边缘至边缘时,散射特征以至少约10μm相隔。在一些实施方式中,散射基板示出如由成像球体/视角仪器测量散射基板测量的从约40°至约60°的峰值视角。在一些实施方式中,当,散射基板具有如由CIE 1931标准测量的约0.015的x以及约0.02的y的角度色移。
在一些实施方式中,散射特征包括玻璃基板的改性区域,所述改性区域包括约1μm至约10μm直径的熔化区域以及在所述熔化区域附近的一或多个裂缝。在一些实施方式中,可选的一或多个表面特征包括微米特征、次微米特征、皮米尺度特征或纳米尺度特征。在一些实施方式中,所述一或多个表面特征在玻璃表面中或在玻璃表面上。此类特征可经由玻璃表面改性或通过涂层玻璃产生。
第二方面包括一种电子装置,所述电子装置包括任何上述散射基板。在一些实施方式中,所述装置包括显示器。在一些实施方式中,显示器的对角大于60”。
第三方面包括一种制作任何上述散射基板的方法。在一些实施方式中,所述方法包括:a)提供具有从约0.2mm至约3mm厚度的基板,其中可选地,所述基板包括小于约100ppm的铁化合物;以及b)通过将脉冲激光对焦于基板中来照射基板,以在基板内形成一或多个散射特征;其中i)激光峰值功率必须足以形成一或多个散射特征;ii)当测量玻璃基板的改性区域的边缘至边缘时,散射特征以至少约10μm相隔;以及c)可选地,其进一步包括以下一或多个:i)一或多个表面特征;ii)一或多个聚合物膜;iii)一或多个无机物膜;或iv)一或多个掩模或过滤器。基板可以包括玻璃或玻璃陶瓷,另外,可以将玻璃基板或玻璃陶瓷基板热或化学回火。本公开的另外特征和优点在以下详细描述中阐明,并且部分将由本领域的技术人员从描述中清楚,或通过实践如本文所述的包括以下详细描述、权利要求书和附图的本公开来认识。
将权利要求书以及摘要并入并且构成以下阐明的具体实施方式的部分。
本文所引述的所有公开刊物、文章、专利、公开专利申请等等以,其全文以引用的方式并入本文中,包括美国专利申请公开案以及和美国临时专利申请。
附图简述
图1是由于基板整体中的激光诱发散射特征造成的光提取的示意图;
图2是LCD面板中的像素结构的实例。黑色矩阵面积阻挡高达70%来自背光的光入射;
图3是特征深度与脉冲能量的比较研究。图像利用边缘照明配置中的LED照亮,以示出光提取。三个区域使用不同脉冲能量制作。通过对焦于不同深度处在每一区域中形成有五个光带;后表面(顶部)、进入玻璃3/4深度、进入玻璃1/2深度、进入玻璃1/4深度、前表面(底部);
图4以图形来示出雾度(haze)与透射度如何与激光诱发散射特征的间距有关;
图5比较以90°的光提取与散射特征位置以及与散射特征间距;
图6比较在四个不同散射特征间距(50、60、70及80μm)的亮度与视角。所有情况中的峰值强度出现在约55度。由于特征密度以及离边缘的距离,亮度随间距而变化;
图7示出作为视角的函数的红色、绿色和蓝色亮度。在10μm×70μm特征间距下进行测量。该图示出视角在色彩间一致;
图8A和图8B为从含散射中心的玻璃片材提取的光的色彩空间的图。示出10μm×60μm间距(图8A)以及10μm×70μm间距(图8B)的样品。视角图各处的多个随机点被采样,以便在色彩空间色度图上产生小的范围。图表上x’s的位置指示出白光提取值;
图9是示出玻璃样品上的光提取图,其中样品的一部分包括具有梯度间距的激光诱发特征的区域,并且描绘有特征的区域上的近乎平坦的提取率;
图10是散射特征的光学显微镜图像。每一特征是由径向的微“裂缝”包围的2至3μm直径的特征构成;
图11示出如与无特征的对照玻璃相比,具有散射特征(20μm×20μm以及40μm×40μm)的玻璃的环上环(ring on ring;ROR)强度测试。在2”×2”玻璃基板上制作每组30个样品。测试结果中的增加的形状值示出强力单一模式破坏,并且指出强度减少大约50%。
具体实施方式
本发明可通过参考以下详细说明、附图、实例、权利要求书以及其前述或以下描述更容易地理解。然而,在公开或描述本申请的组成、制品、装置和方法前,应当理解,除非另外指明,本发明不限于所公开的特定组成、制品、装置和方法,因此当然可有变化。还应理解,本文所用术语仅为描述特定方面目的,并不作为限制。
本公开的以下描述在其现今已知实施方式中提供作为本发明的可实施的教示。为此目的,本领域的技术人员可认识并了解可对本文所述本发明的各种方面做出许多修改,同时仍然获得本发明的有益结果。也将显而易见的是,可通过选择本发明的某些特征而不利用其他特征来获得本发明的某些期望益处。据此,本领域的技术人员将认识到本发明的许多修改与改造是可能的,并且在某些情况中甚至是希望的,并为本公开一部分。因此,提供以下描述作为本发明原理的说明,但不作为本发明的限制。
所公开的材料、化合物、组成和组分可用于所公开的方法和组成、可用来与所公开的方法和组成关联、可用于制备所公开的方法和组成,或者是所公开的方法与组成的实施方式。这些以及其他材料在本文中公开,并且应当理解,当公开这些材料的组合、子集、相互作用、群组等等、但并未明确地公开各个不同的个体与集体组合的特定参考以及这些化合物的变化时,各者已具体地考虑并描述于本文。
因此,如果公开取代物A、B和C类与取代物D、E和F类,以及公开组合实施方式的实例A-D,那么就要单独和共同地考虑上述各者。因此,在这个实例中,组合A-E、A-F、B-D、B-E、B-F、C-D、C-E和C-F中的各者被特定地考虑,并且应从A、B和/或C,D、E和/或F、以及实例组合A-D的公开内容视为已公开的。同样,也具体地考虑或公开了这些的子集或组合。因此,例如,A-E、B-F和C-E子群组被具体地考虑,并且应从A、B和/或C,D、E和/或F、以及实例组合A-D的公开内容视为已公开的。此概念应用至本发明的所有方面,包括但不限定于组合物的任何组分以及制造与使用所公开组合物的方法中的步骤。因此,如果存在各种可执行的另外步骤,应当理解,这些另外步骤中的各者可以所公开的方法的任何特定实施方式或实施方式组合执行,并且此类组合各者被特定地考虑,并应视为已公开的。
第一方面包括一种基板,其特征为基板内存在的一或多个激光诱发散射特征。基板可由在所述条件下接受必需的激光改性的任何材料形成。预见可做为基板的材料包括玻璃基板和玻璃陶瓷基板以及聚合物,例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)以及环烯烃共聚物(COP)。在一些情况中,玻璃或玻璃陶瓷的结构与特性(例如高熔点和高硬度)使其比起用于本文所述工艺的其他材料为较佳基板。
一般而言,虽然不欲坚持特定理论,但是散射特征是经由多光子吸收工艺而形成在基板内。多光子吸收是发生在很高激光光强的非线性的现象。由于在本领域中众所周知,当光子能量hν低于材料吸收带隙EG时,材料是光学透明的。因此,使材料变得可吸收的条件可描述为hν>EG。不过,即使在光学透明条件下,如果光强经由较高阶的模态变得够高,如nhν>EG(n=2、3、4、…)所述,吸收就可发生在材料中。这种非线性的现象称为多光子吸收,并且在脉冲激光情况中,激光强度与激光峰值功率密度(W/cm2)有关(由(每一脉冲激光能量)/(激光射束点截面积×脉冲宽度)确定)。或者,在连续波的情况中,激光光强通过激光电场强度(W/cm2)确定。如本文所述的包括散射特征的基板可经由多光子吸收工艺来形成,其中将一或多个激光对焦到基板中,以便在基板内产生光学损坏。这种光学损坏在基板内诱发扭曲,因而形成散射特征。
本文所述可用于形成散射特征的激光包括脉冲激光系统,所述系统提供足够峰值功率,以便发起基板中的多光子工艺。通常,对于本文所述工艺而言,使用脉冲奈秒激光,不过在一些情况中,皮秒或飞秒激光的使用可证明为有利的。在一些实施方式中,激光脉冲能量可来自于约0.1μJ/脉冲至约1mJ/脉冲,或约1μJ/脉冲至约1mJ/脉冲。焦点尺寸通常为从约~1μm至约10μm的直径以及10~500μm的长度,但是可根据需要来修改。光的波长可为从约300nm至约3000nm的任意值。在一些实施方式中,选择激光波长,以便避免造成着色点或特征,或者特定致使基板、特别是玻璃基板的着色。以UV光(通常处于低于350nm波长)在含特定的化合物(例如铁化合物)的玻璃内形成这种色彩是可能的。在一些情况中,着色可有益于修改色彩输出。或者,在目标为优化白光输出的情形下,该目标将可避免在玻璃中诱发色彩特征。
图1以图形来描述具有光散射特征的基板的实例。基板被发光二极管(LED)照射在侧面,由于高入射角,提供的光经由完全的内反射而主要被传送通过基板。然而,如图所示,当来自LED的光与散射特征相互作用时,光以各种角度散射,并且能够作为在基板上方示出的液晶显示器的背光。
散射特征包括以下基板的改性区:可并入有微裂缝的基板;已熔化并再固化的基板;已经过相变的基板;已经过组成改变的基板;具有改变的无定形或结晶结构的基板;或前述基板的组合。在一些实施方式中,散射特征包括被径向的微裂缝包围的熔化管状区域(图10)(当观察基板平面或观察平行于基板的平面,图10中的平面XZ或平面YZ时)。散射特征可描述为具有直径,其中当由上至下观察基板时(即,正交于最大维度,图10中的平面XY),该直径描绘出被激光改性的基板的粗略圆形区域。散射特征可具有从约5μm至约150μm、约10μm至约120μm、约10μm至约100μm或约20μm至约80μm的直径。在散射特征包括被径向的微裂缝包围的熔化管状区域的情况中,管状区域可具有从约1μm至约20μm或从约3μm至约10μm的直径,并且散射特征(管状区域和微裂缝)可具有从约10μm至约120μm的直径。在一些实施方式中,散射特征具有约10、20、30、40、50、60、70、80、90或100μm的直径。
如上指出,散射特征形成工艺可依赖于非线性光学法,例如通过基板的多光子吸收。由于基板对激光的第一阶模态是透明的,因此在基板本身中对焦射束并且在基板内形成散射特征是可能的。在可能将散射特征放置在基板的一个或两个表面上时,一些实施方式将散射特征并入基板本身中。在激光对焦于基板内部的一些实施方式中,可选择激光能量、功率、脉冲宽度或峰值功率以使得改性区域仅仅形成在基板内,但是不会到达基板表面或对基板表面产生损坏。在此类实施方式中,由于激光向下穿过中段对焦,当在具有基板的平面观察散射特征时,散射特征可以具有管状或更方形或矩形的截面。当以图10的XZ或YZ平面观察时,受影响的基板面积的长度为从约5μm至约150μm、约10μm至约120μm、约10μm至约100μm或约20μm至约80μm。在一些实施方式中,散射特征具有约10、20、30、40、50、60、70、80、90或100μm的直径。
一般而言,基板为具有远大于第三维度(Z)的两个维度(例如X及Y)。此类基板可具有任何可用值的厚度Z。对于许多应用,就美学、减轻重量和成本而言,期望使基板尽可能地薄。不过,基板越薄,通常就越容易断裂。因此,强烈需要薄但仍维持足够强度以避免在使用期间断裂的基板。就此而言,玻璃和聚合物可以具有不同结构优点,聚合物通常不太可能会断裂,但是具有较少结构刚度和强度。在一些实施方式中,基板具有从约3mm至约0.2mm、约2mm至约0.5mm、约1mm至约0.7mm的厚度。在一些实施方式中,基板具有约0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1、2或3mm的厚度。
在玻璃基板情况中,可使用的玻璃组成一般包括可以本领域已知的方法来形成片材的任何组成份,已知方法包括浮法、熔融或其他拉制工艺。特定用途玻璃为碱铝硅酸盐玻璃,例如康宁公司的GORILLA或显示器玻璃,例如康宁公司的EAGLE
由于强度需求,玻璃基板可在经历散射中心并入前化学或热回火。如康宁公司的GORILLA玻璃可以经由本领域已知的离子交换技术化学回火(参见例如美国专利第5,674,790号,其全文以引用方式并入本文)。在使用经离子交换的玻璃基板情况中,将散射特征放入玻璃中心张力区域中是有利的。在一些实施方式中,散射特征位于玻璃基板的中心1/3内。在一些实施方式中,散射特征位于玻璃基板的中心1/5内。
将散射特并入玻璃基板内会使玻璃整体强度下降。在当选择玻璃类型时以及是否应当针对应用考虑回火玻璃中,这个强度减少可为考虑因素。玻璃强度的减少的一个实例在图11中示出,该图示出利用单一破坏模式操作,所测试的非离子交换碱铝硅酸盐玻璃基板具有约50%的强度下降。实验的进一步细节描述于以下实例5中。
基板内散射特征的图案化可为各种形式,例如阵列、几何、随机等等。可通过手动地或经由本领域的技术人员所熟知的所有计算机辅助技术移动激光器或激光射束、基板或两者,更有效地形成图案。基板上散射特征位置或图案化实际上仅受需求限制,即,散射中心要相隔够远以避免实质可造成从一个散射特征至另一散射特征的裂缝传播。在一些实施方式中,散射特征相隔(散射特征的边缘至边缘)从约5μm至约2mm。在一些实施方式中,散射特征相隔(散射特征的边缘至边缘)约5、10、15、20、25、30、40、50、60、70、80、100、150、200、500、1000、2000μm。表1示出散射中心密度,所得的值可作为特征间距的函数。
表1
X | Y | 密度(每cm<sup>2</sup>) |
10μm | 10μm | 1,000,000 |
10μm | 20μm | 500,000 |
10μm | 30μm | 333,333 |
10μm | 40μm | 250,000 |
10μm | 50μm | 200,000 |
10μm | 60μm | 166,667 |
10μm | 70μm | 142,857 |
10μm | 80μm | 125,000 |
10μm | 90μm | 111,111 |
10μm | 100μm | 100,000 |
图2示出LCD色彩阵列的实例。所述阵列包括图素(picture element,“A”),图素包括红、绿和蓝像素(pixel,“B”)。此外,像素被黑色网格分隔开,黑色网格在传统背光应用中可阻挡或吸收如70%这么多的入射光。由于各个单独提取特征发射的光直接照亮特定RGB子像素,因此通过将散射特征放置成对准透明RGB子像素,可发射更多光。这样精确放置散射特征通过最小化被边界区域阻挡的提取光,增加照明效能,这直接转变为在显示器中降低能量消耗和/或电池寿命。
相较于从基板提取光的替代方法,通过将散射特征并入基板所形成的散射基板示出若干优点。首先,相较于已知图案化背光单元(BLU)光导和传统工艺中的其他蚀刻工艺,光是在更高角度被提取(下述图6和图7)。另外,激光诱发特征直接在基板中产生,而其他技术则涉及将墨水或聚合物层施加至玻璃上,这通常使玻璃包括图案。据此,在一些实施方式中,无需将单独光提取层材料至施加基板就可生产基板。在基板为玻璃基板情况中,在玻璃基板中的图案化保留所有玻璃系统以下属性:(1)熔融-拉制玻璃表面的低粗糙度;(2)低H2O吸收;(3)低CTE以及无CTE失配问题;(4)高尺寸稳定性;(5)较高刚度;(6)较高Tg;以及(7)低厚度变化。
另一方面,可将散射基板并入电子装置(例如平板、智能型手机或者电视机或计算机的显示器)作为背光。在此类实施方式中,散射特征可并入有一或多个另外修改,以便改善其可应用性。
在一些情况或阵列结构中,光散射特征可在显示器中产生较亮区与较暗区的“划线(lining)”或线。为了校正这种划线,可将散射基板上的一个或两个表面改性。这些改性可以包括,例如,一或多个聚合物膜或无机物膜、聚合物掩模或无机掩模,或者纹理化、改性或粗糙化基板表面。在散射基板表面改性情况中,一些实施方式涉及形成具有奈米尺度或皮米尺度特征的次微米结构的表面。在一些实施方式中,散射基板还进一步包括提供另外光散射特性的奈米结构表面。可通过本领域的任何已知工艺来形成这些特征,所述已知工艺包括负或移除工艺(例如蚀刻)以及正或添加工艺(例如涂层)。另外,这些特征可随机地放置在表面上或可以组织或排列的方式放置,以对玻璃中的散射特征进行补充。
在一些实施方式中,玻璃组成可在散射光的色彩组成方面具有影响。这在不均匀的色彩散射可根据与输入LED的距离来致使输出光的色彩改变的大型的显示器中尤其重要。在色彩组成是关键的实施方式中,可选择玻璃基板最小化基板中的在近可见光区域中吸光的化合物。这样的化合物包括但不限于铁化合物、硫化合物、锰化合物、铜化合物、镍化合物、铬化合物等等。
当在显示器应用中用作背光时,射入基板的光在被散射出散射基板的面前,可以行进通过显著量的材料。在一些情况中,选择使光吸收最小化的玻璃组成份是有利的。在此类情况中,具有很低浓度的过渡金属(例如铁和铬)的玻璃基板可以提供优越的透射度。在一些实施方式中,玻璃基板包括低铁玻璃,并且在一些实施方式中,玻璃包括少于50ppm的铁氧化物,或少于20ppm的铁氧化物,例如FeO以及Fe2O3。
实例
实例1–使用355nm的奈秒脉冲Nd:YAG激光器产生本文所述激光诱发光散射特征。使用30mm的有效焦距将激光在非离子交换碱铝硅酸盐玻璃内部对焦成2~3μm的点尺寸,以便在玻璃内产生散射光的损坏点。当在实验中使用非离子交换碱铝硅酸盐玻璃时,玻璃的吸收性与此工艺无关,从而允许将使用允许内部对焦的任何玻璃。在焦点处,激光器的每一脉冲的几乎所有的功率都被玻璃吸收,以便形成看起来直径大约2~3μm的管状熔化区域。在一些实例中,激光强度使得除了形成融化区域之外,在周围玻璃结构中形成高应力和位移玻璃区域。此应力可导致在管状物周围的所有方向上形成径向的“微裂缝”(请参考图10,其中微裂缝约20μm)。
有趣的是,虽然在被照射到时高度散射,但是散射特征在未被照射时几乎透明;并且在未被照射时产生最小量的雾度。这种现象在图4以及下表2中示出,图4比较雾度(Y轴)与透射度(Y轴)对散射特征间距(X轴)。
表2
散射特征间距(μm) | 透射度(%) | 雾度(%) |
10 | 89.5 | 37.3 |
20 | 91.3 | 20.2 |
25 | 92.8 | 14.3 |
30 | 93.3 | 11.7 |
40 | 93.7 | 9.0 |
50 | 94.0 | 7.4 |
60 | 94.1 | 6.3 |
70 | 94.3 | 5.4 |
80 | 94.4 | 4.7 |
90 | 94.5 | 4.2 |
100 | 94.6 | 3.8 |
实例2–散射特征以10μm×100μm相隔置于基板背表面上、进入玻璃3/4深度、进入玻璃1/2深度、进入玻璃1/4深度以及前表面上(图3),以便示出表面附近对光提取所具有的效果。以不同脉冲能量(在图3中由上到下为150mW、200mW和400mW)来制作三个0.7mm散射基板以及如指出的五个深度(背表面(示出于图3中的基板的顶部)、525μm深、350μm深、175μm深、前表面(示出于图3中的基板的底部))。
实例3–衰减的测量是通过将光射入玻璃边缘,然后测量以90°辐射出来的量对离光射入点的距离。在特征最高密度(10μm×10μm,1,000,000点/cm2)下,所有光以~50mm提取在玻璃内。下一个密度的样品(20μm×10μm,500,000点/cm2),所有光以~80mm提取在玻璃内。当密度降低时,靠近光入射的玻璃边缘所提取的光量也会降低,而离玻璃边缘较远的可得光量增加(参见图5,该图示出10、20、25、30、40、50、60、70、80、90和100μm×10μm密度的散射特征,绘为光强(W)对离光射入的边缘位置的距离(mm))。可使用这样的提取率来确定正确密度梯度,所述正确密度梯度为用于单侧面或双侧面光射入或其他期望的图案化的均匀照射所需要的。
基于衰减数据,可配置特征梯度以提取遍及0.7非离子交换碱铝硅酸盐玻璃的2”×2”面积的均匀光量。从样品收集衰减数据以示出近乎均匀梯度的光提取。特征密度在光入射边缘开始于207,000点/cm2,并且在远侧边缘处结束于73,000点/cm2。从样品收集衰减数据以示出近乎均匀梯度的光提取(图9)。如上提及,光提取的梯度可受点密度或激光功率影响。
实例4–使用Radiant ZEMAX IS/VATM(成像球体/视角)仪器测量视角与亮度(图6和图7)以及色移(图8A和图8B)。成像球体为在半球上具有CCD式亮度计或色度计的涂层、漫射、低反射半球体,并且面对照明源(例如LED、散射基板等等)附近的球体基部上的凸镜。该源照射半球的内表面,并且该镜允许检测器来观察实质所有2π球面度输出。
使用Radiant ZEMAX IS/VATM仪器,实例散射基板示出约57度的最大视角与0.7Cd/cm2最大值(7000Nits)(图6)。个别地进行红、绿、蓝的亮度测量(图7)。使用CIE三色刺激计算法手动计算色移,并且使用60μm及70μm散射特征间距的三色刺激值以图形来例示色移(分别为图8A和图8B)。CIE1931x值的范围自0.310至0.314,恰好落在工业指南的0.313+/-0.005内。CIE 1931y值的范围从0.306至0.309,略微低于工业指南的0.329+/-0.005。不过,从显示器发射出的红、绿、蓝光的实际量通常通过色彩掩模校正。
实例5–如示出于特征的0.7mm非离子交换碱铝硅酸盐玻璃的环上环强度测试,通过激光特征化工艺冲击玻璃基板强度(图11)。形状值从对照组样品的1.591增加至20μm×20μm相隔的特征的7.118以及40μm×40μm相隔的特征的5.061,从而指示单一开裂模式。尺度值从对照组样品的188.5减少至20μm×20μm相隔的特征的84.91以及40μm×40μm相隔的特征的70.16,从而指示出强度下降超过50百分比。尽管这些值看上去指出显著强度下降,在显示装置的内部用作背光单元并容纳在机械结构内的玻璃相较于覆盖玻璃可具有减少强度要求。另外努力(例如回火(tempering))可利用来在形成散射位置后增加样品强度,因此这种强度下降可以后处理来改善。
实例6–低损耗、高度透明的玻璃(例如超低铁玻璃–例如少于50ppm或少于20ppm的铁氧化物)对散射基板应用而言是理想的,这是因为其高透射度和较少色移。然而,测量此玻璃的损失可为一大挑战,特别是在基板已由激光诱发特征改性的情况下。在散射基板包括具有两个面和至少两个相反边缘的片材的情况中,经由以下工艺测量损失是可行的:
1)采用准直、超宽带光谱激光源,并将射束分成参考射束和实验射束。将参考射束发送到耦接至光谱仪的积分球,以用作来源频谱形状的参考。将实验射束(仍准直的)发送以通过散射基板的薄边缘,通过基板中的无散射特征存在的地方,并从基板相反边缘射出。路径长度可为整片基板,或者可为该玻璃的“试样(coupon)”或小部分,例如500mm的玻璃。所射出的射束耦合到耦接至第二光谱仪第二积分球中;
2)根据从参考射束与实验射束获得的波长而变化的强度比率提供玻璃内(in-glass)的信号测量。波长范围可以遍及整个激光范围,或者可针对例如450~800nm的子区域;
3)将样品旋转90度,并且发送实验射束行进通过基板的一个面并由第二面射出(同样,没有散射特征存在),然后将这个实验射束耦合到耦接至第二光谱仪的第二积分球中。重复步骤2)以提供贯通玻璃(thru-glass)的信号测量;
4)玻璃内的信号对贯通玻璃信号的比率提供对因路径引起的损耗的测量并且补偿该玻璃的反射表面;以及
5)损失的dB可由步骤4)中计算出的比率计算,并且可从所述损失来确定透射度。损失可以dB/米计算(假设以米进行距离量测),例如,依据方程式:-10Log(玻璃内的信号强度/贯通玻璃信号强度)/(玻璃内的信号传播距离-贯通玻璃信号传播距离)。可计算穿过500mm以百分比表示的透射系数,例如使用方程式100.10-(dB/米损失)/20。
当使用上述工艺测量时,低损失玻璃散射基板可具有大于90、92、94或96%的透射度。
虽然已参考特定的方面和特征来描述本文中的实施方式,但应理解,这些实施方式仅仅用于例示期望的原理和应用。因此,应当理解,在不背离随附权利要求书的精神和范围的情况下,可对所例示的实施方式进行许多修改,并且可设计出其他配置。
Claims (19)
1.一种散射基板,包括:
a.玻璃基板,具有从0.2mm至3mm的厚度,其中所述玻璃基板包括小于100ppm的含铁化合物;以及
b.散射特征,定位于所述玻璃基板内,其中:
i)所述散射特征包括具有从5μm至100μm直径的所述玻璃基板的改性区域,其中所述改性区域包括1μm至10μm直径的熔化区域以及在所述熔化区域附近的一或多个裂缝,或者所述改性区域包括1μm至10μm直径的其中所述玻璃基板中的空隙已形成的空隙区域以及在所述空隙区域附近的一或多个裂缝;以及
ii)当测量所述玻璃基板的所述改性区域的边缘至边缘时,所述散射特征以至少5μm相隔。
2.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,进一步包括以下一或多个:
i)一或多个表面特征;
ii)一或多个聚合物膜;
iii)一或多个无机物膜;或者
iv)一或多个掩模或过滤器。
3.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,所述散射特征的密度从所述基板的光入射边缘到远离所述光入射边缘的位置降低。
4.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,所述玻璃基板包括热或化学回火玻璃基板。
5.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,所述散射特征具有从10μm至50μm的直径。
6.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,当测量所述玻璃基板的所述改性区域的边缘至边缘时,所述散射特征以至少10μm相隔。
7.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,所述玻璃基板示出如由成像球体和/或视角仪器测量的从40°至60°的峰值视角。
8.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,所述玻璃基板具有如以CIE 1931标准测量的0.015的x以及0.02的y的角度色移。
9.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,所述玻璃基板包括离子交换玻璃基板。
10.根据权利要求2所述的散射基板,其特征在于,所述一或多个表面特征为微米、次微米或纳米尺度特征。
11.根据权利要求2所述的散射基板,其特征在于,所述一或多个表面特征在所述玻璃的表面中或在所述玻璃的表面上。
12.根据权利要求1所述的散射基板,其特征在于,所述玻璃基板包括小于50ppm的含铁化合物。
13.根据权利要求12所述的散射基板,其特征在于,所述玻璃基板包括小于20ppm的铁氧化物。
14.根据权利要求12所述的散射基板,其特征在于,当测量路径长度为500mm时,所述玻璃基板具有从450nm至800nm大于90%的透射度。
15.一种电子装置,包括根据权利要求1所述的散射基板。
16.根据权利要求15所述的电子装置,其特征在于,所述装置包括显示器,所述显示器具有从4:3至16:9的宽高比。
17.根据权利要求16所述的电子装置,其特征在于,所述显示器具有55”或更大的对角长度。
18.一种形成根据权利要求1、3至9和12至14中任一项所述的散射基板的方法,包括以下步骤:
a)提供具有从0.2mm至3mm厚度的玻璃基板,其中所述玻璃基板包括小于100ppm的含铁化合物;以及
b)通过将脉冲激光对焦于所述玻璃基板中来照射所述玻璃基板,以便在所述玻璃内形成一或多个散射特征;其中
i)所述激光的峰值功率必须足以形成所述一或多个散射特征;
ii)当测量所述玻璃基板的所述改性区域的边缘至边缘时,所述散射特征以至少5mm相隔。
19.一种形成根据权利要求2、10和11中任一项所述的散射基板的方法,包括以下步骤:
a)提供具有从0.2mm至3mm厚度的玻璃基板,其中所述玻璃基板包括小于100ppm的含铁化合物;
b)通过将脉冲激光对焦于所述玻璃基板中来照射所述玻璃基板,以便在所述玻璃内形成一或多个散射特征;其中
i)所述激光的峰值功率必须足以形成所述一或多个散射特征;
ii)当测量所述玻璃基板的所述改性区域的边缘至边缘时,所述散射特征以至少5mm相隔;以及
c)进一步提供以下一或多个:
i)一或多个表面特征;
ii)一或多个聚合物膜;
iii)一或多个无机物膜;或者
iv)一或多个掩模或过滤器。
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