JP2019520609A - 微細構造化およびパターン付けされた導光板およびそれを含むデバイス - Google Patents

Abstract

本明細書に開示されるのは、縁端表面と、発光する第１の主表面と、反対側の第２の主表面とを有する、透明基板；および透明基板の第２の主表面に配置されるポリマー薄膜であって、複数の光抽出形体をパターン付けされた複数の微細構造を含むポリマー薄膜を含む、導光板である。少なくとも１つの光源が、透明基板の縁端表面に連結されることがある。そのような導光板を含むディスプレイデバイスおよび照光デバイス、ならびにそのような導光板を製造するための方法が、さらに開示される。

Description

関連出願の相互参照

この出願は、内容が本明細書に依拠され参照によりその全体を組み込まれている、２０１６年６月１０日出願の米国仮特許出願第６２／３４８，３８６号の米国特許法第１１９条下の優先権の利益を請求するものである。

本開示は概して、導光板、およびそのような導光板を含むディスプレイデバイスまたは照光デバイスに関し、さらに具体的には、複数の光抽出形体をパターン付けされた微細構造化されたポリマー薄膜を含むガラス導光板に関する。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は、様々な電子機器、例えば携帯電話、ラップトップ、電子タブレット、テレビ、およびコンピューターモニターなどに通例使用される。しかし、ＬＣＤは、明るさ、コントラスト比、効率、および視野角の観点からは、他のディスプレイデバイスに比べて制限がある場合がある。例として、他のディスプレイ技術と競合するために、従来のＬＣＤでは、より高いコントラスト比、色域、および明るさの需要が継続的にあるが、一方でまた、所要電力とデバイスサイズ（例えば厚さ）とのバランスが取られている。

ＬＣＤは、光を生じるためのバックライトユニット（ＢＬＵ）を含むことができ、次いで、この光は、変換、フィルタリング、および／または偏光されて、所望の画像を生じることができる。ＢＬＵは、例えば導光板（ＬＧＰ）の縁端に連結された光源を含んで、縁端から照光されることもあれば、例えばＬＣＤパネルの背後に配置された光源の２次元アレイを含んで、後部から照光されることもある。直接照光型のＢＬＵは、縁端照光型のＢＬＵに比べて、ダイナミックコントラストが向上するという利点を有することがある。例えば、直接照光型のＢＬＵを備えたディスプレイは、各ＬＥＤの明るさを独立して調整して、画像じゅうの明るさのダイナミックレンジを最適化することができる。このことは、局所減光として通例知られる。しかし、直接照光型のＢＬＵでは、所望の光の均一性を達成するために、および／またはホットスポットを避けるために、光源（複数可）がＬＧＰから距離をおいて配され、ゆえに全体のディスプレイの厚さは、縁端照光型のＢＬＵのそれよりも大きいものとなることがある。旧来の縁端照光型のＢＬＵでは、各ＬＥＤからの光を、広範囲のＬＧＰにわたって広げることができ、そのため、個々のＬＥＤまたはＬＥＤの群をオフにすることは、ダイナミックコントラスト比に最小限の影響を及ぼすに過ぎない。

ＬＧＰの局所減光効率は、例えば、ＬＧＰ表面に１つまたは複数の微細構造を付与することによって増強することができる。例として、プラスチックＬＧＰ、例えばポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）ＬＧＰ、またはメタクリル酸メチル・スチレン（ＭＳ）ＬＧＰなどは、狭い帯域内に各ＬＥＤからの光を制限し得る表面の微細構造を付して製作することができる。このようにして、ＬＧＰの縁端に沿って光源（複数可）の明るさを調整し、ディスプレイのダイナミックコントラストを増強することが可能となることがある。ＬＥＤをＬＧＰの両側２つに取り付けた場合、そのＬＥＤ対の明るさを調整して、ダイナミックコントラストをさらに向上し得る照度の帯域に沿った明るさの勾配を生じることができる。

微細構造をプラスチック材上に付与するための方法としては、例えば、射出成型、押出加工、および／またはエンボス加工を挙げることができる。これらの手法は、プラスチックＬＧＰではうまく働くことがある一方で、ガラスＬＧＰでは、そのより高いガラス遷移温度および／またはより高い粘度のために適合しないことがある。しかし、ガラスＬＧＰは、例えばその低い光減衰、低い熱膨張係数、および高い機械的強度の点で、プラスチックＬＧＰを超える様々な改善をもたらすことがある。そのため、プラスチックに付随する様々な欠点を克服するためには、ＬＧＰ用の構築の代替材としてガラスを使用することが望ましいことがある。例として、その比較的弱い機械的強度および／または低い剛性のために、現在の消費者の需要を満たすのに充分に大きくかつ薄いプラスチックＬＧＰを作製することが難しい場合があり得る。プラスチックＬＧＰはまた、高い熱膨張係数があり、この係数が光学的なカップリング効率を低減するおよび／またはより大きなディスプレイベゼルを必要とする場合があるために、光源とＬＧＰとの間にさらに大きな間隙を必要とすることがある。さらに、プラスチックＬＧＰは、ガラスＬＧＰに比べて、湿気を吸収し膨張する傾向をより高く有することがある。

したがって、局所減光効率の向上したガラスＬＧＰ、例えば、その少なくとも１つの表面に微細構造を有するガラスＬＧＰを提供することが有利となろう。また、微細構造を有するＬＧＰ表面および／または光抽出形体を提供するための、単純なおよび／またはコスト効率の良い方法を提供することが有利となろう。さらに、縁端照光型のＢＬＵと同様の薄さを有するバックライトを提供するとともに、後部照光型のＢＬＵと同様の局所減光能をも提供することが有利となろう。

本開示は、様々な実施形態で、縁端表面と、発光する第１の主表面と、反対側の第２の主表面とを有する、透明基板；および透明基板の第２の主表面に配置されるポリマー薄膜であって、複数の光抽出形体をパターン付けされた複数の微細構造を含むポリマー薄膜、を含む導光板に関する。また、本明細書に開示されるのは、少なくとも１つの光源に光学的に連結された本明細書に開示されるような導光板を含む導光アセンブリ、ならびにそのような導光板およびアセンブリを含むディスプレイデバイス、電子デバイス、および照光デバイスである。

実施形態によっては、導光板は、約０．０１５未満の色シフトΔｙを有することがある。様々な実施形態によれば、透明基板は、ガラス基板であることがあり、それは例として、５０から９０モル％のＳｉＯ_２、０から２０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０から２０モル％のＢ_２Ｏ_３、０から２５モル％のＲ_ｘＯを含むガラス組成物を含み、式中、ｘは１または２であり、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、およびそれらの組合せである。追加の実施形態では、透明基板は、約１ｐｐｍ未満のＣｏ、Ｎｉ、およびＣｒのそれぞれを含むことがある。透明基板の厚さは、約０．１ｍｍから約３ｍｍに及ぶことがあるのに対して、ポリマー薄膜の厚さは、約１０μｍから約５００μｍに及ぶことがある。

ある特定の実施形態では、ポリマー薄膜は、ＵＶ硬化性または熱硬化性のポリマーを含むことがあり、このポリマーは、ガラス基板の発光表面に成型されることがある。ポリマー薄膜は、例えば、プリズムを含む周期的または非周期的な微細構造アレイ、丸いプリズム、またはレンチキュラレンズを含むことがある。微細構造のアスペクト比は、例えば、約０．１から約３までに及ぶことがある。非限定的な実施形態によれば、複数の光抽出形体は、三角形、台形、または放物線状の横断面を有することがある。光抽出形体は、約１００μｍ未満の少なくとも１つの寸法を有することがある。

さらに本明細書に開示されるのは、導光板を形成するための方法であり、この方法は、ポリマー材の層を透明基板の表面に適用すること、およびポリマー材を成形して、複数の光抽出形体をパターン付けした複数の微細構造を生じることを含む。様々な実施形態によれば、この方法は、透明基板の発光表面の反対側の主表面にポリマー材の層を適用することを含むことがある。ある特定の実施形態では、ポリマー材の層は、スクリーン印刷によって適用されることがある。ポリマー材を成形することは、例えば微細複製、ＵＶエンボス加工、熱エンボス加工、または高温エンボス加工によって実施されることがある。本明細書に開示される方法は、成形型を形成するための１つまたは複数のステップをさらに含むことがある。ポリマー材を成形するステップは、成形型をポリマー材の層に適用することを含むことがある。

本開示の追加の特長および利点は、以下に続く詳細な記載に明示されるものとなり、部分的には、その記載から当業者に容易に明らかとなるか、または以下に続く詳細な記載、特許請求の範囲、ならびに添付の図面を含めた本明細書に記載されるような方法を実践することによって認識されることになる。

前述の一般記載と以下の詳細な記載との両方が、本開示の様々な実施形態を呈示し、特許請求の範囲の本質および特徴を理解するための概要または枠組みを提供することを意図するものであることを認識されたい。付随する図面は、本開示のさらに進んだ理解を提供するために含まれており、この明細書内に組み込まれ、この明細書の一部を構成する。図面は、本開示の様々な実施形態を例証し、記載と併せて、本開示の原理および運用を説明するのに役立つ。

以下の詳細な記載は、以下の図面と併せて読む際にさらに理解することができる。

本開示の様々な実施形態による、光抽出形体をパターン付けされた例示的な微細構造化表面を説明する図である。 本開示の様々な実施形態による、光抽出形体をパターン付けされた例示的な微細構造化表面を説明する図である。 本開示のある特定の実施形態による導光アセンブリを説明する図である。 例示的な微細構造の断面を説明する図である。 例示的な微細構造の断面を説明する図である。 例示的な微細構造の断面を説明する図である。 例示的な微細構造の断面を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示の非限定的な実施形態による、微細構造化薄膜を形成し、微細構造化薄膜をパターン付けするための方法を説明する図である。 本開示のいくつかの実施形態によって形成された光抽出形体のトポグラフ画像である。 本開示のいくつかの実施形態によって形成された光抽出形体のトポグラフ画像である。 本開示のいくつかの実施形態によって形成された光抽出形体のトポグラフ画像である。 本開示のある特定の実施形態によって形成された光抽出形体の断面図である。 本開示のある特定の実施形態によって形成された光抽出形体の断面図である。 本開示のある特定の実施形態によって形成された光抽出形体の断面図である。 微細構造化表面と印刷された表面とを含む、例示的な導光板を説明する図である。 本開示の実施形態による、複数の光抽出形体をパターン付けされた微細構造化表面を含む導光板を説明する図である。 本開示の実施形態による、複数の光抽出形体をパターン付けされた微細構造化表面を含む導光板を説明する図である。 様々な導光板について光ビームの幅を描く図である。 様々な導光板について光ビームの幅を描く図である。 様々な導光板について光ビームの幅を描く図である。 様々な導光板について光ビームの幅を描く図である。 様々な導光板について光ビームの幅を描く図である。 図９Ａから図９Ｅの配置構成について光源の中心からの距離の関数として、正規化された光束に関するグラフ図である。

導光板
本明細書に開示されるのは、縁端表面と、発光する第１の主表面と、反対側の第２の主表面とを有する、透明基板；および透明基板の第２の主表面に配置されるポリマー薄膜であって、複数の光抽出形体をパターン付けされた複数の微細構造を含むポリマー薄膜、を含む導光板である。また、本明細書に開示されるのは、少なくとも１つの光源に光学的に連結された本明細書に開示されるような導光板を含む導光アセンブリである。また、そのような導光部を含む様々なデバイス、例えばディスプレイデバイス、照光デバイス、および電子デバイスなども本明細書に開示され、そのようなものとしては例えば、ごく一部を挙げれば、テレビ、コンピューター、電話、タブレット、および他のディスプレイパネル、照明器具、ソリッドステート照明、掲示板、および他の建築部材がある。

導光板およびそれらの製造方法の例示的な実施形態を図説する図１から図１０を参照して、本開示の様々な実施形態がこれより議論される。以下の一般記載は、特許請求の範囲にあるデバイスの概要を提供することを意図するものであり、様々な態様は、本開示を通じて、描図された非限定的な実施形態を参照してさらに具体的に議論されるものとなり、これらの実施形態は、本開示のコンテキスト内で互いに互換可能である。

図１Ａから図１Ｂは、透明基板１１０と複数の微細構造１３０を含むポリマー薄膜１２０とを含む、導光板（ＬＧＰ）１００、１００’の例示的な実施形態を説明する。ポリマー薄膜１２０はまた、光抽出形体１３５、１３５’をパターン付けされることがある。図１Ａに描かれている光抽出パターンは、ある特定の実施形態では、下記に図４Ａから図４Ｄを参照して詳細に議論されるレーザー損傷方法を用いて作出されることがある。図１Ｂに描かれている光抽出パターンは、様々な実施形態では、下記に図５Ａから図５Ｈを参照して詳細に議論されるリソグラフィ手法を用いて作出されることがある。

図２に示されるように、少なくとも１つの光源１４０を、透明基板１１０の縁端表面１５０に光学的に連結することができ、例えば、縁端表面１５０に隣接して配することができる。本明細書に使用される際に、用語「光学的に連結される」とは、光をＬＧＰ内に導入するように、光源をＬＧＰの縁端に配することを指すことが意図される。光源は、ＬＧＰとの物理的な接触がなくても、そのＬＧＰに光学的に連結されることがある。また、追加の光源（図説せず）が、ＬＧＰの他方の縁端表面へ、例えば縁端表面に隣接して、またはその反対側などに、光学的に連結されることもある。

光源１４０からの発光の概ねの方向は、図２に実線の矢印によって描かれている。ＬＧＰ内に注入される光は、全内部反射（ＴＩＲ）があるために、臨界角に満たない入射の角度で境界面に突き当たるまで、ＬＧＰの長さＬに沿って伝播することがある。全内部反射（ＴＩＲ）とは、それによって、第１の屈折率を含む第１の材料（例えばガラス、プラスチックなど）中を伝播する光が、第１の屈折率よりも低い第２の屈折率を含む第２の材料（例えば空気など）との境界面で全反射することができる現象である。ＴＩＲは、スネルの法則を用いて説明することができる：

上式は、屈折率の異なる２つの材料の間の境界面での光の屈折を表す。スネルの法則に従えば、ｎ_１は、第１の材料の屈折率であり、ｎ_２は、第２の材料の屈折率であり、Θ_ｉは、境界面への法線に対する、境界面で入射する光の角度（入射角）であり、Θ_ｒは、法線に対する屈折光の屈折の角度である。屈折の角度（Θ_ｒ）が９０^ｏである、例えばｓｉｎ（Θ_ｒ）＝１である際に、スネルの法則は、以下のように表現することができる：

これらの条件下の入射角Θ_ｉはまた、臨界角Θ_ｃと呼ばれることもある。臨界角よりも大きな入射角を有する光（Θ_ｉ＞Θ_ｃ）は、第１の材料内で全内部反射されるものとなるのに対し、臨界角と等しいかそれよりも小さな入射角を有する光（Θ_ｉ≦Θ_ｃ）は、第１の材料によって伝わるものとなる。

空気（ｎ_１＝１）とガラス（ｎ_２＝１．５）との間の例示的な境界面の場合、臨界角（Θ_ｃ）は、４１^ｏとして算出することができる。そのため、ガラス中の光の伝播が、４１^ｏよりも大きな入射角で空気−ガラス境界面に突き当たる場合には、入射光は全て、入射角と等しい角度で境界面から反射されるものとなる。反射光が、第１の境界面と同一の屈折率の関係を含む第２の境界面に出会う場合には、第２の境界面に入射する光は、入射角と等しい反射角で再び反射されるものとなる。

ポリマー薄膜１２０は、透明基板１１０の主表面、例えば発光表面１６０の反対側の主表面１７０などに配置されることがある。微細構造１３０のアレイは、光抽出形体１３５、１３５’および／またはＬＧＰの他の光学部材に沿って、点線の矢印によって標示されるように、順方向（例えばユーザに向けて）へと光の伝達を向けられることがある。実施形態によっては、光源１４０を、発光ダイオード（ＬＥＤ）などのランベルト光源としてもよい。ＬＥＤからの光は、ＬＧＰ内で急速に広がることがあり、それによって、局所減光を（例えば１つまたは複数のＬＥＤをオフにすることによって）生じることが困難になる場合がある。しかし、（図２に実線の矢印によって標示されるように）光の伝播の方向に延びているＬＧＰの表面に、１つまたは複数の微細構造を付与することによって、各ＬＥＤ源が狭い線条のＬＧＰのみを効果的に照らすように光の広がりを限定することが可能になることがある。照らされた線条は、例えば、ＬＥＤでの開始点から反対側の縁端上の同様の終点まで、延びていることがある。このように、様々な微細構造の配置構成を用いて、比較的効率の良い方式で、ＬＧＰの少なくとも一部の１Ｄ局所減光を生じることが可能であることがある。

ある特定の実施形態では、導光アセンブリは、２Ｄ局所減光を達成することができるように構成することができる。例として、１つまたは複数の追加の光源を、隣接する（例えば直交する）縁端表面に光学的に連結することができる。第１のポリマー薄膜は、伝播方向に延びている微細構造を有する発光表面に整えられることがあり、第２のポリマー薄膜は、反対側の主表面に整えられることがあり、この薄膜は、伝播方向に直交する方向に延びている微細構造を有する。こうして、各縁端表面に沿った光源のうち１つまたは複数を選択的に遮断することによって、２Ｄ局所減光が達成されることがある。

図２に図説されないが、透明基板１１０の発光表面１６０は、複数の光抽出形体をパターン付けされることがある、および／または微細構造化表面を付与されることがある。例として、光抽出形体は、発光表面１６０を横断して、例えばざらついたもしくは浮き出しの表面を作り出す織地の形体として、分配されることがあるか、または基板もしくはその一部の中でおよびそこにわたって、例えばレーザーで損傷された形体として、分配されることがある。そのような光抽出形体を作出するのに適した方法としては、インクジェット印刷、スクリーン印刷、微細印刷などの印刷、テクスチャリング、機械的粗化、エッチング、射出成型、被覆、レーザー損傷、または任意のそれらの組合せを挙げることができる。そのような方法の非限定的な例としては、例として、表面の酸エッチング、ＴｉＯ_２による表面の被覆、および表面にまたは基板マトリックス内にレーザーの焦点を合わせることによる基板のレーザー損傷が挙げられる。

様々な実施形態では、光抽出形体１３５、１３５’は、光散乱部位を含むことがある。様々な実施形態によれば、抽出形体は、透明基板の発光表面にわたって実質的に均一な光出力強度を生じるように、適した密度でパターン付けされることがある。ある特定の実施形態では、光源に最も近い光抽出形体の密度は、ＬＧＰじゅうにわたって所望の光出力の分布を作出するのに適するように、光源からさらに隔たった地点での光抽出形体の密度よりも低いか、またはその逆であり、例えば一方の終端から他方までの勾配などとなり得る。

光抽出形体１３５、１３５’は、任意の横断面を有していてもよく、そのようなものとしては、図７Ａから図７Ｃに説明される非限定的な断面が挙げられ、下記にさらに詳細に議論される。様々な実施形態では、光抽出形体１３５、１３５’は、少なくとも１つの寸法（例えば幅、高さ、長さなど）を含むことができ、その寸法は、約１００μｍ未満、例えば約７５μｍ未満、約５０μｍ未満、約２５μｍ未満、約１０μｍ未満であるか、またはさらに少ないなどであり、それらの間の全ての範囲および部分範囲を含み、例えば約１μｍから約１００μｍまでに及ぶ。

微細構造化されたポリマー薄膜１２０は、下記に図４から図５に関して議論される例示的な方法に従って、光抽出形体を作出するために処理されることがある。追加の光抽出形体（描図せず）が、当技術分野に公知の任意の方法を用いて形成されることがあり、そのような方法としては、例えば、それぞれが参照によりその全体を本明細書に組み込まれる、共同で係属され共同で所有されている国際特許出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１３／０６３６２２号および同第ＰＣＴ／ＵＳ２０１４／０７０７７１号の各明細書に開示されている方法がある。例えば、発光表面１６０が、所望の厚さおよび／または表面の品質を達成するために、研削および／または研磨されることがある。次いで、表面が、任意選択で清掃されることがある、および／またはエッチングされる表面が、汚染を除去するためのプロセス、例えばオゾンへの表面の曝露などに供されることがある。エッチングされる表面は、非限定的な実施形態として、酸浴に、例えば氷酢酸（ＧＡＡ）とフッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）との、例えば約１：１から約９：１までに及ぶ比での混合物に、曝露されることがある。エッチング時間は、例えば、約３０秒から約１５分までに及ぶことがあり、エッチングは、室温で、または昇温で行われることがある。酸濃度／比、温度、および／または時間などのプロセスのパラメーターは、結果として得られる抽出形体のサイズ、形状、および分布に影響を及ぼすことがある。これらのパラメーターを変えて所望の表面抽出形体を実現することは、当業者の能力内にある。

透明基板１１０は、所望の光分布を生じるように適切に、任意の所望のサイズおよび／または形状を有することができる。基板１１０の主表面１６０、１７０は、ある特定の実施形態では、平面であるかまたは実質的に平面であり、例えば、実質的に平らであるおよび／または水平であることがある。第１および第２の主表面は、様々な実施形態では、平行であるかまたは実質的に平行であることがある。透明基板１１０は、図２に説明されるような４つの縁端を含むこともあれば、４つを超える縁端、例えば多面多角形を含むこともある。他の実施形態では、透明基板１１０は、４つ未満の縁端、例えば三角形を含むことがある。非限定的な例として、導光部は、４つの縁端を有した矩形、正方形、または偏菱形のシートを含むことがあるが、もっとも、１つまたは複数の曲線の部分または縁端を有するものを含めて、他の形状および配置構成は、本開示の範囲内にあることが意図されている。

ある特定の実施形態では、透明基板１１０は、約３ｍｍ以下の厚さｄ_１を有することがあり、それは例えば、約０．１ｍｍから約２．５ｍｍまで、約０．３ｍｍから約２ｍｍまで、約０．５ｍｍから約１．５ｍｍまで、または約０．７ｍｍから約１ｍｍまでに及び、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。透明基板１１０は、ディスプレイデバイスで使用するための当技術分野に公知の任意の材料を含むことができ、そのようなものとしては、プラスチック材およびガラス材が挙げられる。例示的なプラスチック材としては、以下に限定されないが、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）またはメタクリル酸メチル・スチレン（ＭＳ）が挙げられる。ガラス材としては、例として、アルミノケイ酸塩、アルカリアルミノケイ酸塩、ホウケイ酸塩、アルカリホウケイ酸塩、アルミノホウケイ酸塩、アルカリアルミノホウケイ酸、ソーダ石灰、または他の適したガラスが挙げられることがある。ガラス導光部としての使用に適した商業的に入手可能なガラスの非限定的な例としては、例として、Ｃｏｒｎｉｎｇ社から得られるＥＡＧＬＥ ＸＧ（登録商標）ガラス、Ｌｏｔｕｓ（商標）ガラス、Ｗｉｌｌｏｗ（登録商標）ガラス、Ｉｒｉｓ（商標）ガラス、およびＧｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラスが挙げられる。

いくつかの非限定的なガラス組成物は、約５０モル％と約９０モル％の間のＳｉＯ_２、０モル％と約２０モル％の間のＡｌ_２Ｏ_３、０モル％と約２０モル％の間のＢ_２Ｏ_３、および０モル％と約２５モル％の間のＲ_ｘＯを含むことができ、式中、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちいずれか１つまたは複数でありかつｘが２であるか、またはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、もしくはＢａでありかつｘが１である。実施形態によっては、Ｒ_ｘＯ−Ａｌ_２Ｏ_３＞０；０＜Ｒ_ｘＯ−Ａｌ_２Ｏ_３＜１５；ｘ＝２かつＲ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３＜１５；Ｒ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３＜２；ｘ＝２かつＲ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭｇＯ＞−１５；０＜（Ｒ_ｘＯ−Ａｌ_２Ｏ_３）＜２５、−１１＜（Ｒ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３）＜１１、かつ−１５＜（Ｒ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭｇＯ）＜１１；および／または−１＜（Ｒ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３）＜２かつ−６＜（Ｒ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭｇＯ）＜１である。実施形態によっては、ガラスは、１ｐｐｍ未満のＣｏ、Ｎｉ、およびＣｒのそれぞれを含む。実施形態によっては、Ｆｅの濃度は、＜約５０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ、または＜約１０ｐｐｍである。他の実施形態では、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約６０ｐｐｍ、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約４０ｐｐｍ、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約２０ｐｐｍ、またはＦｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約１０ｐｐｍである。他の実施形態では、ガラスは、約６０モル％と約８０モル％の間のＳｉＯ_２、約０．１モル％と約１５モル％の間のＡｌ_２Ｏ_３、０モル％と約１２モル％の間のＢ_２Ｏ_３、および約０．１モル％と約１５モル％の間のＲ_２Ｏ、および約０．１モル％と約１５モル％の間のＲＯを含み、式中、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちいずれか１つまたは複数でありかつｘが２であるか、またはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、もしくはＢａでありかつｘが１である。

他の実施形態では、ガラス組成物は、約６５．７９モル％と約７８．１７モル％の間のＳｉＯ_２、約２．９４モル％と約１２．１２モル％の間のＡｌ_２Ｏ_３、約０モル％と約１１．１６モル％の間のＢ_２Ｏ_３、約０モル％と約２．０６モル％の間のＬｉ_２Ｏ、約３．５２モル％と約１３．２５モル％の間のＮａ_２Ｏ、約０モル％と約４．８３モル％の間のＫ_２Ｏ、約０モル％と約３．０１モル％の間のＺｎＯ、約０モル％と約８．７２モル％の間のＭｇＯ、約０モル％と約４．２４モル％の間のＣａＯ、約０モル％と約６．１７モル％の間のＳｒＯ、約０モル％と約４．３モル％の間のＢａＯ、および約０．０７モル％と約０．１１モル％の間のＳｎＯ_２を含むことができる。

追加の実施形態では、透明基板１１０は、０．９５と３．２３の間のＲ_ｘＯ／Ａｌ_２Ｏ_３比を有するガラスを含むことができ、式中、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちいずれか１つまたは複数であり、ｘは２である。さらに別の実施形態では、ガラスは、１．１８と５．６８の間のＲ_ｘＯ／Ａｌ_２Ｏ_３比を含むことがあり、式中、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちいずれか１つまたは複数でありかつｘが２であるか、またはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、もしくはＢａでありかつｘが１である。いっそうさらに別の実施形態では、ガラスは、−４．２５と４．０の間のＲ_ｘＯ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭｇＯを含むことができ、式中、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちいずれか１つまたは複数であり、ｘは２である。なおいっそう別の実施形態では、ガラスは、約６６モル％と約７８モル％の間のＳｉＯ_２、約４モル％と約１１モル％の間のＡｌ_２Ｏ_３、約４モル％と約１１モル％の間のＢ_２Ｏ_３、約０モル％と約２モル％の間のＬｉ_２Ｏ、約４モル％と約１２モル％の間のＮａ_２Ｏ、約０モル％と約２モル％の間のＫ_２Ｏ、約０モル％と約２モル％の間のＺｎＯ、約０モル％と約５モル％の間のＭｇＯ、約０モル％と約２モル％の間のＣａＯ、約０モル％と約５モル％の間のＳｒＯ、約０モル％と約２モル％の間のＢａＯ、および約０モル％と約２モル％の間のＳｎＯ_２を含むことがある。

追加の実施形態では、透明基板１１０は、約７２モル％と約８０モル％の間のＳｉＯ_２、約３モル％と約７モル％の間のＡｌ_２Ｏ_３、約０モル％と約２モル％の間のＢ_２Ｏ_３、約０モル％と約２モル％の間のＬｉ_２Ｏ、約６モル％と約１５モル％の間のＮａ_２Ｏ、約０モル％と約２モル％の間のＫ_２Ｏ、約０モル％と約２モル％の間のＺｎＯ、約２モル％と約１０モル％の間のＭｇＯ、約０モル％と約２モル％の間のＣａＯ、約０モル％と約２モル％の間のＳｒＯ、約０モル％と約２モル％の間のＢａＯ、および約０モル％と約２モル％の間のＳｎＯ_２を含むガラス材を含むことができる。ある特定の実施形態では、ガラスは、約６０モル％と約８０モル％の間のＳｉＯ_２、約０モル％と約１５モル％の間のＡｌ_２Ｏ_３、約０モル％と約１５モル％の間のＢ_２Ｏ_３、および約２モル％と約５０モル％の間のＲ_ｘＯを含むことができ、式中、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちいずれか１つまたは複数でありかつｘが２であるか、またはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、もしくはＢａでありかつｘが１であり、式中、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約６０ｐｐｍである。

実施形態によっては、透明基板１１０は、０．０１５未満の色シフトΔｙを含むことができ、それは例えば、約０．００５から約０．０１５に及ぶもの（例えば、約０．００５、０．００６、０．００７、０．００８、０．００９、０．０１０、０．０１１、０．０１２、０．０１３、０．０１４、または０．０１５）などである。他の実施形態では、透明基板は、０．００８未満の色シフトを含むことができる。ある特定の実施形態によれば、透明基板は、約４２０から７５０ｎｍに及ぶ波長では、約４ｄＢ／ｍ未満の（例えば吸収および／または散乱損失に起因する）光減衰α_１を有することができ、それは例えば、約３ｄＢ／ｍ未満、約２ｄＢ／ｍ未満、約１ｄＢ／ｍ未満、約０．５ｄＢ／ｍ未満、約０．２ｄＢ／ｍ未満であるか、またはさらに小さいなどであり、例えば、約０．２ｄＢ／ｍから約４ｄＢ／ｍに及ぶ。

透明基板１１０は、実施形態によっては、例えばイオン交換による、化学強化されたガラスを含むことがある。イオン交換プロセスの間、ガラスシートの表面またはその近傍のガラスシート内のイオンは、例えば塩浴由来の、より大きな金属イオンに交換されることがある。より大きなイオンをガラス内へ組み込むことにより、近傍の表面領域に圧縮応力を作り出すことによって、シートを強化することができる。対応する引張応力を、ガラスシートの中心領域内に誘導して、圧縮応力とのバランスを取ることができる。

イオン交換は、例えば、ガラスを所定の期間、溶融塩浴中に浸漬することによって実施されることがある。例示的な塩浴としては、以下に限定されないが、ＫＮＯ_３、ＬｉＮＯ_３、ＮａＮＯ_３、ＲｂＮＯ_３、およびそれらの組合せが挙げられる。溶融塩浴の温度および処理時間は、様々とすることができる。所望の適用に応じて時間および温度を決定することは、当業者の能力内にある。非限定的な例として、溶融塩浴の温度は、約４００℃から約８００℃まで、例えば約４００℃から約５００℃までなどに及ぶことがあり、所定の期間は、約４から約２４時間まで、例えば約４時間から約１０時間までなどに及ぶことがあるが、もっとも、他の温度と時間との組合せが想定される。非限定的な例として、ガラスをＫＮＯ_３浴中に、例えば約４５０℃で約６時間沈めて、表面圧縮応力を与えるＫに富む層を得ることができる。

ポリマー薄膜１２０は、ＵＶまたは熱により硬化することの可能な任意のポリマー材を含むことができる。ポリマー材は、下記にさらに詳細に議論されるように、色シフトが低いおよび／または青色光の波長の吸収が低い（例えば約４５０から５００ｎｍ）組成物からさらに選択されることがある。ある特定の実施形態では、ポリマー薄膜１２０は、基板の主表面１７０に堆積され、成型されるかまたはその他加工されて、微細構造１３０を作出することがある。ポリマー薄膜１２０は、連続的であっても不連続であってもよい。

図１から図２は、レンズ状の断面を有する微細構造１３０を説明するが、ポリマー薄膜１２０は、他の任意の適した微細構造１３０を含むことができ、その構造には、光抽出形体１３５、１３５’を同様にパターン付けすることができる。例として、図３Ａから図３Ｂは、プリズム１３２および丸いプリズム１３４をそれぞれ含む微細構造１３０を説明する。図３Ｃに示されるように、微細構造１３０はまた、レンチキュラレンズ１３６を含むことがある（図１から図２も参照）。もちろん、描図された微細構造は、例示的であるに過ぎず、添付の特許請求の範囲を限定することを意図されない。他の微細構造形状は、可能であり、本開示の範囲内にあることを意図される。さらに、図３Ａから図３Ｃは、規則的な（または周期的な）アレイを説明するが、不規則な（または非周期的な）アレイを使用することもできる。例として、図３Ｄは、プリズムの非周期的なアレイを含む微細構造化表面のＳＥＭ画像である。

本明細書に使用される際に、用語「微細構造」、「微細構造化された」、およびそれらのバリエーションは、少なくとも１つの寸法（例えば高さ、幅、長さなど）を有するポリマー薄膜の表面のレリーフ形体を指すことが意図されており、そのような寸法は、約５００μｍ未満、例えば約４００μｍ未満、約３００μｍ未満、約２００μｍ未満、約１００μｍ未満、約５０μｍ未満、またはさらに少ないものなどであり、例えば、約１０μｍから約５００μｍまでに及び、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。微細構造は、ある特定の実施形態では、規則的または不規則な形状を有することがあり、それらの形状は、所与のアレイ内で同一であることも異なることもあり得る。図３Ａから図３Ｄは、同じサイズおよび形状の微細構造１３０を概ね説明し、それらの微細構造は、実質的に同じピッチで均等に間隔を空けているが、一方で、所与のアレイ内にある全ての微細構造が、同じサイズおよび／または形状および／または間隔を持たねばならない訳ではないことが理解されよう。微細構造の形状および／またはサイズの組合せが使用されてもよく、そのような組合せは、周期的または非周期的な様式で整列されることがある。

さらに、微細構造１３０のサイズおよび／または形状は、所望の光出力および／またはＬＧＰの光学的な機能性に応じて変えることができる。例として、異なる微細構造の形状は、異なる局所減光効率をもたらし、局所減光率と呼ばれることもある。非限定的な例として、プリズム微細構造の周期的なアレイは、最大で約７０％のＬＤＩ値をもたらすことがあるのに対し、レンチキュラレンズの周期的なアレイは、最大で約８３％のＬＤＩ値をもたらすことがある。もちろん、微細構造のサイズおよび／または形状および／または間隔は、異なるＬＤＩ値を達成するように変えられることがある。また、異なる微細構造の形状が、追加の光学的な機能性を与えることがある。例として、９０^ｏのプリズム角を有するプリズムアレイは、さらに効率の良い局所減光をもたらすだけではなく、光線のリサイクルおよび再方向付けに起因して、プリズムの稜線に垂直な方向に光を部分的に焦点に当てることもある。

図３Ａを参照すると、プリズム微細構造１３２は、約６０^ｏから約１２０^ｏまでに及ぶプリズム角Θを有することができ、それは例えば約７０^ｏから約１１０^ｏまで、約８０^ｏから約１００^ｏまで、または約９０^ｏであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。図３Ｃを参照すると、レンズ状の微細構造１３６は、任意の所与の断面形状（点線によって図説されるような）を有し、その形状は、半円形、半楕円形、放物線状、または他の同様の丸い形状から多岐にわたる。光抽出形体は、図説を単純にする目的で図３Ａから図３Ｃに説明されていないが、そのような形体が、非限定的な実施形態に存在する場合があることに留意すべきである。

ポリマー薄膜１２０は、全体の厚さｄ_２および「ランド」厚さｔを有することがある。微細構造１３０は、ピークｐと谷ｖとを含むことがあり、全体の厚さは、ピークｐの高さに相当することがあるのに対し、ランド厚さは、谷ｖの高さに相当することがある。様々な実施形態によれば、ランド厚さｔがゼロであるかまたは限りなくゼロに近付くように、ポリマー薄膜１２０を堆積させることが有利であることがある。ｔがゼロである際には、ポリマー薄膜１２０は不連続であることがある。例として、ランド厚さｔは、０から約２５０μｍまでに及ぶことがあり、それは例えば、約１０μｍから約２００μｍまで、約２０μｍから約１５０μｍまで、または約５０μｍから約１００μｍまでなどであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。追加の実施形態では、全体の厚さｄ_２は、約１０μｍから約５００μｍまでに及ぶことがあり、それは例えば、約２０μｍから約４００μｍまで、約３０μｍから約３００μｍまで、約４０μｍから約２００μｍまで、または約５０μｍから約１００μｍまでなどであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。

図３Ａから図３Ｃを続けて参照すると、微細構造１３０はまた、所望のアスペクト比を達成するように所望の通りに変えることができる、幅ｗを有することがある。ランド厚さｔおよび全体の厚さｄ_２のバリエーションを使用して、光出力を改変することもできる。非限定的な実施形態では、微細構造１３０のアスペクト比［ｗ／（ｄ_２−ｔ）］を、約０．１から約３までに及ぶものとすることができ、それは例えば、約０．５から約２．５まで、約１から約２．２まで、または約１．５から約２までなどであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。いくつかの実施形態によれば、アスペクト比を、約２から約３までに及ぶものとすることができ、それは例えば、約２、２．１、２．２、２．３、２．４、２．５、２．６、２．７、２．８、２．９、または３などであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。微細構造の幅ｗもまた、例えば、約１μｍから約２５０μｍまでに及ぶものとすることができ、それは例えば、約１０μｍから約２００μｍまで、約２０μｍから約１５０μｍまで、または約５０μｍから約１００μｍまでなどであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。また、微細構造１３０は、光の伝播方向（図２の実線の矢印を参照）に延びている長さ（標識せず）を有することがあり、この長さは、所望の通りに、例えば透明基板１１０の長さＬに応じて、変えることができることに留意するべきである。

ポリマー薄膜１２０は、ある特定の実施形態では、可視波長を超える顕著な色シフトを示さない材料を含むことがある。いくつかのプラスチックおよび樹脂は、青色波長（例えば約４５０から５００ｎｍ）の光吸収があるために、時間とともに黄色みを帯びた色を展開する傾向を有することがある。この変色は、昇温で、例として通常のＢＬＵ稼働温度内で、悪くなってゆくことがある。さらに、ＬＥＤ光源を組み込んだＢＬＵは、青色波長の著しい放出があるために、色シフトを悪化させることがある。特に、色変換材（燐光体など）で青色放出ＬＥＤを被覆することによって、ＬＥＤを使用して白色光を送達することがあるが、この色変換材は、いくらかの青色光を赤色または緑色の波長に変換し、その結果、総体的に白色光を知覚させる。しかし、この色変換があるとはいえ、ＬＥＤの放出スペクトルはやはり、強力な放出ピークを青色領域に有する。ポリマー薄膜が青色光を吸収する場合、それは熱に変換され、それによって、ポリマーの分解がさらに加速し、時間とともに青色光の吸収がさらに増加することがある。

光が薄膜と垂直に伝播する際に、ポリマー薄膜による青色光の吸収はごく僅かであることがあるのに対し、光が薄膜の長さに沿って伝播する際には（縁端照光型のＬＧＰの場合のように）、伝播の長さがより長いために、上記の吸収は、さらに著しくなってゆくことがある。ＬＧＰの長さに沿った青色光の吸収は、結果として青色光の強度の顕著な損失を生じ、それゆえに伝播方向に沿って顕著な色の変化（例えば黄色の色シフト）を生じることがある。こうして、色シフトは、ディスプレイの一方の縁端から他方まで、ヒトの目によって知覚されることがある。そのため、可視範囲内（例えば約４２０から７５０ｎｍ）の異なる波長に対し同等の吸収値を有するポリマー薄膜材を選ぶことが有利であることがある。例として、青色波長での吸収が赤色波長での吸収と実質的に類似することがあるなどがある。

実施形態によっては、ポリマー薄膜は、波長＞４５０ｎｍで吸収する発色団を避けるように選ばれることがある。ある特定の実施形態では、ポリマー薄膜は、青色光を吸収する発色団の濃度が約５ｐｐｍ未満となるように選択されることがあり、それは例えば、約１ｐｐｍ未満、約０．５ｐｐｍ未満、または約０．１ｐｐｍ未満などであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。あるいは、ポリマー薄膜は、青色光の吸収を補償するように改変されることがあり、それは例えば、いかなる潜在的な色シフトも中和するように黄色波長（例えば約５７０から５９０ｎｍ）を吸収する、１つまたは複数の染料、色素、および／または光学増白剤を組み込むことによって行われる。しかし、青色波長と黄色波長の両方で吸収するようなポリマー材を工学的に作り出すことによって、薄膜全体の透過率を低下させ、それゆえにＬＧＰ全体の透過率を低下させることがある。そのため、ある特定の実施形態では、青色光の吸収を低減し、それによって薄膜全体の透過率を増加させるようなポリマー材を、むしろ選ぶおよび／または改変することが有利であることがある。

様々な実施形態によれば、ポリマー薄膜１２０はまた、ＬＧＰの長さに沿った色シフトを最小限にするために、青色スペクトル領域および赤色スペクトル領域で界面のフレネル反射のバランスを取る屈折率のばらつきを有するように、選択されることもある。例えば、基板−ポリマー薄膜の境界面で、約４５０から６３０ｎｍの間の波長について４５^ｏでのフレネル反射の差は、０．０１５％未満であることがあり、それは例えば、０．００５％未満または０．００１％などであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。他の関連のばらつきの特性は、参照によりその全体を本明細書に組み込まれる、共同で係属中の２０１６年６月１０日出願の「Ｇｌａｓｓ Ａｒｔｉｃｌｅｓ Ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｆｅａｔｕｒｅｓ」と題された米国仮特許出願第６２／３４８４６５号明細書に記載されている。

基板１１０、ポリマー薄膜１２０、および／またはＬＧＰ１００、１００’は、ある特定の実施形態では、透明または実質的に透明とすることができる。本明細書に使用される際に、用語「透明な」は、基板、薄膜、またはＬＧＰが、スペクトルの可視領域（約４２０から７５０ｎｍ）で約８０％超の光透過を有することを指すことが意図される。例として、例示的な透明な材料は、可視光領域で約８５％超の透過度を有することがあり、それは例えば約９０％超、約９５％超、または約９９％超の透過度であり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。ある特定の実施形態では、例示的な透明な材料は、紫外（ＵＶ）領域（約１００から４００ｎｍ）で約５０％超の光学透過度を有することがあり、それは例えば約５５％超、約６０％超、約６５％超、約７０％超、約７５％超、約８０％超、約８５％超、約９０％超、約９５％超、約９９％超などの透過度であり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。

実施形態によっては、例示的な透明なガラス材またはポリマー材は、１ｐｐｍ未満のＣｏ、Ｎｉ、およびＣｒのそれぞれを含むことができる。実施形態によっては、Ｆｅの濃度は、＜約５０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ、または＜約１０ｐｐｍである。他の実施形態では、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約６０ｐｐｍ、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約４０ｐｐｍ、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約２０ｐｐｍ、またはＦｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約１０ｐｐｍである。追加の実施形態によれば、例示的な透明なガラス材またはポリマー材は、色シフトΔｙ＜０．０１５を、または、実施形態によっては、色シフト＜０．００８を、含むことができる。

色シフトは、色測定のためのＣＩＥ１９３１基準を用いて、長さＬに沿ったｘおよびｙの色度座標中のバリエーションを測定することによって特徴付けられることがある。ガラス導光板について、色シフトΔｙは、Δｙ＝ｙ（Ｌ_２）−ｙ（Ｌ_１）としてレポート出力されることがあり、式中、Ｌ_２およびＬ_１は、供給源の発射から離れたパネルまたは基板の方向に沿ったＺ位置であり、Ｌ_２−Ｌ_１＝０．５メートルである。例示的な導光板は、Δｙ＜０．０１、Δｙ＜０．００５、Δｙ＜０．００３、またはΔｙ＜０．００１を有する。

ＬＧＰの光学的な光散乱特性はまた、基板およびポリマー材の屈折率によって影響を受けることがある。様々な実施形態によれば、透明基板は、約１．３から約１．８までに及ぶ屈折率を有し、それは例えば約１．３５から約１．７まで、約１．４から約１．６５まで、約１．４５から約１．６まで、または約１．５から約１．５５までなどであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。実施形態によっては、ポリマー材は、基板よりも大きな屈折の率を有することがある。他の実施形態では、ポリマー材は、基板と実質的に同様の屈折率を有することがある。本明細書に使用される際に、用語「実質的に同様である」は、２つの値がおよそ等しい、例えば互いの約１０％以内であることを指すことが意図され、それは例えば、場合によっては、互いの約５％以内、互いの約２％以内などである。例えば、屈折率１．５の場合、実質的に同様の屈折率は、約１．３５から約１．６５までに及ぶことがある。

様々な非限定的な実施形態によれば、ＬＧＰ（ガラス＋ポリマー）は、比較的低いレベルの光減衰を（例えば吸収および／または散乱があるために）有することがある。例えば、ＬＧＰの減衰の組合せα’は、α’＝（ｄ_１／Ｄ）＊α_１＋（ｄ_２／Ｄ）＊α_２と表現されることがあり、式中、ｄ_１は、透明基板の全体の厚さを表し、ｄ_２は、ポリマー薄膜の全体の厚さを表し、Ｄは、ＬＧＰの全体の厚さを表し（Ｄ＝ｄ_１＋ｄ_２）、α_１は、透明基板の減衰値を表し、α_２は、ポリマー薄膜の減衰値を表す。ある特定の実施形態では、減衰の組合せα’は、約４２０から７５０ｎｍに及ぶ波長について約５ｄＢ／ｍ未満であることがある。例として、α’は、約４ｄＢ／ｍ未満、約３ｄＢ／ｍ未満、約２ｄＢ／ｍ未満、約１ｄＢ／ｍ未満、約０．５ｄＢ／ｍ未満、約０．２ｄＢ／ｍ未満であるか、またはそれより低いことがあり、これらの間の全ての範囲および部分範囲、例えば約０．２ｄＢ／ｍから約５ｄＢ／ｍまでを含む。

ＬＧＰの減衰の組合せは、例えば、ポリマー薄膜の厚さおよび／またはポリマー薄膜の厚さとＬＧＰ全体の厚さとの比（ｄ_２／Ｄ）に応じて変わることがある。そのため、ポリマー薄膜の厚さおよび／または透明基板の厚さを、所望の減衰値を達成するように変えることがある。例として、（ｄ_２／Ｄ）は、約１／２から約１／５０までに及ぶことがあり、それは例えば約１／３から約１／４０まで、約１／５から約１／３０まで、または約１／１０から約１／２０までなどであり、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。

本明細書に開示されるＬＧＰは、様々なディスプレイデバイスに使用されることがあり、そのようなものとしては、以下に限定されないが、ＬＣＤが挙げられる。本開示の様々な態様によれば、ディスプレイデバイスは、少なくとも１つの光源に連結された開示されるＬＧＰのうち少なくとも１つを含むことができ、この光源は、青色光、ＵＶ光、または近ＵＶ光（例えばおよそ１００から５００ｎｍ）を発することがある。実施形態によっては、光源は、発光ダイオード（ＬＥＤ）であることがある。例示的なＬＣＤの光学部材は、ごく一部の部材を挙げれば、反射器、散光器、１つまたは複数のプリズム薄膜、１つまたは複数の直線偏光子または反射偏光子、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）アレイ、液晶層、および１つまたは複数の色フィルターをさらに含むことがある。本明細書に開示されるＬＧＰはまた、様々な照明デバイス、例えば照明器具またはソリッドステート照光デバイスなどに使用されることがある。

方法
本明細書にまた開示されるのは、導光板を形成するための方法であり、この方法は、ポリマー材の層を透明基板の表面に適用すること、およびポリマー材を成形して、複数の光抽出形体をパターン付けされた複数の微細構造を生じることを含む。様々な実施形態によれば、この方法は、ポリマー材の層を透明基板の発光表面の反対側の主表面に適用することを含むことがある。ある特定の実施形態では、ポリマー材の層を、スクリーン印刷によって適用することがある。ポリマー材の成形は、例えば、微細複製、ＵＶエンボス加工、熱エンボス加工、または高温エンボス加工によって実施することがある。本明細書に開示される方法は、成形型を形成するための１つまたは複数のステップをさらに含むことがある。ポリマー材を成形するステップは、成形型をポリマー材の層に適用することを含むことがある。

図２を再度参照すると、様々な実施形態で、ポリマー薄膜１２０を、種々の方法、例えば成型手法および／または印刷手法などを用いて、透明基板１１０の主表面１７０に適用することがある。例として、ポリマー材の層を、印刷（例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、微細印刷など）、押出加工、またはその他透明基板に被覆し、続いて、所望の表面パターンでインプリントするかまたはエンボス加工することがある。あるいは、透明基板をポリマー材で被覆する間に、ポリマー材を、所望のパターンでインプリントするかエンボス加工することがある。これらの成型プロセスは、「微細複製」と呼ばれることがあり、そこでは、所望のパターンを、まず、型として製造し、次いで、ポリマー材内に押し付けて、型の形状のネガレプリカを産する。ポリマー材を、インプリントの間または後にＵＶ硬化または熱硬化することがあり、これらはそれぞれ、「ＵＶエンボス加工」および「熱エンボス加工」と呼ばれることがある。あるいは、ポリマー薄膜を、高温エンボス加工手法を用いて適用することがあり、そこでは、ポリマー材を、まず、そのガラス遷移点を超える温度に加熱した後、インプリントおよび冷却する。

図４Ａから図４Ｄは、導光板を形成するための例示的な方法を説明し、この方法は、成形型を形成すること、および前記の型を用いてポリマー材をインプリントすることを含む。図４Ａでは、第１のテンプレート１８０が、微細構造パターン１８１を成形されるかまたはその他付与されることがある。図４Ｂに示されるように、第１のテンプレート１８０を損傷、例えばレーザー損傷して、光抽出パターン１８３を含む改変テンプレート１８２を生じることがある。図４Ｃに説明されるように、次いで、改変テンプレート１８２を使用して第２のテンプレートをインプリントし、成形型１８４を生じることがある。次いで、成形型１８４を、透明基板１１０を被覆するポリマー材の層に接触させて、図４Ｄの導光板１００を生じることがあり、この導光板は、複数の光抽出形体１３５をパターン付けされた複数の微細構造１３０を含むポリマー薄膜１２０を含む。

図５Ａから図５Ｈは、導光板を形成するための別の例示的な方法を説明し、この方法は、成形型を形成すること、および前記の型を用いてポリマー材をインプリントすることを含む。図５Ａでは、第１のテンプレート１８０が、微細構造パターン１８１を成形されるかまたはその他付与されることがある。図５Ｂに示されるように、第１のテンプレート１８０を使用して成型テンプレートをインプリントし、逆の微細構造パターン１８６を含むネガテンプレート１８５を形成することがある。図５Ｃを参照すると、第１の材料１８７を、次いで、ネガテンプレート１８５に適用することがあり、例えば、逆の微細構造パターン１８６中に堆積させる。次いで、第１の材料１８７の少なくとも一部を、示されるように除去して、逆の微細構造パターン１８６と暫定的な逆の光抽出パターン１８９とを有する逆のテンプレート１８８を形成することがある。例えば、第１の材料１８７は、フォトレジスト材料を含むことがあるが、その材料を、図５Ｄに示されるように、マスク１９１を通してＵＶ照射１９０に選択的に曝露して、照射部分１９２と非曝露部分１９３とを生じることがある。非曝露部分１９３を、次いで、図５Ｅに示されるように、リソグラフィ手法および／またはエッチング手法を用いて除去することがある。図５Ｆを参照して、逆のテンプレート１８８を使用して、微細構造パターン１８１と光抽出パターン１８３とを有する中間テンプレート１９４をインプリントすることがある。続いて、中間テンプレート１９４を使用して、図５Ｇの成形型１８４’を生じるための最終的なテンプレートをインプリントすることができる。成形型１８４’を、次いで、透明基板１１０を被覆するポリマー材の層に接触させて、図４Ｈの導光板１００’を生じることがあり、この導光板は、複数の光抽出形体１３５’をパターン付けされた複数の微細構造１３０を含むポリマー薄膜１２０を含む。

本明細書に開示される方法は、様々な形状およびサイズの光抽出形体１３５、１３５’を生じることがある。例として、図６Ａから図６Ｃを参照して、図４に描図された方法を、例えば第１のテンプレートをレーザー損傷することにより実施して、描図されたトポグラフ断面を有する光抽出形体１３５を生じてもよい。例示的なレーザーとしては、以下に限定されないが、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー、ＣＯ_２レーザーなどが挙げられる。図６Ａに示されるように、レーザーを使用して、クレーター様の光抽出形体を作出することがあり、その形体は、図７Ａに説明されるように（点線を参照）、実質的に放物線状の横断面を有することがある。あるいは、図６Ｂから図６Ｃに描図されるように、レーザーを使用して、円錐形の光抽出形体を作出することがあり、その形体は、図７Ｂに説明されるように（点線を参照）、実質的に三角形の横断面を有することがある。あるいは、図５に描図される方法を、例えばリソグラフィ手法を用いて実施して、円錐台形の光抽出形体を生じることがあり、その形体は、図７Ｃに説明されるように（点線を参照）、実質的に台形の横断面を有することがある。もちろん、光抽出形体１３５、１３５’は、任意の他の形状、横断面、またはそれらの組合せを有することがあり、それらは全て、本開示の範囲内にあることが意図される。

様々な実施形態によれば、透明基板は、第１のガラス遷移温度Ｔ_ｇ１を有する組成物を含むことがあり、このＴ_ｇ１は、ポリマー薄膜の第２のガラス遷移温度Ｔ_ｇ２よりも高い。例として、ガラス遷移温度間の差（Ｔ_ｇ１−Ｔ_ｇ２）は、少なくとも約１００℃であることがあり、それは例えば約１００℃から約８００℃まで、約２００℃から約７００℃まで、約３００℃から約６００℃まで、または約４００℃から約５００℃までなどに及び、これらの間の全ての範囲および部分範囲を含む。この温度の較差によって、成型プロセス中に溶融またはその他負の影響を透明基板に及ぼすことなく、ポリマー材を透明基板に成型することが可能になることがある。他の実施形態では、透明基板は、所与の加工温度で、ポリマー薄膜の第２の溶融温度Ｔ_ｍ２よりも高い第１の溶融温度Ｔ_ｍ１および／またはポリマー薄膜の第２の粘度ｖ_２よりも大きな第１の粘度ｖ_１を有することがある。

様々な開示された実施形態が、特定の実施形態と関連して記載される特定の形体、要素、またはステップを含み得ることが認識されよう。また、特定の形体、要素、またはステップが、１つの特定の実施形態に関連して記載されるとはいえ、説明のない様々な組合せまたは並べ替えにおいて、代替の実施形態と交換されるかまたは組み合わされることがあることも認識されよう。

また、本明細書に使用される際に、用語「ｔｈｅ」、「ａ」、または「ａｎ」は、「少なくとも１つの」を意味し、反対に明白に示されなければ、「１つのみ」に限定されるべきではないことも理解されたい。それゆえ、例えば、「ａ ｌｉｇｈｔ ｓｏｕｒｃｅ」という言及は、文脈が特段に明確に示さない限り、２つ以上のそのような光源を有する例を含む。同様に、「複数」または「アレイ」は、「１つを超える」を指すことが意図される。そのため、「複数の光散乱形体」は、２つ以上のそのような形体、例えば３つ以上のそのような形体などを含み、「微細構造のアレイ」は、２つ以上のそのような微細構造、例えば３つ以上のそのような微細構造などを含む。

範囲は、「約」１つの特定の値からおよび／または「約」別の特定の値までとして、本明細書に表現することができる。そのような範囲が表現される際に、例としては、一方の特定の値からおよび／または他方の特定の値までが挙げられる。同様に、先行して「約」を使用することによって値が概数として表現される際には、その特定の値が別の態様を形成することが理解されよう。各範囲の終点は、他方の終点との関連でおよび他方の終点とは独立しての両方で、重要であることがさらに理解されよう。

本明細書に使用される際の用語「実質的な」、「実質的に」、およびそれらのバリエーションは、記載される形体が値または記載と等しいかまたはほぼ等しいことを述べることが意図される。例えば、「実質的に平面の」表面は、平面であるかまたはほぼ平面である表面を指すことが意図される。さらに、上記に定義されたように、「実質的に同様の」は、２つの値が等しいかまたはほぼ等しいことを指すことが意図される。実施形態によっては、「実質的に同様の」は、互いの約１０％以内の、例えば互いの約５％、または互いの約２％などの値を指すことがある。

特段に明白に述べない限り、本明細書に明示されるいかなる方法も、そのステップが特別な順番で実施される必要があるものと解釈されるべきであることを決して意図されない。したがって、方法の請求項が、そのステップの辿る順番を実際に記載していないか、そうでなく、ステップが特定の順番に限定されることが、特許請求の範囲または記載に特に述べられていない場合には、いかなる特定の順番も推論されるべきものとは決して意図されない。

特定の実施形態の様々な形体、要素、またはステップが、移行節「含む」を用いて開示されることがある一方で、移行節「からなる」または「から本質的になる」を用いて記載されることがあるものを含めて、代替の実施形態が含意されることを理解されたい。それゆえ、例えば、Ａ＋Ｂ＋Ｃを含むデバイスに対し含意される代替の実施形態は、デバイスがＡ＋Ｂ＋Ｃからなる場合の実施形態と、デバイスがＡ＋Ｂ＋Ｃから本質的になる場合の実施形態とを含む。

様々な改変およびバリエーションが本開示の趣旨および範囲から逸脱することなく本願開示になされ得ることが、当業者には明らかになろう。本開示の趣旨および実質を組み込んだ開示された実施形態の改変、組合せ、サブコンビネーション、およびバリエーションが、当業者に起こり得ることから、本開示は、添付の特許請求の範囲の範囲内の全ておよびその等価物を含むものと解されるべきである。

以下の実施例は、非制限的であり例証となるに過ぎず、特許請求の範囲によって画定されている本発明の範囲内にあることが意図される。

メタクリル酸メチル・スチレン（ＭＳ）またはＣｏｒｎｉｎｇ社「Ｉｒｉｓ」ガラスを透明基板として用いて、様々な配置構成を有する導光板（６９２．２×１２１２．４×２ｍｍ）を調製した。基板の一方または両方の表面に、下記の表１に示されるように、微細構造および／または光抽出形体を付与した。存在する場合には、ポリマー薄膜を透明基板の屈折率に適合させた。ＬＥＤ光源（１２０ｍｍ）をＬＧＰの縁端表面に連結した。実施例１の配置構成は、図８Ａにより説明されており、一方、実施例４および実施例５の配置構成は、図８Ｂから図８Ｃに説明されている。表面の平均輝度、輝度の均一性、および色シフト（Δｘ、Δｙ）を、各試料について測定した。これらの測定の結果を、下記の表１に一覧にする。各配置構成によって生じた光ビームの画像を、図９Ａから図９Ｅに図示した。最後に、ＬＧＰから発された光の正規化された線束を、ＬＥＤの中心線からの距離の関数として測定し、図１０にプロットした。

上記の表１によって示されるように、実施例４から実施例５のＬＧＰ（パターン付けされた微細構造を発光表面の反対側の主表面に含む）は、発光表面に微細構造を有しかつ反対側の主表面に抽出形体を有するＭＳのＬＧＰおよびガラスのＬＧＰ（実施例１および実施例３）に比べて、同等の光学性能を示す。図９Ａから図９Ｅに呈示された画像も、これらの実施例について同等の局所減光効率を反映するとともに、実施例１および実施例３から実施例５のそれぞれは、２３０ｍｍの半値全幅（ＦＷＨＭ）値を示し（図１０の曲線Ａ）、この値は、微細構造化表面を持たない実施例２の３００ｍｍのＦＨＷＭ値（図１０の曲線Ｂ）よりも著しく狭い。

本明細書に開示された方法を用いれば、単一の予め製作された型を用いて、ＬＧＰの表面に、微細構造と光抽出形体とを同時に付与することができ、それは、微細構造化と抽出形体の印刷とを別々のステップとするのに比べて、より単純であるおよび／またはより費用対効果が高いことがある。さらに、この微細構造および抽出形体は、ＬＧＰの単一の表面に形成することができ、それによって、ＬＧＰの反対側の表面に配置構成を追加することが可能になる。最終的には、そのようなパターン付けされた微細構造の表面を含むＬＧＰは、一方の表面に微細構造を有しかつ反対側の表面に抽出形体を有するＬＧＰと同等の光学性能および／または局所減光効率を有することができる。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
（ａ）縁端表面と、発光する第１の主表面と、反対側の第２の主表面とを有する、透明基板、および
（ｂ）該透明基板の第２の主表面に配置されるポリマー薄膜であって、複数の光抽出形体をパターン付けされた複数の微細構造を含むポリマー薄膜
を含む導光板。

実施形態２
約０．０１５未満の色シフトΔｙを含む、実施形態１に記載の導光板。

実施形態３
前記透明基板がガラス基板を含む、実施形態１から２のいずれかに記載の導光板。

実施形態４
前記ガラス基板が、モル％酸化物ベースで、
５０から９０モル％のＳｉＯ_２、
０から２０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、
０から２０モル％のＢ_２Ｏ_３、および
０から２５モル％のＲ_ｘＯ
を含み、
式中、ｘが２であり、Ｒが、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、およびそれらの組合せから選択されるか、または式中、ｘが１であり、ＲがＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、およびそれらの組合せから選択される、
実施形態３に記載の導光板。

実施形態５
前記透明基板が、約１ｐｐｍ未満のＣｏ、Ｎｉ、およびＣｒのそれぞれを含む、実施形態１から４のいずれかに記載の導光板。

実施形態６
前記透明基板の厚さｄ_１が、約０．１ｍｍから約３ｍｍに及ぶ、実施形態１から５のいずれかに記載の導光板。

実施形態７
前記ポリマー薄膜の厚さｄ_２が約１０μｍから約５００μｍに及ぶ、実施形態１から６のいずれかに記載の導光板。

実施形態８
前記ポリマー薄膜が、ＵＶ硬化性または熱硬化性のポリマーを含む、実施形態１から７のいずれかに記載の導光板。

実施形態９
前記複数の微細構造が、プリズムの周期的または非周期的なアレイ、丸いプリズム、またはレンチキュラレンズを含む、実施形態１から８のいずれかに記載の導光板。

実施形態１０
前記複数の微細構造のうち少なくとも１つの微細構造が、約０．１から約３までに及ぶアスペクト比を含む、実施形態１から９のいずれかに記載の導光板。

実施形態１１
前記複数の光抽出形体のうち少なくとも１つの光抽出形体が、三角形、台形、または放物線状の横断面を有する、実施形態１から１０のいずれかに記載の導光板。

実施形態１２
前記複数の光抽出形体中の少なくとも１つの光抽出形体が、約１００μｍ未満の寸法を有する、実施形態１から１１のいずれかに記載の導光板。

実施形態１３
実施形態１から１２のいずれかに記載の導光板に光学的に連結された少なくとも１つの光源を含む導光アセンブリ。

実施形態１４
実施形態１から１２のいずれかに記載の導光板または実施形態１３に記載の導光アセンブリを含む、ディスプレイデバイス、照光デバイス、または電子デバイス。

実施形態１５
（ａ）ポリマー材の層を透明基板の表面に適用すること、
（ｂ）該ポリマー材を成形して、複数の光抽出形体をパターン付けした複数の微細構造を生じること
を含む、導光板を形成するための方法。

実施形態１６
前記表面が、前記透明基板の発光表面の反対側の主表面である、実施形態１５に記載の方法。

実施形態１７
ポリマー材の層を適用することが、スクリーン印刷を含む、実施形態１５から１６のいずれかに記載の方法。

実施形態１８
前記ポリマー材を成形することが、微細複製、ＵＶエンボス加工、熱エンボス加工、および高温エンボス加工のうち少なくとも１つを含む、実施形態１５から１７のいずれかに記載の方法。

実施形態１９
（ａ）微細構造パターンを含む第１のテンプレートをレーザーで損傷して、光抽出パターンを含む改変テンプレートを生じること、
（ｂ）該改変テンプレートを用いて第２のテンプレートをインプリントして、成形型を形成すること
によって成形型を製造することをさらに含む、実施形態１５から１８のいずれかに記載の方法。

実施形態２０
前記ポリマー材を成形することが、前記成形型を前記ポリマー材の層に適用することを含む、実施形態１９に記載の方法。

実施形態２１
（ａ）成型テンプレート中に微細構造パターンをインプリントして、逆の微細構造パターンを含むネガテンプレートを形成すること、
（ｂ）第１の材料を該ネガテンプレートに適用すること
（ｃ）該第１の材料の少なくとも一部を除去して、逆の微細構造パターンと暫定的な逆の光抽出パターンとを有する逆のテンプレートを形成すること、
（ｄ）該逆のテンプレートを用いて第２のテンプレートをインプリントして、中間テンプレートを形成すること、および
（ｅ）該中間テンプレートを用いて第３のテンプレートをインプリントして、成形型を形成すること
によって成形型を作出することをさらに含む、実施形態１５から１８のいずれかに記載の方法。

実施形態２２
前記第１の材料が、フォトレジスト材であり、前記フォトレジスト材の一部が、リソグラフィ手法によって選択的に除去される、実施形態２１に記載の方法。

実施形態２３
前記ポリマー材を成形することが、前記成形型を前記ポリマー材の層に適用することを含む、実施形態２１に記載の方法。

実施形態２４
実施形態１５から２３のいずれかに記載の方法に従って作製された導光板。

実施形態２５
実施形態２４に記載の導光板に光学的に連結された少なくとも１つの光源を含む、導光アセンブリ。

実施形態２６
実施形態２４に記載の導光板または実施形態２５に記載の導光アセンブリを含む、ディスプレイデバイス、照光デバイス、または電子デバイス。

１００ 導光板
１１０ 透明基板
１２０ ポリマー薄膜
１３０ 微細構造
１３２ プリズム
１３４ 丸いプリズム
１３５ 光抽出形体
１３６ レンチキュラレンズ
１４０ 光源
１５０ 縁端表面
１６０ 発光表面
１７０ 主表面
１８０ 第１のテンプレート
１８１ 微細構造パターン
１８２ 改変テンプレート
１８３ 光抽出パターン
１８４ 成形型
１８５ ネガテンプレート
１８６ 逆の微細構造パターン
１８７ 第１の材料
１８８ 逆のテンプレート
１８９ 逆の光抽出パターン
１９０ ＵＶ照射
１９１ マスク
１９２ 照射部分
１９３ 非曝露部分
１９４ 中間テンプレート

Claims (14)

1. （ａ）縁端表面と、発光する第１の主表面と、反対側の第２の主表面とを有する、透明基板、および
   （ｂ）該透明基板の第２の主表面に配置されるポリマー薄膜であって、複数の光抽出形体をパターン付けされた複数の微細構造を含むポリマー薄膜
   を含む導光板。
2. 約０．０１５未満の色シフトΔｙを含む、請求項１に記載の導光板。
3. 前記透明基板がガラス基板を含む、請求項１または２に記載の導光板。
4. 前記ガラス基板が、モル％酸化物ベースで、
   ５０から９０モル％のＳｉＯ_２、
   ０から２０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、
   ０から２０モル％のＢ_２Ｏ_３、および
   ０から２５モル％のＲ_ｘＯ
   を含み、
   式中、ｘが２であり、Ｒが、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、およびそれらの組合せから選択されるか、または式中、ｘが１であり、ＲがＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、およびそれらの組合せから選択される、
   請求項３に記載の導光板。
5. 前記透明基板が、約１ｐｐｍ未満のＣｏ、Ｎｉ、およびＣｒのそれぞれを含む、請求項１から４のいずれかに記載の導光板。
6. 前記透明基板の厚さｄ_１が、約０．１ｍｍから約３ｍｍに及ぶ、請求項１から５のいずれかに記載の導光板。
7. 前記ポリマー薄膜の厚さｄ_２が約１０μｍから約５００μｍに及ぶ、請求項１から６のいずれかに記載の導光板。
8. 前記ポリマー薄膜が、ＵＶ硬化性または熱硬化性のポリマーを含む、請求項１から７のいずれかに記載の導光板。
9. 前記複数の微細構造が、プリズムの周期的または非周期的なアレイ、丸いプリズム、またはレンチキュラレンズを含む、請求項１から８のいずれかに記載の導光板。
10. 前記複数の微細構造のうち少なくとも１つの微細構造が、約０．１から約３までに及ぶアスペクト比を含む、請求項１から９のいずれかに記載の導光板。
11. 前記複数の光抽出形体のうち少なくとも１つの光抽出形体が、三角形、台形、または放物線状の横断面を有する、請求項１から１０のいずれかに記載の導光板。
12. 前記複数の光抽出形体中の少なくとも１つの光抽出形体が、約１００μｍ未満の寸法を有する、請求項１から１１のいずれかに記載の導光板。
13. 請求項１から１２のいずれかに記載の導光板に光学的に連結された少なくとも１つの光源を含む導光アセンブリ。
14. 請求項１から１２のいずれかに記載の導光板または請求項１３に記載の導光アセンブリを含む、ディスプレイデバイス、照光デバイス、または電子デバイス。

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