KR102015610B1 - 유리 도광판 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고온 안정성을 가지며 박형화에 용이한 유리 도광판을 개시한다. 본 발명에 따른 유리 도광판은, SiO2 75 ~ 85 wt%, B2O3 5 ~ 20 wt%, Al2O3 1 ~ 5 wt%, R2O 3 ~ 8 wt% (여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나), 및 Fe2O3 < 0.0025 wt%를 함유하는 유리판을 포함한다.

Description

유리 도광판{Glass light guide plate}
본 발명은 유리 도광판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 붕규산 유리를 이용한 유리 도광판과 이를 포함한 백라이트 유닛 및 디스플레이 장치, 그리고 그 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 노트북, 데스크탑 컴퓨터, TV와 같은 디스플레이 장치에는 경박단소화 및 저소비전력을 실현할 수 있는 장점으로 인해 액정 디스플레이(LCD)가 주로 이용되고 있다. 그런데 LCD는 스스로 빛을 내는 소자가 아니라 수광 소자이므로 액정 화면 외에 백라이트 유닛을 필요로 한다.
도 1은 종래 기술에 따른 LCD의 일부분에 대한 개략적인 단면도이다.
도 1을 참조하면, 종래 LCD(1)는 액정 패널(10), 백라이트 유닛(20), 커버 바텀(cover bottom, 30), 가이드 패널(40) 및 상부 케이스(50)를 포함한다.
액정 패널(10)은, 액정층을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 기판(12)과 컬러 필터 기판(14)으로 구성된다. 또한, 액정 패널(10)의 하면과 상면으로는 편광부재(16, 18)가 부착될 수 있다.
백라이트 유닛(20)은 반사 시트(21), 액정 패널(10)에 광을 제공하는 광원(23), 도광판(25), 복수 개의 광학 시트(27) 및 광원(23)을 지지하는 하우징(29)을 포함한다.
커버 바텀(30)은, 내부에 수납 공간이 형성되어 광원(23), 반사 시트(21), 도광판(25) 및 광학 시트(27)를 수납하는 동시에 가이드 패널(40)을 지지한다. 또한, 가이드 패널(40)은, 액정 패널(10)을 지지하기 위한 것으로서, 도 1에 도시된 바와 같이 액정 패널(10)을 지지하는 패널 지지부와 백라이트 유닛(20)을 감싸는 측벽으로 이루어질 수 있다. 상부 케이스(50)는 액정 패널(10)의 상면 가장자리 부분을 감싸는 동시에 가이드 패널(40) 및 커버 바텀(30)의 측면을 감싸도록 구성된다.
이러한 종래 디스플레이 장치의 구성에 있어서, 도광판(25)은 상기 광원(23)으로부터 입사하는 광을 액정 패널(10) 방향으로 출사하기 위한 것으로서 주로 PMMA(Poly Methyl MethAcrylate)나 PC(Poly Carbonate) 같은 고분자 소재로 형성된다. 이러한 도광판(25)은, 백라이트 유닛(20) 부품 중 측면 광원(23)에서 나오는 빛을, 손실을 최소화하면서 상면 방향으로 고르게 분산함으로써 면 광원으로 만들어야 하는 핵심 부품이다.
그런데, 기존에 도광판(25)에 주로 사용하는 물질인 PMMA 등은 고온에서 형태가 변형되고 유해한 휘발성 유기화합물 등이 발생하는 문제점이 있다. 그리고, 열팽창 계수(CTE ; Coefficient of Thermal Expansion)가 약 50 ~ 100×10-6/K 로 높아, 액정 패널(10)의 비표시 영역인 베젤(bezzel) 부분의 폭을 감소시키는 데 한계가 있다. 뿐만 아니라, 고분자인 관계로 기계적 강도가 낮아 이를 보강하기 위한 금속 프레임인 가이드 패널(40)을 추가로 이용하고 있다. 또한, PMMA는 백라이트 유닛(20) 내부에서 광학 특성을 발휘하기 위해 적어도 3.5 mm의 두께가 필요하여, LCD(1)의 박형화에 한계가 되고 있다.
따라서, 사용 과정에서 고온 환경이 조성되더라도 변형이 되지 않고 유독한 기체가 발생하지 않는 등 고온 안정성을 가지고, 열팽창 계수가 낮으며, 기계적 강도가 높아 금속 프레임 등을 필요로 하지 않고, 디스플레이 장치 박형화에 유리한 도광판 및 그 제조 기술이 요구되고 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 고온 안정성을 가지며 박형화에 용이한 유리 도광판 및 이를 포함하는 백라이트 유닛과 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있으며, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 유리 도광판은, SiO2 75 ~ 85 wt%, B2O3 5 ~ 20 wt%, Al2O3 1 ~ 5 wt%, R2O 3 ~ 8 wt% (여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나), 및 Fe2O3 < 0.0025 wt%를 함유하는 유리판을 포함한다.
여기서, 상기 유리판은, 청징제로서 SO3 혹은 Cl을 0 ~ 0.5 wt% 더 함유할 수 있다.
또한, 상기 유리판은, SiO2, B2O3, Al2O3, R2O, Fe2O3, SO3 및 Cl의 합계 함유량이 100 wt%일 수 있다.
또한, 상기 유리판은, K2O > 0.1 wt%일 수 있다.
또한, 상기 유리판은, 2 mm 두께 기준으로 가시광(380 nm ~ 780 nm) 투과율이 92.5 % 이상일 수 있다.
또한, 상기 유리판은, 굴절율이 1.49 이하일 수 있다.
또한, 상기 유리판은, 두께가 2 mm 이하일 수 있다.
또한, 상기 유리판은, 상기 조성을 갖는 유리가 화학적 강화 처리되어 표면에 압축 응력층을 구비할 수 있다.
또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 백라이트 유닛은, 본 발명에 따른 유리 도광판을 포함할 수 있다.
또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 본 발명에 따른 유리 도광판을 포함할 수 있다.
또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 유리 도광판 제조 방법은, SiO2 75 ~ 85 wt%, B2O3 5 ~ 20 wt%, Al2O3 1 ~ 5 wt%, R2O 3 ~ 8 wt% (여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나), 및 Fe2O3 < 0.0025 wt%를 함유하도록 유리 원료를 조합하고 용융하는 단계; 및 상기 용융된 유리 원료를 유리판으로 성형하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 붕규산 유리 조성을 갖는 유리 도광판이 제공될 수 있다.
특히, 본 발명의 일 측면에 의하면, PMMA 등의 기존 고분자 재질의 도광판에 비해 고온에서도 형태가 쉽게 변형되지 않으며 유해한 휘발성 유기화합물 등이 발생하지 않을 수 있다.
또한, 본 발명의 일 측면에 의하면, 기존 고분자 재질의 도광판에 비해 도광판의 두께를 얇게 할 수 있으며, 이러한 얇은 두께에도 기계적 물성을 안정적으로 확보할 수 있다.
따라서, 본 발명의 일 측면에 의하면, 기존 고분자 재질의 도광판과 금속 프레임을 대체할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 붕규산 유리 도광판은, 강성이 크므로 기존에 LCD 모듈의 기계적 강성을 유지하기 위해 사용하여야 했던 커버 바텀 또는 이를 대체하는 ACM(aluminum composite material) 또는 GCM 백 커버(back cover)의 삭제가 가능하다. 또는 기존의 ACM, GCM을 대체할 수 있는 필름, 고분자, 플라스틱, 금속 등의 적용이 가능하다.
더욱이, 본 발명에 따른 유리 도광판의 경우, 화학적으로 강화시킨 유리가 사용될 수 있는데, 이 경우 유리의 강성이 더욱 커지므로 기존 디스플레이 장치에서 강성을 보강하기 위해 이용되던 커버 바텀이나, ACM 또는 GCM 백 커버 등의 삭제가 보다 용이해질 수 있다.
또한, 이러한 유리 도광판의 경우, 유리의 낮은 열팽창 계수로 인해 외부의 온도 변화에 대한 팽창율이 작아 변형이 거의 없다. 따라서, 이러한 유리를 이용한 도광판은 베젤 부분의 폭을 감소시키는데 유리하다.
이처럼, 본 발명에 따른 붕규산 유리 조성의 유리 도광판은 고온 안정성을 가지고, 열팽창 계수가 낮으며, 기계적 강도가 높다는 등의 특성을 가지므로, 이러한 특성을 필요로 하는 분야에 널리 이용될 수 있으며, 바람직하게는 LCD의 도광판으로 이용될 수 있다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은, 종래 기술에 따른 LCD의 일부분에 대한 개략적인 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 도광판의 구조를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유리 도광판의 구조를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 5는, 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 도광판의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 6은, 본 발명의 실시예에 따른 유리의 투과율 측정 그래프이다.
도 7은, 비교예에 따른 유리의 투과율 측정 그래프이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상에 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 도광판의 구조를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 유리 도광판은, 하나의 유리판을 포함할 수 있다. 특히, 유리 도광판은 하나의 유리판으로만 구성될 수도 있다. 즉, 유리판 자체가 유리 도광판이 될 수 있다.
유리 도광판에 포함된 메인 구성인 유리판은, SiO2와 B2O3를 주성분으로 하는 붕규산 유리로 이루어질 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)을 구성하는 붕규산 유리판(110)의 조성은 SiO2 75 ~ 85 wt%, B2O3 5 ~ 20 wt%, A12O3 1 ~ 5 wt%, R2O 3 ~ 8 wt% (여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나), 및 Fe2O3 < 0.0025 wt%를 포함한다. 여기서, 각 조성의 함량은, 유리판에 포함된 전체 조성, 이를테면 산화물의 종중량에 대한 해당 조성의 중량비를 나타낸다고 할 수도 있다.
상기 붕규산 유리판(110)은, 75 ~ 85 wt%의 SiO2를 함유할 수 있다. SiO2는 유리를 형성하는 네트워크 구조 생성체 산화물로서, 유리의 화학적 내성을 증가시키고, 유리의 주변 재료와 정합될 수 있는 적절한 열팽창 계수를 갖도록 하는데 기여할 수 있다. 하지만, SiO2가 지나치게 높게 함유되는 경우, 유리의 용융이나 성형이 어려워지고 점성이 상승하여 유리의 청징 및 균질화가 곤란해질 수 있다. 그리고, 열팽창 계수가 지나치게 낮아지며 유리가 투명성을 상실하기 쉬울 수 있다. 반면, SiO2가 지나치게 낮게 함유되는 경우, 화학적 내성이 감소되고 밀도가 커지며, 열팽창 계수가 커지고 변형점이 저하될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리(110)는, 75 wt% 이상, 85 wt% 이하의 SiO2를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리(110)는, 80 ~ 85 wt%의 SiO2를 포함할 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 유리 도광판용 붕규산 유리는, 80 wt% 이상의 SiO2를 포함할 수 있다. 더욱이, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은, 81 wt% 이상의 SiO2를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은, 82 wt% 이상, 많게는 84wt% 이상의 SiO2를 포함할 수 있다.
이러한 SiO2 조성 범위에서 도광판으로 제조 및 사용하기 적합한 정도의 화학적 내성, 열팽창 계수, 밀도 등을 얻을 수 있다. 특히, 이러한 SiO2 조성 범위에서, 유리 도광판의 가시광(380 nm ~ 780 nm) 투과율이 더욱 향상될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리(110)는, B2O3를 5 ~ 20 wt% 포함할 수 있다. B2O3는 유리의 네트워크 구조 생성체 산화물로서, 유리의 용해 반응성을 좋게 하고, 열팽창 계수를 작게 하며, 내실투성을 향상시키고 내BHF성과 같은 화학적 내성을 좋게 하고, 밀도를 낮추는 데 기여할 수 있다(BHF : SiOx나 SiNx의 에칭을 위한 버퍼드 불산, 불산과 불화암모늄의 혼합액). 하지만, B2O3가 지나치게 높게 함유되는 경우, 유리의 내산성이 떨어질 수 있고, 밀도가 높아지며 변형점이 낮아져 내열성이 열화될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 유리판(110)은 5 wt% 이상, 20 wt% 이하의 B2O3를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 6 wt% 이상, 더 바람직하게는 8 wt% 이상의 B2O3를 포함할 수 있다. 더욱이, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 9 wt% 이상, 또는 9.5 wt% 이상의 B2O3를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 붕규산 유리판(110)은, 10 wt% 이상, 많게는 12 wt% 이상의 B2O3를 포함할 수도 있다.
또한 바람직하게는, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 15 wt% 이하의 B2O3를 포함할 수 있다. 더욱이, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 14 wt% 이하의 B2O3를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 13 wt% 이하, 또는 11 wt% 이하, 또는 10 wt% 이하의 B2O3를 포함할 수 있다.
본 발명의 이러한 B2O3 조성 범위에 의하면, 비교적 높은 SiO2 함량으로 인해 저하된 용융성을 보완해줄 수 있고, 도광판으로 제조 및 사용하기에 우수한 정도의 가시광 투과성, 화학적 내성, 내열성, 열팽창 계수를 얻을 수 있게 한다.
또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, Al2O3를 1 ~ 5 wt% 포함할 수 있다. Al2O3는 유리의 고온 점도, 화학 안정성, 내열충격성 등을 증가시키며 변형점 및 영률 등을 높이는데 기여할 수 있다. 하지만, Al2O3가 지나치게 높게 함유되는 경우, 내실투성, 내염산성 및 내BHF성을 떨어뜨리고 점도를 증가시킬 수 있다. 반면, Al2O3가 지나치게 낮게 함유되는 경우, 그 첨가 효과가 제대로 달성되기 어렵고 영률이 낮아질 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 도광판(100)의 붕규산 유리(110)는, 1 wt% 이상, 5 wt% 이하의 Al2O3를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 상기 붕규산 유리판(110)은, 3 wt% 이하의 Al2O3를 포함할 수 있다. 더욱이, 상기 붕규산 유리판(110)은, 2 wt% 이하, 적게는 1.5 wt% 이하의 Al2O3를 포함할 수 있다. 이러한 Al2O3 조성 범위는 도광판으로 사용하기에 적합한 탄성계수, 화학 안정성, 내열성, 내충격성 등 기계적인 강성 부분이나 가시광 투과율 등에서 원하는 물성을 얻을 수 있게 한다.
또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, R2O를 3 ~ 8 wt% 포함할 수 있다(여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나). 특히, R2O 중 K2O는 > 0.1 wt%일 수 있다.
R2O는 질산 칼륨(KNO3) 용액 등에서 화학 강화 처리 공정시 이온 교환되는 성분이며, 유리의 용융성, 성형성 내지 내실투성을 향상시키고 유리의 고온 점도를 저하시키며 크랙 발생률을 저감시키는 데 기여할 수 있다. 하지만, R2O가 지나치게 높게 함유되는 경우, 유리의 열팽창 계수가 지나치게 커져 주변 재료와 정합되기 어렵고 내실투성 및 내열충격성이 저하될 수 있다. 반면, R2O가 지나치게 낮게 함유되는 경우, 그 첨가 효과가 달성되기 어렵고 화학 강화 처리 공정에서 이온 교환 성능이 떨어질 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 도광판(100)의 붕규산 유리(110)는, Li2O, Na2O 및 K2O의 합계 함유량인 R2O 함량이 3 wt% 이상, 8 wt% 이하일 수 있다.
바람직하게는, 상기 붕규산 유리판(110)은, 3.5 wt% 이상의 R2O를 포함할 수 있다. 더욱이, 상기 붕규산 유리판(110)은, 4 wt% 이상의 R2O를 포함할 수 있다.
또한, 상기 붕규산 유리판(110)은, 7 wt% 이하의 R2O를 포함할 수 있다. 더욱이, 상기 붕규산 유리판(110)은, 5 wt% 이하, 보다 적게는 4.5wt% 이하의 R2O를 포함할 수 있다.
상기와 같은, R2O 조성 범위에 의하면, 도광판으로 제조 및 사용하기에 적합한 정도의 용융성, 성형성, 내열충격성, 이온 교환 성능, 가시광 투과율 등을 얻기에 유리하다.
여기서, 상기 붕규산 유리판(110)은, 7 wt% 이하의 Na2O를 함유할 수 있다. 예를 들어, 상기 붕규산 유리판(110)은, 1 ~ 7 wt%의 Na2O를 함유할 수 있다. 더욱이, 상기 붕규산 유리판(110)은, 6 wt% 이하, 적게는 3 wt% 이하의 Na2O를 함유할 수 있다.
그리고, 상기 붕규산 유리판(110)은, Li2O를 함유하지 않을 수 있다.
특히, 상기 R2O에서 K2O는 유리의 고온 점도를 저하시켜, 유리의 용해성이나 성형성을 향상시킴과 동시에, 내실투성을 개선시킬 수 있다. 그러나, K2O의 함유율이 너무 높아지면, 열팽창 계수가 지나치게 커질 수 있다. 따라서, K2O는 2 wt% 이하, 보다 적게는 1wt% 이하로 함유될 수 있다. 또한, K2O는 0.1 wt%보다 많게 하는 것이 좋다. 즉, K2O 함량은 0.1 wt% 초과로 함유될 수 있다. 이러한 K2O 조성 범위에 의하면, 붕규산 유리판(110)이 도광판으로서 적절한 굴절율(너무 높지 않아 반사성을 높이지 않는 정도)을 갖도록 할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)에 포함된 붕규산 유리판(110)은, Fe2O3 < 0.005 wt%인 저철분 유리일 수 있다. 일반적으로 투명한 유리라 하더라도 연한 녹색을 띄는 특성이 있다. 이것은 유리의 기본적인 원료인 규사에 소량의 철분(Fe)이 포함되어, 유리판에도 그러한 철분이 그대로 포함될 수 있기 때문이다. 일반적인 유리에 비해 더 투명한 유리를 얻기 위해서는 원료에 포함되어 있는 철분을 제거해야 하는데, 철분이 제거된 유리는 자체의 색이 거의 없고 투명하다고 볼 수 있다. 산화물 기준 wt% 표시로, Fe2O3의 함량을 0.005 wt% 미만으로 하기 위해서는, 불순물 정제 공정이 필요할 수 있다. Fe2O3를 제거하는 것이 가장 이상적이기는 하지만 Fe2O3를 정제하는 데에는 고비용이 들므로 Fe2O3의 함량은 0.005 wt% 미만이 되도록 함이 바람직하고, 가능하다면 0.003 wt% 미만이 되는 것이 좋다. 더욱 바람직하게는, Fe2O3의 함량은 0.0025 wt% 미만이 좋다. 보다 적게는, Fe2O3의 함량은 0.002 wt% 미만, 더욱 적게는 0.0018 wt% 미만이 되도록 함이 더욱 바람직하다. 이와 같은 구성에 의하면, Fe2O3 함량이 적으므로, 이에 따라 유리가 변색되는 일이 없어, 이러한 붕규산 유리를 포함하는 유리 도광판(100)은 색 보정을 위한 광학 필름의 사용이 필요하지 않을 수 있다.
상기와 같은 조성의 붕규산 유리를 포함하는 유리 도광판(100)을 사용하면, 사용 과정에서 광원에 의하여 고온 환경이 조성되더라도 휘발성 유기화합물 등이 배출되지 않고, 외부의 습기나 열에 의해 변형이 잘 안 되며, 기계적 강도가 우수하므로, 종래의 고분자 재질 도광판에 비해 많은 이점을 가질 수 있다.
또한, 상기 붕규산 유리판(110)은, 청징제로서 SO3 혹은 Cl을 더 포함할 수 있다. 이때, SO3 혹은 Cl은, 0 ~ 0.5 wt% 포함될 수 있다. 더욱이, 상기 붕규산 유리판(110)은, SO3 혹은 Cl을 0.1 wt% 이하, 적게는 0.05 wt% 이하 포함할 수 있다. 보다 적게는, 상기 붕규산 유리판(110)은, SO3 혹은 Cl을 0.02 wt% 이하로 포함할 수 있다. 또는, 상기 붕규산 유리판(110)은, SO3 혹은 Cl을 전혀 포함하지 않을 수도 있다.
유리 도광판에 사용되기 위한 붕규산 유리판(110)은 내부 및 표면에 결점(기포, 맥리, 인클루젼, 피트, 흠집 등)이 없어야 한다. 이를 위해, 유리 도광판의 유리판 제조 과정에서는 청징제를 첨가하여 유리를 용해 및 청징할 수 있다. 이때, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 상기 언급한 바와 같이, 청징제로서 SO3 혹은 Cl을 0 ~ 0.5 wt% 포함할 수 있다. 이 함유량은, 유리 원료에 있어서의 투입량이라기보다는, 유리 융액 중에 잔존하는 양이고 또한 제조 후 유리에 존재하는 양일 수 있다. 이러한 청징제 및 그 함량은 유리 원료의 용해 시에 있어서의 청징 효과가 향상되도록 하고, 청징 후 교반시에 발생할 수도 있는 리보일(재비등) 기포의 발생이 억제되도록 할 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)에 있어서, 상기 유리판(110)은, SiO2, B2O3, Al2O3, R2O, Fe2O3, SO3 및 Cl의 합계 함유량이 100 wt%일 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 유리 도광판의 유리판(110)은, 상술한 성분 이외에 다른 성분은 첨가되지 않고, 상기 언급한 성분만 포함될 수 있다. 이때, Fe2O3, SO3 및 Cl은, 그 중 일부만 함유되거나 모두 함유되지 않을 수 있다.
예를 들어, 본 발명에 따른 유리 도광판의 유리판(110)은, SiO2, B2O3, Al2O3, Na2O, K2O, Fe2O3 및 Cl만 함유되도록 구성될 수 있다.
본 발명의 이러한 구성에 의하면, 다른 원료가 추가로 첨가되지 않으면서도, 붕규산 유리에 대한 유리 도광판으로서 필요한 특성이 용이하게 얻어질 수 있다. 예를 들어, 상술한 조성에 따른 붕규산 유리판으로 제조되는 경우, 380 nm ~ 780 nm 범위의 가시광 투과율이 더욱 향상되면서도, 밀도, 굴절율 및 열팽창 계수가 낮고, 굽힘 강도가 높은, 유리 도광판이 얻어질 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)에서 유리판(110)은, 그 두께가 2mm 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 유리판(110)은, 그 두께가 1.8mm 이하일 수 있다.
본 발명의 이러한 구성에 의하면, 백라이트 유닛에 이용되는 도광판 자체의 두께를 줄일 수 있으므로, LCD와 같은 디스플레이 장치의 박형화 측면에서 유리할 수 있다. 특히, 본 발명에 따른 유리 도광판의 경우, 주요 성분이 붕규산 유리로서, 이와 같은 얇은 두께에도 충분한 광학 특성이 확보될 수 있다. 종래 고분자 재질의 도광판은 충분한 광학 특성을 확보하기 위해 3.5 mm 이상의 두께가 필요했으나, 본 발명에 따른 붕규산 유리 도광판의 경우, 2 mm 이하의 얇은 두께에도 광학 특성과 기계적 물성이 안정적으로 확보될 수 있다.
또한, 상기 유리판(110)은, 1mm 이상, 크게는 1.4mm 이상의 두께를 가질 수 있다. 본 발명의 이러한 구성에 의하면, 유리 도광판(100)의 광학 특성과 기계적 물성이 더욱 안정적으로 확보될 수 있다.
상기 도광판(100)에 포함되는 붕규산 유리판(110)의 조성은, 2 mm 두께 기준으로, 파장 영역이 380 nm ~ 780 nm인 가시광 투과율이 고분자 도광판보다 높게 유지될 수 있다. 특히, 상기 조성의 붕규산 유리판(110)은, 2 mm 두께 기준으로, 가시광 투과율이 92.5 % 이상이 될 수 있다. 더욱이, 본 발명의 일 측면에 따른 유리 도광판에 포함된 유리판의 경우, 가시광 투과율이 93% 이상이 될 수 있다.
본 발명의 이러한 특징에 의하면, 얇은 두께에서도 우수한 광학 특성을 갖는 유리 도광판이 제공되므로, 디스플레이 장치의 박형화 및 광학 성능 확보에 보다 유리하다고 할 수 있다.
또한, 상기 도광판(100)에 포함되는 붕규산 유리판(110)은, 굴절율이 1.49 이하가 될 수 있다. 더욱이, 상기 도광판(100)에 포함되는 붕규산 유리판(110)은, 굴절율이 1.47 이하, 특히 1.46 이하가 될 수 있다.
굴절율이 낮아지면, 람베리트-비어 법칙으로부터 유도되는 유리의 표면 반사가 적어져 유리로 입사되는 광량이 증가할 수 있다. 이는 동일한 광량을 사용하는 액정 모듈에서 화면의 밝기를 증가시키는 효과를 나타낼 수 있다. 또한, 이에 의하면, 액정 모듈 백라이트에 사용되는 LED 수를 줄일 수 있어, 모듈의 소비전력을 낮출 수 있도록 한다.
또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)에 포함되는 붕규산 유리판(110)은, 열팽창 계수가 7.0 ×10-6/K 이하가 될 수 있다.
바람직하게는, 상기 유리판(110)은, 열팽창 계수가 5.0 ×10-6/K 이하일 수 있다. 더욱 낮게는, 상기 유리판(110)은, 열팽창 계수가 4.0 ×10-6/K 이하, 특히 3.5 ×10-6/K 이하일 수 있다.
이러한 낮은 열팽창 계수는 온도 변화에도 붕규산 유리를 포함하는 유리 도광판(100)의 치수가 크게 변하지 않도록 할 수 있다. 따라서, 유리 도광판(100)을 높은 온도에 노출시키더라도 변형이 쉽게 일어나지 않으므로, 유리 도광판(100)을 높은 온도 범위에서도 처리할 수 있어 활용 범위가 확장될 수 있다. 예를 들어, 사용이나 제조 과정 중 높은 온도로 상승할 수 있는 디스플레이 장치에 대하여 본 발명에 따른 유리 도광판이 쉽게 적용될 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 밀도가 2.5g/cm3 이하일 수 있다. 특히, 본 발명의 일 측면에 따른 붕규산 유리판(110)은, 밀도가 2.3g/cm3 이하일 수 있다. 더욱이, 본 발명의 일 측면에 따른 붕규산 유리판(110)은, 밀도가 2.2g/cm3 이하일 수 있다. 이러한 실시예에 의하면, 유리의 밀도가 낮아 유리 제품의 경량화를 달성하는 데 용이할 수 있다. 특히, 유리가 적용되는 장치의 대형화로 유리의 면적이 점차 증가하고 있는 상황에서, 유리의 밀도가 낮아지면 유리의 자체 하중에 의한 휨 현상을 줄이고, 유리가 적용된 장치의 무게를 줄일 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 유리전이온도(glass transition temperature, Tg)가 500℃ 이상, 바람직하게는 520℃ 이상일 수 있다. 이러한 유리전이온도는 보통의 고분자에 비하여 매우 높다. 따라서, 본 발명에 따른 유리 도광판의 경우, 종래의 고분자 도광판에 비해 내열성이 더욱 우수하다고 할 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 작업 온도(T4, 점도 104dPas에서의 온도)가 1,270℃ 이하, 특히, 1,250℃ 이하일 수 있다. 본 발명의 이러한 측면에 의하면, 유리판의 가공 온도와 관련된 T4가 낮기 때문에 유리판의 가공이 용이해지고 에너지 및 시간이 단축될 수 있으며, 유리판의 생산성이 향상될 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 탄성계수(영률)가 60 GPa 이상, 바람직하게는 65 GPa 이상일 수 있다. 이 경우, 유리 도광판(100)의 탄성계수가 커질 수 있으므로, 유리 도광판의 두께를 얇게 하더라도 원하는 기계적 강도를 얻을 수 있다. 특히, 이 경우, 기존 고분자 재질의 도광판에 비해, 동일 두께 기준으로 훨씬 우수한 기계적 강성이 부여될 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 포아송 비(가로 세로 변형 비)가 0.23 이하, 바람직하게는 0.2 이하일 수 있다. 여기서, 포아송 비는, 물체에 수직응력이 작용할 때 나타난 횡변형률(lateral strain, ε d ) 대 종변형률(longitudiual strain, ε l )의 비를 의미하는데, 쉽게 말하면 길이가 늘어난 것에 대한 옆으로 줄어든 비를 의미한다. 단순 인장 응력이 가해질 때 완전한 비압축성 고체의 포아송 비는 0.5이며 강철에 대해서는 약 0.3, 콘크리트의 경우는 0.1에서 0.2, 코르크는 거의 0에 가까운 값을 갖는다.
유리의 중앙 장력, 압축 응력은, 포아송 비, 열팽창 계수, 탄성계수 등에 관련된다고 할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 유리 도광판의 경우, 상술한 범위의 포아송 비, 열팽창 계수 및 탄성계수를 가짐으로써, 적절한 중앙 장력 및 압축 응력 등을 가질 수 있으며, 이로 인해 도광판이라는 부품으로 사용되기에 적합할 수 있다.
본 발명에 따른 붕규산 유리판(110)은, 굽힘 강도(flexural strength), 즉 휨 강도가 100 MPa 이상으로 형성될 수 있다. 특히, 상기 붕규산 유리판(110)은, 굽힘 강도가 110 MPa 이상, 또는 115MPa 이상, 많게는 130MPa 이상으로 형성될 수 있다. 이러한 실시예에 의하면, 유리 도광판의 휨 강도가 커서 쉽게 휘어지지 않음으로써, 도광판의 박형화에 유리할 수 있다.
상기와 같은 포아송 비, 열팽창 계수, 탄성계수 및/또는 굽힘 강도의 범위에서, 본 발명에 따른 유리판(110)은 두께가 2 mm 이하이어도 도광판(100)으로서의 기계적 강도를 안정적으로 유지할 수 있다. 더욱이, 강화 처리를 하지 않은 모 유리 상태라면 유리판(110)의 두께가 1.4 mm 이상 2 mm 이하의 범위로 조절될 수 있어, LCD의 박형화 측면에서 매우 유리하다고 할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 붕규산 유리판(110)은, 상기와 같은 조성의 붕규산 유리가 화학적으로 강화 처리된 강화 유리일 수 있다. 본 발명에 따른 붕규산 유리판의 화학적 강화 처리는, 질산칼륨 등의 용액에 유리 기판을 침지시켜 유리 기판에서 이온 교환이 일어나도록 하는 등의 방식으로 수행될 수 있다. 또는, 이러한 유리판의 화학적 강화 처리는, 다른 다양한 방식으로 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 유리판(110)은, 이온 교환 성능이 양호하게 확보될 수 있도록 하는 적절한 조성을 가짐으로써, 화학적 강화 처리에 적합하여 기계적 강도를 향상시키는데 보다 유리할 수 있다.
이처럼, 본 발명에 따른 유리 도광판의 유리판(110)은 강화 유리로서, 화학적 강화 처리에 의해 표면에 압축 응력층을 구비할 수 있다. 이 경우, 본 발명에 따른 유리판(110)의 압축 응력층의 두께(DOL)는 10 um를 초과할 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 붕규산 유리는, 화학적 강화 처리 시, 형성된 압축 응력층 두께가 10 um를 초과할 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 압축 응력층의 두께는 20 um를 초과할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 압축 응력층의 두께는 30 um를 초과할 수 있다. 이러한 실시예에 의하면, 압축 응력층의 두께가 두꺼우므로, 강화 유리의 기계적 강도가 향상될 수 있다. 특히, 압축 응력층 두께가 두꺼우면, 어느 정도 깊이의 손상에도 유리가 파손되지 않을 수 있다.
이렇게 화학 강화 처리까지 한 붕규산 유리(110)라면 두께가 2 mm 이하, 적게는 1.6 mm 이하이어도 도광판(100)으로서의 기계적 강도를 유지하도록 할 수 있다. 압축 응력층의 두께와 압축 강도에 따라 달라질 수는 있지만, 화학 강화 처리까지 한 붕규산 유리(110) 두께는 1.4 mm 이상 1.6 mm 이하의 범위로 조절될 수 있어, LCD의 박형화 측면에서 더욱 유리하다고 할 수 있다.
또한, 상술한 조성을 갖는 붕규산 유리가 채용된 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은, 색 보정을 위한 광학 필름의 사용이 필요하지 않을 수 있다. 기존에도 유리 재질의 도광판이 제안된 바 있으나, 기존의 유리 도광판의 조성은 광원의 광이 입사되는 입광부와 입광부의 반대편인 반입광부 사이의 색좌표 차이 및 색감차가 발생하게 되어 LCD의 화상이 불량하게 되는 문제점이 있었다. 그러나, 본 발명에 따르면 이러한 문제를 발생시키지 않거나 그 정도를 줄일 수 있고, 따라서 색 보정을 위한 광학 필름을 전혀 사용하지 않을 수 있다.
본 발명에 따른 유리 도광판(100)은, LCD 등의 백라이트 유닛에 포함될 수 있다. 그리고, 이러한 유리 도광판(100)은, 측면에 존재하는 광원으로부터 측면에서 입사되는 빛을 확산시켜 전면 방향으로 조사할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은, 붕규산 유리판(110)의 하면에 입사광을 확산시켜 전면 방향으로 조사하는 광학 패턴(도면에 미도시)이 형성될 수 있다. 상기 광학 패턴은 요철화 또는 비드(bead) 입자 막코팅 등에 의하여 이루어질 수 있다. 기존에는 PMMA를 식각하거나 PMMA에 고분자막을 코팅하여 이러한 광학 패턴을 형성하였지만, 본 발명에서는 유리판(100)이 붕규산 유리로 이루어져 있으므로, 붕규산 유리(110) 제조 후 레이저 식각을 통해 이러한 광학 패턴을 형성하거나 고분자 패턴을 유리 표면에 프린팅하여 이러한 광학 패턴을 형성할 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유리 도광판의 구조를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 3에서, 유리 도광판(100)이 붕규산 유리판(110)을 포함하는 것은 앞의 실시예와 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 반복하지 않는다.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은, 측면에서의 빛 손실을 최소화하기 위하여, 빛이 입사되는 면(본 도면에서는 좌측면)을 제외한 다른 면들 중 적어도 일부 면에 반사막을 더 포함할 수도 있다. 예를 들어, 유리 도광판(100)은, 붕규산 유리판(110)의 측면과 하면에 각각, 측면 반사막(121)과 하면 반사막(122)이 구비될 수 있다. 여기서, 상기 반사막은, 예를 들어 산화 티타늄(TiO2)과 금속막을 포함하는 코팅층일 수 있다. 특히, 상기 금속막은, 은(Ag), 알루미늄(Al) 또는 크롬(Cr) 등의 금속을 코팅하여 이루어질 수 있다.
즉, 상기 측면 반사막(121) 및/또는 하면 반사막(122)은, 유리의 하면 및/또는 측면에 산화티타늄 재질의 버퍼층이 코팅되고, 그러한 버퍼층의 외표면에 은(Ag) 등의 금속층이 코팅된 다층 코팅막 형태로 구성될 수 있다. 이러한 코팅막은, 가시광선 영역의 빛이 유리 배면을 통해서 빠져나가는 것을 최소화하여 화면의 밝기가 극대화되도록 할 수 있다. 여기서, 산화 티타늄 재질의 버퍼층은 금속층과 유리 사이의 접착력을 향상시키는 버퍼의 역할을 하는 레이어라 할 수 있고, 실제 빛의 반사는 은(Ag) 등의 금속막에 의해 이루어진다고 할 수 있다.
상기 버퍼층은, 공정 및 유리의 종류 등에 따라서, 산화 티타늄 대신에 산화 실리콘층 혹은 질화 실리콘층 등으로 대체될 수 있다. 또한, 상기 금속층은 은 코팅막 대신에 알루미늄 코팅막 형태로 구성될 수 있다. 알루미늄 재질의 경우, 공기 중 산소와 반응하더라도 투명한 산화 알루미늄 피막이 형성되기 때문에, 금속층의 산화에 의한 반사 성능 저하를 줄일 수 있다.
또한, 본 발명에 일 실시예에 의하면, 상기 측면 반사막(121) 및/또는 하면 반사막(122)은, 내부 버퍼층, 금속층 및 외부 버퍼층을 구비하는 형태로 구성될 수 있다. 예를 들어, 상기 하면 반사막은, 붕규산 유리의 하면에 산화 티타늄 재질의 내부 버퍼층이 코팅되고, 내부 버퍼층의 외부 표면(하부 표면)에 은 재질의 금속층이 코팅될 수 있다. 또한, 이러한 금속층의 외부 표면(하부 표면)에 산화 티타늄 재질의 외부 버퍼층이 코팅될 수 있다. 이 경우, 유리판의 하면에는, 상부에서 하부 방향으로 내부 버퍼층, 금속층 및 외부 버퍼층이 순차적으로 적층된 형태의 3중 하면 반사막이 구비되어 있다고 볼 수 있다. 또한 이 경우, 내부 버퍼층과 외부 버퍼층으로 구성된 버퍼층 내부에 은 재질의 금속층이 매립된 형태로 구성되어 있다고 볼 수 있다.
본 발명의 이러한 구성에 의하면, 공기 중 산소와의 반응성이 다소 높은 은과 같은 금속 재질로 구성된 금속층이 외부로 노출되지 않으므로, 산화에 의한 성능 저하가 발생하는 것이 효과적으로 방지될 수 있다. 더욱이, 은 등의 금속 재질은 산소와의 반응성이 높은 반면 반사 특성이 매우 우수하므로, 반사막의 반사 성능을 우수하게 확보할 수 있다.
한편, 도시하지는 않았지만, 다른 예로, 붕규산 유리판(110)의 빛이 입사되는 면은 내측으로 오목하게 가공된 구조를 가질 수도 있다. 이러한 구성에 의하면, 붕규산 유리(110)의 광입사면의 표면적이 넓어질 수 있다. 따라서, 이 경우, 광원에 의하여 입사되는 빛의 표면적을 넓혀 휘도를 높일 수 있는 장점이 있다.
이때, 오목하게 가공된 구조를 형성하기 위해서는 적당한 구성 기계를 이용하여 프레스가 되거나 스탬프(stamped)가 되는 것과 같이 적합한 구성 기계(structuring device)를 이용하여 롤링하는 방법 등이 이용될 수 있다. 본 발명에 따른 붕규산 유리판(110)은, 점성(viscosity)이 상기 목적에 적합하게 되는 온도까지 가열되고, 상기 온도는 유리의 연화점(softening point)과 작용점(working point)의 사이가 될 수 있다.
본 발명에 따른 백라이트 유닛은, LCD와 같은 디스플레이 장치에 포함되는 구성요소로서, 상술한 바와 같은, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)을 포함할 수 있다. 즉, 상술한 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은, 백라이트 유닛에 적용될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)을 포함할 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 유리 도광판은, LCD와 같은 디스플레이 장치에 적용된다고 할 수 있다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 특히, 도 4는, 본 발명에 따른 백라이트 유닛이, LCD에 적용된 구성이라 할 수 있다.
도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 백라이트 유닛 및 액정 패널을 포함할 수 있다.
여기서, 백라이트 유닛은, 광원(200) 및 유리 도광판(100)을 포함할 수 있다.
상기 광원(200)은, 유리 도광판(100)의 일측에 구비되어, 빛을 조사하여 유리 도광판(100)에 입사되도록 할 수 있다. 예를 들어, 도 4의 도면에서, 상기 광원(200)은, 유리 도광판(100)의 좌측에 구비되어, 유리 도광판(100)의 좌측 모서리로 빛이 입사되도록 할 수 있다. 그리고, 입사된 빛은 유리 도광판(100) 내부를 경유하여 도광판의 상면을 통해 상부 방향으로 출사될 수 있다.
상기 광원(200)은, 빛을 발생시키는 구성요소로서, 종래 LCD의 백라이트 유닛 등에 채용되는 광원 등이 그대로 적용될 수 있다. 예를 들어, 상기 광원(200)은, 빛을 낼 수 있는 적어도 하나의 LED 칩과, 이러한 LED 칩을 수용하는 패키지를 포함할 수 있고, 이러한 광원은 회로기판 위에 배치되는 형태로 구성될 수 있다.
상기 유리 도광판(100)은, 광원(200)으로부터 방출된 광을 입광 측면으로 입사받아 상부 출광면으로 출사할 수 있다. 즉, 유리 도광판(100)은, 광원으로부터 제공받은 광을 상부의 액정 패널(300)로 균일하게 공급할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 백라이트 유닛에서, 유리 도광판(100)의 유리판(110)은, 상술한 조성 및/또는 물성을 가질 수 있다.
상기 유리 도광판(100)은, 넓은 2개의 표면, 즉 상면과 하면을 갖는 플레이트 형태로 구성될 수 있으며, 유리 재질로 구성된 유리판(110)을 포함할 수 있다.
상기 유리 도광판(100)은, 유리판(110)의 상면에 광학 시트(130)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 광학 시트(130)는, 유리판(110)으로부터 전달되는 빛을 확산하고 집광할 수 있다. 이러한 광학 시트(130)는, 확산 시트, 프리즘 시트, 보호 시트 등을 포함할 수 있다. 이때, 확산 시트는, 유리판(110)으로부터 입사되는 빛을 분산시켜서 빛이 부분적으로 밀집되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 프리즘 시트는, 일면에 삼각 기둥 모양의 프리즘이 일정한 배열을 갖는 형태로 형성될 수 있고, 확산 시트 상에 배치되어 확산 시트로부터 확산된 빛을 액정 패널에 수직한 방향으로 집광하는 역할을 수행할 수 있다. 그리고, 보호 시트는, 프리즘 시트 위에 형성되어, 프리즘 시트의 표면을 보호하고, 광을 확산시켜서 빛의 분포를 균일하게 할 수 있다.
여기서, 상기 유리 도광판(100)은, 유리판(110)의 상면에 1개 이상의 광학 시트(130)가 접합된 형태로 구성될 수 있다. 예를 들어, 확산 시트, 프리즘 시트 및 보호 시트 등은, 유리판(110)의 상면에 접착제를 이용하여 접착되어 고정된 형태로 구성될 수 있다.
본 발명에 따른 유리판의 경우, 강성이 우수하여, 이와 같이 광학 시트를 유리 도광판에 합착된 형태로 구성하는 것이 용이하게 구현될 수 있다. 본 발명의 이러한 구성에 의하면, 광학 시트가 유리 도광판에 합착된 일체형 광학 구조가 달성될 수 있으므로, 디스플레이 장치의 제조가 용이하고, 두께를 얇게 할 수 있다. 또한, 광학 시트들을 유리판에 적층된 상태로 고정하기 위한 별도의 구조물 등이 필요 없게 되어, 디스플레이 장치의 구조 간소화, 경량화 및 박형화에 더욱 유리해질 수 있다.
한편, 본 발명의 일 측면에 따른 디스플레이 장치는, 반사 시트(600)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 반사 시트(600)는 유리 도광판(100)의 하부와 백 커버(500)의 상부 사이에 배치되어, 유리 도광판(100)의 하부로 향하는 빛을 액정 패널(300)로 향하도록 반사시켜 빛의 효율을 향상시킬 수 있다.
여기서, 반사 시트(600)는, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET: PolyEthylene Terephthalate)로 이루어져 반사성을 가지도록 할 수 있다. 또한, 이러한 PET의 한쪽 표면에는, 티타늄 디옥사이드를 함유하는 확산층이 코팅될 수 있다. 그리고, 반사 시트(600)는, 예를 들어 은(Ag)과 같은 금속을 포함하는 재질로 형성될 수 있다. 다만, 앞서 도 3을 참조하여 설명한 본 발명의 일 측면에 따른 유리 도광판(100)의 경우, 그 자체로 하면 반사막(122)을 가질 수 있으며, 이 경우, 디스플레이 장치의 조립시 반사 시트(600)가 생략될 수 있다.
상기 액정 패널(300)은, 액정층을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터 기판을 구비할 수 있다. 그리고, 이러한 액정 패널(300)의 상부와 하부에는 각각, 상부 편광 필름(310)과 하부 편광 필름(320)이 장착될 수 있다. 그 밖에도, 하부 편광 필름(320)의 하부에는 이중휘도향상필름(330)이 더 구비될 수도 있다.
상기 액정 패널(300)의 경우, 본 발명의 출원 시점에 공지된 다양한 액정 패널이 채용될 수 있으며, 본 발명이 이러한 액정 패널의 구체적인 종류나 구조에 의해 특별히 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 경우, 백라이트 유닛과 액정 패널(300)을 측면에서 감싸는 미들 캐비닛(400) 및 이들을 바닥면에서 지지하는 백 커버(500)를 더 포함할 수 있다. 이때, 미들 캐비닛(400)과 백 커버(500) 사이에는, 해당 공간으로 수분이 침투하는 것을 방지하기 위해 접착 필름(510)이 개재될 수 있다.
앞서, 도 1을 참조하여 설명한 것처럼, 기존의 LCD(1)는, 액정 패널(10)을 고정하기 위해 가이드 패널(40)과 커버 바텀(30)이 사용될 수 있다. 하지만, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치의 경우, 종래의 커버 바텀 대신에 2.0 ~ 2.5 mm 두께의 알루미늄 합지품(ACM; aluminum composite material)이나 GCM이 백 커버(500)로서 사용될 수 있다. 그리고, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 유리 도광판(100)과 액정 패널(300)의 테두리를 감싸도록 구성된 미들 캐비닛(400)을 포함할 수 있다. 이때, 미들 캐비닛(400)은, 알루미늄 등의 금속 재질로 구성될 수 있다. 이와 같은 구성에 의하면, TV 제조사의 부품 추가 없이 LCD 모듈 자체로 TV 외관을 이룰 수 있어, 더 얇은 디스플레이 장치를 제조하는데 보다 유리하다고 할 수 있다.
더욱이, 본 발명에 따른 유리 도광판(100)의 경우, 기존의 PMMA 재질 도광판에 비하여 기계적 강성이 우수하므로 기존의 커버 바텀을 생략할 수 있을 뿐 아니라, 나아가 도 4의 구조에서의 백 커버(500)도 생략할 수 있다.
ACM, GCM과 같은 커버 바텀 대체 물질은 광원의 빛이 투과할 수 없는 불투명한 특성을 유지한다. 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은 붕규산 유리판(110)을 포함하므로 투명하다. 또한, 이러한 붕규산 유리판(110)은 고온 안정성을 가지고, 기존 고분자 재질의 도광판과 금속 프레임을 대체할 수 있는 기계적 물성을 가지기 때문에, ACM이나 GCM 재질의 백 커버(500)를 생략할 수 있다. 이 경우, 기존의 백 커버 대신에 그보다 얇은 두께를 갖는 필름 형태의 고분자 내지 플라스틱 재질의 투명막이 적용될 수도 있다. 예를 들어, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 백 커버 대신에 0.1 mm 이하의 두께를 갖는 고분자 필름이 유리 도광판(100)의 하면에 구비된 형태로 구성될 수 있다. 이 경우, 디스플레이 장치의 두께가 더욱 얇아질 수 있다.
또한, 붕규산 유리로 이루어진 유리 도광판(100)의 경우, 유리판(110) 자체의 두께가 2 mm 이하가 될 수 있으므로 베젤 부분의 두께를 더욱 얇게 할 수 있는 장점이 있다. 이에 따라, 전체적인 LCD 모듈의 두께를 작게 하여 박형화에 매우 유리하다. 특히, 종래 PMMA 두께는 대략 3.5 mm 이상인 것에 비하여, 본 발명에 따른 유리 도광판의 경우, 그 두께가 40 % 가까이 감소될 수 있다. 더욱이, 이와 같이 베젤 부분을 얇게 하여도, 유리 도광판(100)의 열팽창 계수는 종래 PMMA의 1/10 수준에 불과하므로, 변형이 거의 이루어지지 않는다고 할 수 있다.
이와 같이 본 발명에 따른 유리 도광판(100)은 LCD를 위한 광원 및 기타 광학 재료와 함께 집적되어 백라이트 유니트를 구성할 수 있으며, LCD 모듈 구조 강성 유지를 위해 종래 추가되던 많은 구조물을 생략할 수 있다. 따라서, 제조 비용 및 시간이 단축되고, 구조가 간소화되며, 두께 및 무게가 감소될 수 있다.
한편, 앞서 설명한 바와 같이, 유리 도광판(100)의 적어도 어느 하나의 면에는 광학 패턴이 형성될 수 있다. 예를 들어, 붕규산 유리판(110) 하면에는 가이드 된 광이 상부로 출사될 수 있도록 산란 패턴(미도시)이 형성될 수 있다.
도 5는, 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 도광판의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 5를 참조하면, 먼저 유리에 함유되는 각 성분의 원료가 목표 조성이 되도록 조합될 수 있다(S110). 이때, 상기 S110 단계에서는, SiO2가 75 ~ 85 wt%, B2O3가 5 ~ 20 wt%, Al2O3가 1 ~ 5 wt%, R2O가 3 ~ 8 wt% (여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나), Fe2O3가 0.0025 wt% 미만으로 포함되도록 원료 성분이 혼합될 수 있다. 특히, SiO2는 원료 혼합물에 80 ~ 85 wt%가 포함되도록 할 수 있다. 또한, 상기 원료 혼합물에는 K2O가 0.1 wt% 초과가 되도록 포함될 수 있다. 여기서, 상기 원료 혼합물에는, 상기 원료 성분 이외의 조성, 즉 SiO2, B2O3, Al2O3, R2O, Fe2O3 이외에 다른 산화물은 포함되지 않도록 구성될 수 있다.
다음으로, 이와 같이 조합된 유리 원료를 소정 온도로, 이를테면 1500 ~ 1600℃로 가열하여 유리 원료를 용융할 수 있다(S120). 이러한 S120 단계의 경우, 용해로에서 유리 원료 혼합물이 가열되는 방식으로 수행되어, 용융 유리가 만들어질 수 있다.
한편, 용융 단계(S120) 이후, 청징 단계(S130)가 수행될 수 있다. 이러한 청징 단계에서는, 청징제로서 SO3 혹은 Cl이 이용될 수 있다. 상기 S130 단계의 경우, 청징조에서 용융 유리 중의 기포가 청징제를 이용하여 제거될 수 있다. 이러한 청징 공정에서는, 청징조 내의 용융 유리가 승온됨으로써, 용융 유리 중에 포함되는 O2, CO2 또는 SO2 등을 포함한 기포가, 청징제의 환원 반응에 의해 생긴 O2를 흡수하여 성장하고, 용융 유리의 액면에 부상하여 방출될 수 있다(탈포 공정). 또한, 청징 공정에서는, 탈포 후, 용융 유리의 온도를 저하시킴으로써, 청징제의 환원 반응에 의해 얻어진 반응물의 산화 작용에 의해, 용융 유리에 잔존하는 기포 중 O2가 용융 유리 중에 흡수되어, 기포가 소멸될 수 있다(흡수 공정). 그리고, 청징제에 의한 산화 반응 및 환원 반응은 용융 유리의 온도를 제어함으로써 행해질 수 있다.
다음으로, 청징 단계 후, 성형 단계가 수행질 수 있다(S140). 이러한 성형 단계(S140)에서는, 용융 유리가 유리판으로 성형될 수 있다. 상기 성형 단계는 다양한 방식으로 수행될 수 있다. 예를 들어, 상기 S140 단계는, 용융 주석이 수용된 플로트 배스(float bath)의 상부로 용융 유리를 플로팅시키는 플로트(float) 방식에 의해 수행될 수 있다.
한편, 도면에는 도시되지 않았지만, 상기 청징 단계(S130) 후 성형 단계(S140) 이전에, 교반 공정이 수행될 수 있다. 이러한 교반 공정은, 유리의 화학적 및 열적 균일성을 유지하기 위해, 수직으로 향해진 교반조에 용융 유리가 통과되는 방식으로 행해질 수 있다. 이 경우, 교반조에 설치된 교반기에 의해 용융 유리는 교반되면서, 수직 하측 방향 바닥부로 이동하여, 후속 공정으로 유도될 수 있다. 이에 따라, 맥리 등의 유리의 불균일성이 개선될 수 있다.
S140 단계에서 유리가 성형되면, 성형된 유리는 서냉로로 이송되어 서냉되는 과정을 거치게 된다(S150). 그리고 나서, 서냉된 유리는 원하는 크기로 절단되어, 연마 등의 가공이 더 수행되고, 이러한 일련의 과정을 거침으로써 붕규산 유리판(110)이 제조될 수 있고, 이러한 붕규산 유리판을 이용하여 본 발명에 따른 유리 도광판(100)이 제조될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법에 의해 제조된 붕규산 유리판 및 이를 포함하는 유리 도광판은, 두께가 2 mm 이하, 이를테면 1.0 mm ~ 2.0 mm 일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유리 도광판의 붕규산 유리판은, 2 mm 두께 기준으로 가시광(380 nm ~ 780 nm) 투과율이 고분자 도광판 이상임은 물론이고 92.5 % 이상, 특히 93% 이상이 될 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법에 의해 제조된 유리판은, 굴절율이 1.49 이하, 바람직하게는 1.47 이하가 될 수 있고, 열팽창 계수가 7.0 ×10-6/K 이하, 바람직하게는 4.0 ×10-6/K 이하가 될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 붕규산 유리판 및 유리 도광판 제조 방법은, 상술한 방법에 의해 제조된 붕규산 유리판을 화학 강화 처리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
즉, 본 발명에 따른 붕규산 유리판 및 유리 도광판 제조 방법은, 상기 S110 단계 내지 S150 단계를 거쳐 제조된 붕규산 유리판을 화학 강화 처리하는 단계를, 상기 S150 단계 이후에 수행함으로써, 강화 유리를 제조할 수 있다. 이때, 화학 강화 처리 단계는 붕규산 유리를 질산칼륨(KNO3) 등의 용융염에 소정 시간 동안 침지시키는 방식으로 수행될 수 있다. 이 과정에서 이온 교환을 통해 붕규산 유리의 기계적 강도가 향상될 수 있다. 화학 강화 유리를 제조하기 위해서, 상술한 조성의 붕규산 유리는 이온 교환 성능이 양호하게 확보될 수 있도록 하는 적절한 조성을 가진다. 그러나, 본 발명이 반드시 이러한 화학 강화 처리 방식으로 한정되는 것은 아니다.
디스플레이 장치가 점차 대형화되어 가면서, 이에 사용되는 도광판의 면적 또한 커져야 한다. 이 경우, 유리 자체의 하중에 의한 유리의 휨 현상은 더욱 커질 수 있기 때문에, 이를 방지하기 위해 유리는 보다 가볍게 제조될 필요가 있다. 본 발명에 따른 붕규산 유리판은 경량화가 가능하도록 하여 이러한 특성을 만족시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 붕규산 유리판은 기계적 강도가 우수하고 경량화가 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 붕규산 유리판은 적절한 가공성 및 성형성이 확보될 수 있으며, 본 발명에 따른 유리 도광판은 이러한 유리판을 이용하여 제조될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유리 도광판 제조 방법은, 상술한 유리 제조 방법에 의해 제조된 유리판에 입사광의 산란을 위한 패턴 구조를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
여기서, 패턴을 형성하는 방법에는 프린팅 방식과 레이저 식각 방식이 이용될 수 있다. 프린팅 방식은 산란을 위한 고분자 패턴을 유리에 프린트하여 형성하는 형태로 수행될 수 있다. 그리고, 레이저 식각 방식은 산란 패턴을 형성하기 위해 유리 표면을 레이저로 식각하는 형태로 수행될 수 있다. 또한, 본 발명에서는 도광판이 붕규산 유리를 포함하므로 붕규산 유리 제조 시 열을 가하여 패턴을 직접 성형하는 방법도 가능하다.
패턴은 프리즘(prism), 렌티큘러(lenticular), 피라미드(pyramid), 엠보싱(embossing) 등을 포함하는 돌기 형태로 형성되거나 산과 골을 가지는 요철 구조로 형성될 수 있다. 프리즘 또는 피라미드 형상을 가지는 패턴의 윗면은 둥글거나 편평할 수 있다. 엠보싱 및 렌티큘러는 반구의 형태로 형성할 수 있다. 그리고, 이러한 패턴은 유리 도광판의 입광면과 수평으로 형상을 갖도록 함이 바람직하다.
이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 실시예 및 비교예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 본 발명에 따른 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예에 한정되는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다.
표 1은 본 발명에 따른 실시예의 유리 조성 및 물성을 나타낸다. 그리고, 표 2는 비교예의 유리 조성을 나타낸다. 다만, 표 2에서는, 비교의 편의를 위해 표 1의 실시예 1의 조성 및 물성이 함께 나타나도록 하였다.
Figure 112016093052280-pat00001
Figure 112016093052280-pat00002
각 성분의 원료를 표 1 및 표 2에 나타낸 바와 같은 조성이 되도록 조합하였다. 다만, 표시의 편의를 위해, 각 실시예 및 비교예의 성분 조성 범위는, 미량 포함되는 Fe2O3만 제외하고는, 소수점 이하 첫째 자리 내지 둘째 자리까지만 나타내었으며, 각 성분의 총 함량은 100 wt%가 되도록 하였다. 그리고, 표시된 성분 이외에 다른 성분은 포함되지 않도록 하였다. 이후, 조합된 원료 혼합물을 백금 도가니를 사용하여 1600℃의 온도에서 3시간 가열하여 융융시켰다. 용융시에는 백금 스터러(stirrer)를 삽입하고 1시간 교반하여 유리를 균질화하였다. 이어서 용융 유리를 730℃에서 서냉하여 2 mm 두께의 유리판을 실시예 1~4 및 비교예 1~4로서 얻었다. 한편, 얻어진 유리에 대해서는 형광 X선 분석을 통해 그 조성을 확인하였다.
또한, 각 실시예 및 비교예 유리에 대한 물성으로서, 밀도, 굴절율, 열팽창 계수 및 굽힙 강도를 다음과 같은 방법으로 측정하여, 그 결과를 표 1 및 표 2에 각각 나타내었다.
(밀도)
각 유리에 대하여, 아르키메데스법을 사용하여 밀도를 측정하였다. 이때, 밀도 단위는 g/cm3이다.
(굴절율)
굴절율은, 일반적으로 사용하는 Abbe 굴절계를 이용하여 측정하였다. 광학 측정에 사용한 유리 샘플을 굴절계 위에 올려 놓고, 굴절율이 명기된 굴절율 측정 용액을 유리 표면에 점적한 후, 용액과 유리의 굴절율 차이가 없음을 확인하여 각 유리의 굴절율을 확인하였다.
(열팽창 계수)(CTE)
각 유리에 대하여, 딜라토미터를 사용하여 평균 열팽창 계수를 측정하였다. 이때, 열팽창 계수 단위는 10-6/℃이다.
(굽힘 강도)
유리의 굽힘 강도는, 각 실시예 및 비교예에 따라 제조된 유리를 폭 50 mm, 길이 60 mm, 두께 2 mm의 직사각형 형태의 판으로 가공하여, 만능시험기(Universal Testing Machine)의 3점 굽힘 시험으로 측정하였다. 3점 굽힘 시험의 경우, 유리 엣지에서 파손이 일어나게 되므로, 시편 유리의 엣지 상태를 동일하게 맞추기 위해 3점 굽힘 시험 유리는 유리의 모든 엣지를 경면 연마한 후 시험하였다.
이때, 측정 오차를 줄이기 위해, 시험편의 수는 각 조성 별로 최소 5개 이상이 되게 측정하였으며, 하중 속도는 분당 10 mm로 고정하였다.
표 1을 참조하면, 실시예(실시예 1~4)의 유리에 대해서는, 밀도가 2.5 g/cm3 이하인 것이 확인되었다. 특히, 실시예 1~3의 경우, 밀도가 2.3 g/cm3 이하이며, 실시예 1 및 2의 경우 밀도가 2.2 g/cm3 이하로서 낮게 측정되었다. 반면, 비교예의 경우, 밀도가 모두 2.4 g/cm3 이상으로 측정되었으며, 비교예 1~3의 경우, 밀도가 2.5 g/cm3 내지 2.6 g/cm3 으로 실시예보다 상대적으로 높게 측정되었다.
또한, 실시예의 유리는, 굴절율이 1.49 이하로 측정되었다. 특히, 실시예 1~3의 경우, 굴절율이 1.47 이하로 측정되었다. 반면, 비교예 1~4의 경우, 굴절율이 모두 1.51을 초과하는 것으로 측정되어, 실시예보다 높게 나타나고 있다.
또한, 실시예의 유리는, 평균 열팽창 계수(CTE)가 7.0(×10-6/℃) 이하로 나타나고 있다. 특히, 실시예 1~3의 유리는, 평균 열팽창 계수(CTE)가 4.0(×10-6/℃) 미만으로 나타나고 있다. 반면, 비교예의 유리는, 평균 열팽창 계수가 4.0(×10-6/℃) 이상이며, 비교예 2~4의 경우, 평균 열팽창 계수가 7.0(×10-6/℃) 이상으로 높게 나타나고 있다.
또한, 실시예의 유리는, 굽힘 강도가 100 MPa보다 높게 나타나고 있다. 특히, 실시예 1~3의 유리는, 굽힘 강도가 110 MPa 이상, 많게는 130 MPa까지 확인되었다. 반면, 비교예 2 및 3의 유리는, 굽힘 강도가 95 MPa 이하로, 매우 낮게 나타나고 있다.
한편, 실시예 및 비교예로서 얻어진 유리판에 대해서는, UV-VIS-NIR 분광 광도계를 이용하여 투과율을 측정하였다. 각 실험 샘플의 경우, 내부 균질도에 의한 샘플 간 측정 편차를 최소화하기 위해 적분구를 검출기로 사용하였다. 그리고, 이러한 투과율 측정 결과에 대해서는, 도 6 및 도 7에 도시되도록 하였다. 즉, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유리의 투과율 측정 그래프이고, 도 7은 비교예에 따른 유리의 투과율 측정 그래프라 할 수 있다. 다만, 비교의 편의를 위해, 도 7에는 실시예 1에 따른 투과율 측정 결과도 함께 표시되도록 하였다.
도 6 및 도 7에 나타난 각 실시예 및 비교예에 대한, 380 nm 내지 780 nm의 파장 범위에서 평균 투과율은 다음과 같다.
[실시예]
실시예 1: 93.1%
실시예 2: 93.1%
실시예 3: 93.0%
실시예 4: 92.8%
[비교예]
비교예 1: 91.8%
비교예 2: 92.1%
비교예 3: 92.1%
비교예 4: 92.3%
도 6 및 상기 평균 투과율 측정 결과를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 유리판은, 가시광(380 nm ~ 780 nm) 투과율이 92.5 %보다 높게 측정되었다. 특히, 실시예 1~3의 유리판은 평균 투과율이 93% 이상으로 나타나고 있다. 더욱이, 실시예 1과 실시예 2의 평균 투과율은 93.1 %로서 매우 높게 나타나고 있다.
반면, 도 7 및 상기 평균 투과율 측정 결과를 참조하면, 여러 비교예에 따른 유리판은 투과율이 대략 92% 수준으로서, 실시예보다 낮게 나타나고 있다. 특히, 실시예 1의 측정 결과와 비교해 보면, 가시광 투과율이 대략 1% 정도 차이가 난다는 것을 확인할 수 있다. 투과율 측면에서 1%는 매우 의미 있는 증가율이라 할 수 있다. 특히, 90%를 넘는 높은 투과율 범위에서는 이러한 0.1%의 투과율 상승도 매우 효과적인 것이라 볼 수 있다.
따라서, 도 6 및 도 7의 결과를 참조하면, 본 발명에 따른 붕규산 유리판의 경우, 380 nm ~ 780 nm의 가시광 파장 영역에서 좋은 투과성을 보여준다는 것을 알 수 있다. 그러므로, 본 발명에 따른 붕규산 유리판을 포함하는 도광판은, 매우 우수한 도광판으로서 기능을 수행할 수 있다고 볼 수 있다.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나 본발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.
한편, 본 명세서에서 상, 하, 좌와 같은 방향을 나타내는 용어가 사용된 경우, 이러한 용어들은 상대적인 위치를 나타내는 것으로서 설명의 편의를 위한 것일 뿐, 대상이 되는 사물의 위치나 관측자의 위치 등에 따라 달라질 수 있음은 본 발명의 당업자에게 자명하다.
100: 유리 도광판
110: 유리판
120: 광학 시트
121: 측면 반사막, 122: 하면 반사막
200: 광원
300: 액정 패널
310: 상부 편광 필름, 320: 하부 편광 필름, 330: 이중휘도향상필름
400: 미들 캐비닛
500: 백 커버

Claims (11)

  1. SiO2 80 ~ 85 wt%,
    B2O3 9.5 ~ 20 wt%,
    Al2O3 1 ~ 2 wt%,
    R2O 3 ~ 7 wt% (여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나), 및
    Fe2O3 < 0.0025 wt%
    를 함유하고, 상기 SiO2, B2O3, Al2O3, R2O 및 Fe2O3 이외에 다른 산화물은 함유되지 않는 유리판을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 유리판은, 청징제로서 Cl을 0 ~ 0.5 wt% 더 함유하는 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 유리판은, SiO2, B2O3, Al2O3, R2O, Fe2O3 및 Cl의 합계 함유량이 100 wt%인 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 유리판은, K2O > 0.1 wt%인 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 유리판은, 2 mm 두께 기준으로 가시광(380 nm ~ 780 nm) 투과율이 92.5 % 이상인 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 유리판은, 굴절율이 1.49 이하인 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 유리판은, 두께가 2 mm 이하인 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 유리판은, 상기 조성을 갖는 유리가 화학적 강화 처리되어 표면에 압축 응력층을 구비하는 것을 특징으로 하는 유리 도광판.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 유리 도광판을 포함하는 백라이트 유닛.
  10. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 유리 도광판을 포함하는 디스플레이 장치.
  11. SiO2 80 ~ 85 wt%,
    B2O3 9.5 ~ 20 wt%,
    Al2O3 1 ~ 2 wt%,
    R2O 3 ~ 7 wt% (여기서 R은 Li, Na 및 K 중 적어도 어느 하나), 및
    Fe2O3 < 0.0025 wt%
    를 함유하고, 상기 SiO2, B2O3, Al2O3, R2O 및 Fe2O3 이외에 다른 산화물은 함유되지 않도록 유리 원료를 조합하고 용융하는 단계; 및
    상기 용융된 유리 원료를 유리판으로 성형하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 도광판 제조 방법.
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