CN105734507A - 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 - Google Patents

成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105734507A
CN105734507A CN201610206997.5A CN201610206997A CN105734507A CN 105734507 A CN105734507 A CN 105734507A CN 201610206997 A CN201610206997 A CN 201610206997A CN 105734507 A CN105734507 A CN 105734507A
Authority
CN
China
Prior art keywords
nickel
purity
target
alloy
extrusion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610206997.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105734507B (zh
Inventor
曹兴民
庄志杰
顾宗慧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mike Material Technology (suzhou) Co Ltd
Original Assignee
Mike Material Technology (suzhou) Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mike Material Technology (suzhou) Co Ltd filed Critical Mike Material Technology (suzhou) Co Ltd
Priority to CN201610206997.5A priority Critical patent/CN105734507B/zh
Publication of CN105734507A publication Critical patent/CN105734507A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105734507B publication Critical patent/CN105734507B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C19/00Alloys based on nickel or cobalt
    • C22C19/03Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C19/00Alloys based on nickel or cobalt
    • C22C19/03Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
    • C22C19/05Alloys based on nickel or cobalt based on nickel with chromium
    • C22C19/058Alloys based on nickel or cobalt based on nickel with chromium without Mo and W
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/10Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of nickel or cobalt or alloys based thereon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Extrusion Of Metal (AREA)

Abstract

成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材热挤压优化制备方法,采用纯度≥99.99%的镍和纯度≥99.95%的其他元素金属作为合金原料,熔炼成高纯镍合金锭,加热1?2小时后,放到已置入双动反向挤压机内的挤压模具中热挤压成半成品镍合金管靶,挤压过程总变形量总变形量大于80%,冷却后再结晶退火;镍合金内部的组织结构更加均匀,消除明显的分层现象,合金靶材成品率高、晶粒细小、内部组织均匀;溅射更稳定,使用时成膜均匀,有利于获得厚度均匀的高质量薄膜,提高靶材利用率。

Description

成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法
技术领域
本发明涉及领域,IPC分类中C23C溅射法的镀覆技术,属于新材料靶材加工领域,尤其是成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法。
背景技术
镍合金拥有优良的综合性能,是不可缺少的金属材料。镍合金具有独特的物理性能和力学性能,耐蚀性强,在200~1090℃范围内能耐各种介质的侵蚀,具有良好的高温和低温性能,在石化、航空航天、海洋开发等许多领域得到广泛应用,航空发动机需要的镍合金材料占整体结构材料的一半以上。镍基高温合金及镍基耐蚀合金是典型的镍合金,耐热性和耐腐蚀性十分优异,且具有较高的工作温度及较强的合金化等性能,作为航空发动机的关键材料,在军事及航天领域中应用非常广泛。
镍基高温合金是指镍含量大于50%的Ni-Cr合金,并添加W、Mo、Al、Ti、Nb、Co及微量B、Zr等合金元素,对Ni-Cr固溶体进行不同方式的强化获得的。镍基高温合金在600℃以上高温下具有较高的力学性能和耐蚀性。镍基耐蚀合金是指在纯镍中添加Cu、Cr、Fe、Mo等元素,在大气、海水、酸液等介质中具有良好耐蚀性的合金。
半导体、磁记录和平板显示等领域对镍合金靶材的需求量快速上升的同时,对其品质要求也日益提高,其原因在于,靶材的晶粒越细,成分组织越均匀,其表面粗糙度越小,形成的薄膜就越均匀。
目前制备的镍合金靶材多为平面靶,含有较高Al和Ti等合金元素的沉淀强化型镍基合金制造的过程为:首先经过真空感应炉进行熔炼,然后再由电渣炉或真空感应炉进行重熔操作。其热加工所采取的的工艺通常为轧制或锻造,变形合金及部分铸造合金需要通过1175℃下连续2h的固溶处理、1080℃下连续4h的中间处理及分别在843℃和760℃下的两次时效处理等热处理过程,从而使镍基合金达到标准要求的综合性能及组织状态。通过轧制或锻造工艺得到的镍合金平面靶,会由于材料的应力而易产生裂纹,导致产品不合格和材料的浪费,同时,现有技术制备的平面靶材利用率只能达到30%。
通常旋转靶材的材料利用率可以达到80%,旋转耙材在使用过程中不断旋转,耙材表面可以保持光滑,不会产生“结瘤”俗称“靶材中毒”,可以保障成膜的均匀性,减少缺陷,提高成品率。另外与平面靶材相比,旋转靶材在旋转过程中通过连续不断的冷却水使的整个耙材表面的冷却效果更好,温度比平面靶材更均匀,能获得更高的成膜速度。
现有技术中,尚未有适用的镍合金旋转靶材技术。
发明内容
本发明的目的是提供一种成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法,克服现有技术存在的缺陷和不足,有利于获得厚度均匀的高质量薄膜,提高靶材利用率。
本发明的目的将通过以下技术措施来实现:制备方法工艺步骤包括:
步骤一:采用纯度≥99.99%的镍和纯度≥99.95%的其他元素金属作为合金原料,合金主成分为镍,其他成分含量为7~35%,其他成分包括铬、铜和钒中的至少一种,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍合金锭;
步骤二:根据产品所需尺寸准备相应的挤压模具,在进行挤压操作前将准备好的挤压模具安装在双动反向挤压机内;
步骤三:将步骤一中熔炼好的实心圆柱体镍合金锭于950~1450℃加热1~2小时,使其呈半熔融状态,保证可溶解的晶相组织不从固溶中析出或呈现小颗粒的弥散析出;
步骤四:加热后的半熔融实心镍合金锭直接通过传输轨道进入挤压机中,设定挤压温度为800~1400℃,控制挤压速度为10~30cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出;
步骤四:待镍合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,得到模具尺寸的半成品高纯镍合金管靶,总变形量大于80%;
步骤五:将冷却后的镍合金管靶于400~900℃进行再结晶退火,提高其内部组织均匀性,保温1~2小时,再自然冷却;
步骤六:完全冷却后,根据图纸对镍合金管靶进行切割和抛光类机械加工即得高纯细晶镍合金旋转靶成品。
尤其是,采用纯度为99.99%的Ni和纯度为99.95%的Cr作为原料,所述原料中,Cr含量为20%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,合金锭尺寸为直径260mm,长500mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍铬合金锭于圆管加热器中加热1.5小时,加热温度为1300℃;加热后的半熔融实心镍铬合金锭直接通过传输轨道进入挤压机中,设定挤压温度为1150℃,控制挤压速度为15cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍铬合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,挤压过程中增加了内部材料的流动,使得镍铬合金内部的组织结构比较均匀,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,得到外径160mm、内径129mm、长3412mm的半成品镍铬合金管靶,挤压过程总变形量为83.3%,挤压得到的半成品管靶的端部形状和尺寸不规则,需后续加工处理;将冷却后的镍铬合金管靶于800℃进行再结晶退火,提高其内部组织均匀性,保温1小时,再自然冷却;完全冷却后,根据图纸对镍铬合金管靶进行切割、抛光等机械加工即得外径157mm、内径131mm、长3191mm的高纯细晶镍铬合金旋转靶成品,晶粒尺寸≤80μm。
尤其是,采用纯度为99.99%的镍和纯度为99.99%的铜作为原料,所述原料中,铜含量为35%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,得到镍铜合金锭尺寸为直径251mm,长500mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍铜合金锭于圆管加热器中加热1小时,加热温度为950℃;进入挤压机后设定挤压温度为900℃,挤压速度为20cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍铜合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,挤压得到外径159mm、内径129mm、长3516mm的半成品镍铜合金管靶,挤压过程总变形量为81.7%;冷却后的镍铜合金管靶于450℃进行再结晶退火,保温1小时;完全冷却后,根据图纸对合金管靶进行机加工得到外径153mm、内径131mm、长3234mm的高纯细晶镍铜合金旋转靶成品。
尤其是,采用纯度为99.99%的镍和纯度为99.95%的钒作为原料,所述原料中,钒含量为7%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,得到镍钒合金锭尺寸为直径250mm,长300mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍钒合金锭于圆管加热器中加热2小时,加热温度为1400℃;进入挤压机后设定挤压温度为1200℃,挤压速度为30cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍钒合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,挤压得到外径157mm、内径129mm、长2341mm的半成品镍钒合金管靶,挤压过程总变形量为86%。冷却后的镍钒合金管靶于900℃进行再结晶退火,保温1小时;完全冷却后,根据图纸对合金管靶进行机加工得到外径153mm、内径131mm、长2000mm的高纯细晶镍钒合金旋转靶材成品。
本发明的优点和效果:镍合金内部的组织结构更加均匀,消除明显的分层现象,合金靶材成品率高、晶粒细小、内部组织均匀,且溅射更稳定,使用时成膜均匀,有利于获得厚度均匀的高质量薄膜,提高靶材利用率。
具体实施方式
本发明原理在于,由于挤压过程中增加了内部材料的流动,使得镍合金内部的组织结构更加均匀,晶粒细小,消除明显的分层现象,使用时成膜均匀,生产出镍合金靶材符合要求,且成品率高。
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
实施例1:
采用纯度为99.99%的Ni和纯度为99.95%的Cr作为原料,所述原料中,Cr含量为20%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,合金锭尺寸为直径260mm,长500mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍铬合金锭于圆管加热器中加热1.5小时,加热温度为1300℃;加热后的半熔融实心镍铬合金锭直接通过传输轨道进入挤压机中,设定挤压温度为1150℃,控制挤压速度为15cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍铬合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,挤压过程中增加了内部材料的流动,使得镍铬合金内部的组织结构比较均匀,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,得到外径160mm、内径129mm、长3412mm的半成品镍铬合金管靶,挤压过程总共变形量为83.3%,挤压得到的半成品管靶的端部形状和尺寸不规则,需后续加工处理;将冷却后的镍铬合金管靶于800℃进行再结晶退火,提高其内部组织均匀性,保温1小时,再自然冷却;完全冷却后,根据图纸对镍铬合金管靶进行切割、抛光等机械加工即得外径157mm、内径131mm、长3191mm的高纯细晶镍铬合金旋转靶成品,晶粒尺寸≤80μm;
本实施例中,镍铬靶材致密度高,可用于制作薄膜电阻、薄膜电阻应变计和低辐射镀膜玻璃等,其产品可广泛应用于电子、能源和建筑等工业领域。
实施例2:
采用纯度为99.99%的镍和纯度为99.99%的铜作为原料,所述原料中,铜含量为35%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,得到镍铜合金锭尺寸为直径251mm,长500mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍铜合金锭于圆管加热器中加热1小时,加热温度为950℃;进入挤压机后设定挤压温度为900℃,挤压速度为20cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍铜合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,挤压过程中增加了内部材料的流动,使得镍铜合金内部的组织结构比较均匀,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,挤压得到外径159mm、内径129mm、长3516mm的半成品镍铜合金管靶,挤压过程总共变形量为81.7%;冷却后的镍铜合金管靶于450℃进行再结晶退火,保温1小时;完全冷却后,根据图纸对合金管靶进行机加工得到外径153mm、内径131mm、长3234mm的高纯细晶镍铜合金旋转靶成品。
实施例3:
采用纯度为99.99%的镍和纯度为99.95%的钒作为原料,所述原料中,钒含量为7%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,得到镍钒合金锭尺寸为直径250mm,长300mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍钒合金锭于圆管加热器中加热2小时,加热温度为1400℃;进入挤压机后设定挤压温度为1200℃,挤压速度为30cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍钒合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,挤压过程中增加了内部材料的流动,使得镍钒合金内部的组织结构比较均匀,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,挤压得到外径157mm、内径129mm、长2341mm的半成品镍钒合金管靶,挤压过程总共变形量为86%。冷却后的镍钒合金管靶于900℃进行再结晶退火,保温1小时;完全冷却后,根据图纸对合金管靶进行机加工得到外径153mm、内径131mm、长2000mm的高纯细晶镍钒合金旋转靶材成品。

Claims (4)

1.成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材热挤压优化制备方法,其特征在于,制备方法工艺步骤包括:
步骤一:采用纯度≥99.99%的镍和纯度≥99.95%的其他元素金属作为合金原料,合金主成分为镍,其他成分含量为7~35%,其他成分包括铬、铜和钒中的至少一种,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍合金锭;
步骤二:根据产品所需尺寸准备相应的挤压模具,在进行挤压操作前将准备好的挤压模具安装在双动反向挤压机内;
步骤三:将步骤一中熔炼好的实心圆柱体镍合金锭于950~1450℃加热1~2小时,使其呈半熔融状态,保证可溶解的晶相组织不从固溶中析出或呈现小颗粒的弥散析出;
步骤四:加热后的半熔融实心镍合金锭直接通过传输轨道进入挤压机中,设定挤压温度为800~1400℃,控制挤压速度为10~30cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出;
步骤四:待镍合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,得到模具尺寸的半成品高纯镍合金管靶,总变形量大于80%;
步骤五:将冷却后的镍合金管靶于400~900℃进行再结晶退火,提高其内部组织均匀性,保温1~2小时,再自然冷却;
步骤六:完全冷却后,根据图纸对镍合金管靶进行切割和抛光类机械加工即得高纯细晶镍合金旋转靶成品。
2.如权利要求1所述的成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材热挤压优化制备方法,其特征在于,采用纯度为99.99%的Ni和纯度为99.95%的Cr作为原料,所述原料中,Cr含量为20%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,合金锭尺寸为直径260mm,长500mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍铬合金锭于圆管加热器中加热1.5小时,加热温度为1300℃;加热后的半熔融实心镍铬合金锭直接通过传输轨道进入挤压机中,设定挤压温度为1150℃,控制挤压速度为15cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍铬合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,挤压过程中增加了内部材料的流动,使得镍铬合金内部的组织结构比较均匀,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,得到外径160mm、内径129mm、长3412mm的半成品镍铬合金管靶,挤压过程总共变形量为83.3%,挤压得到的半成品管靶的端部形状和尺寸不规则,需后续加工处理;将冷却后的镍铬合金管靶于800℃进行再结晶退火,提高其内部组织均匀性,保温1小时,再自然冷却;完全冷却后,根据图纸对镍铬合金管靶进行切割、抛光等机械加工即得外径157mm、内径131mm、长3191mm的高纯细晶镍铬合金旋转靶成品,晶粒尺寸≤80μm。
3.如权利要求1所述的成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材热挤压优化制备方法,其特征在于,采用纯度为99.99%的镍和纯度为99.99%的铜作为原料,所述原料中,铜含量为35%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,得到镍铜合金锭尺寸为直径251mm,长500mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍铜合金锭于圆管加热器中加热1小时,加热温度为950℃;进入挤压机后设定挤压温度为900℃,挤压速度为20cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍铜合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,挤压得到外径159mm、内径129mm、长3516mm的半成品镍铜合金管靶,挤压过程总共变形量为81.7%;冷却后的镍铜合金管靶于450℃进行再结晶退火,保温1小时;完全冷却后,根据图纸对合金管靶进行机加工得到外径153mm、内径131mm、长3234mm的高纯细晶镍铜合金旋转靶成品。
4.如权利要求1所述的成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材热挤压优化制备方法,其特征在于,采用纯度为99.99%的镍和纯度为99.95%的钒作为原料,所述原料中,钒含量为7%,将配比好的原料在真空感应熔炼炉中熔炼成高纯镍铬合金锭,得到镍钒合金锭尺寸为直径250mm,长300mm;根据产品所需尺寸准备相应挤压模具并将其安装在双动反向挤压机内;将熔炼好的镍钒合金锭于圆管加热器中加热2小时,加热温度为1400℃;进入挤压机后设定挤压温度为1200℃,挤压速度为30cm/min,在挤压机和模具的共同作用下镍钒合金管靶从挤压机出口处缓慢挤出,无明显的分层现象;待合金锭全部挤压完成后在冷却区静置冷却至常温,挤压得到外径157mm、内径129mm、长2341mm的半成品镍钒合金管靶,挤压过程总共变形量为86%;冷却后的镍钒合金管靶于900℃进行再结晶退火,保温1小时;完全冷却后,根据图纸对合金管靶进行机加工得到外径153mm、内径131mm、长2000mm的高纯细晶镍钒合金旋转靶材成品。
CN201610206997.5A 2016-04-05 2016-04-05 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 Active CN105734507B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610206997.5A CN105734507B (zh) 2016-04-05 2016-04-05 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610206997.5A CN105734507B (zh) 2016-04-05 2016-04-05 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105734507A true CN105734507A (zh) 2016-07-06
CN105734507B CN105734507B (zh) 2018-06-19

Family

ID=56253702

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610206997.5A Active CN105734507B (zh) 2016-04-05 2016-04-05 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105734507B (zh)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019167564A1 (ja) * 2018-03-01 2019-09-06 三菱マテリアル株式会社 Cu-Ni合金スパッタリングターゲット
JP2019151916A (ja) * 2018-03-01 2019-09-12 三菱マテリアル株式会社 Cu−Ni合金スパッタリングターゲット
CN110468382A (zh) * 2019-09-12 2019-11-19 南京达迈科技实业有限公司 一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法
CN112063982A (zh) * 2020-07-31 2020-12-11 洛阳高新四丰电子材料有限公司 一种镍钼合金熔炼管靶及其制备方法
WO2021046929A1 (zh) * 2019-09-12 2021-03-18 南京达迈科技实业有限公司 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法
CN112846660A (zh) * 2020-12-31 2021-05-28 有研亿金新材料有限公司 一种厚壁大长径比高纯铜管靶加工方法
CN113774337A (zh) * 2021-08-19 2021-12-10 虹华科技股份有限公司 一种平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺
CN113862619A (zh) * 2021-09-08 2021-12-31 先导薄膜材料(广东)有限公司 一种锌镁靶材及其制备方法
CN114574822A (zh) * 2022-03-02 2022-06-03 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种银合金靶材制备工艺及应用
CN115522086A (zh) * 2022-10-26 2022-12-27 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种NiCr合金靶材制备方法
CN116752104A (zh) * 2023-06-16 2023-09-15 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种半导体用的高纯低氧细晶Ag旋转管靶的制作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1615374A (zh) * 2002-01-18 2005-05-11 株式会社日矿材料 高纯度镍或镍合金靶及其制造方法
US20060037680A1 (en) * 2003-01-10 2006-02-23 Nikko Materials Co., Ltd Nickel alloy sputtering target
CN1982498A (zh) * 2005-09-26 2007-06-20 台湾积体电路制造股份有限公司 可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料
CN101821676A (zh) * 2007-10-12 2010-09-01 爱发科成膜株式会社 用于制造灰色调掩模的方法
CN102803550A (zh) * 2010-03-19 2012-11-28 吉坤日矿日石金属株式会社 镍合金溅射靶、Ni合金薄膜及镍硅化物膜
CN105220092A (zh) * 2015-11-03 2016-01-06 基迈克材料科技(苏州)有限公司 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1615374A (zh) * 2002-01-18 2005-05-11 株式会社日矿材料 高纯度镍或镍合金靶及其制造方法
US20060037680A1 (en) * 2003-01-10 2006-02-23 Nikko Materials Co., Ltd Nickel alloy sputtering target
CN1982498A (zh) * 2005-09-26 2007-06-20 台湾积体电路制造股份有限公司 可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料
CN101821676A (zh) * 2007-10-12 2010-09-01 爱发科成膜株式会社 用于制造灰色调掩模的方法
CN102803550A (zh) * 2010-03-19 2012-11-28 吉坤日矿日石金属株式会社 镍合金溅射靶、Ni合金薄膜及镍硅化物膜
CN105220092A (zh) * 2015-11-03 2016-01-06 基迈克材料科技(苏州)有限公司 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111788332B (zh) * 2018-03-01 2021-08-06 三菱综合材料株式会社 Cu-Ni合金溅射靶
JP2019151916A (ja) * 2018-03-01 2019-09-12 三菱マテリアル株式会社 Cu−Ni合金スパッタリングターゲット
CN111788332A (zh) * 2018-03-01 2020-10-16 三菱综合材料株式会社 Cu-Ni合金溅射靶
WO2019167564A1 (ja) * 2018-03-01 2019-09-06 三菱マテリアル株式会社 Cu-Ni合金スパッタリングターゲット
CN110468382A (zh) * 2019-09-12 2019-11-19 南京达迈科技实业有限公司 一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法
WO2021046929A1 (zh) * 2019-09-12 2021-03-18 南京达迈科技实业有限公司 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法
CN110468382B (zh) * 2019-09-12 2021-04-09 南京达迈科技实业有限公司 一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法
CN112063982A (zh) * 2020-07-31 2020-12-11 洛阳高新四丰电子材料有限公司 一种镍钼合金熔炼管靶及其制备方法
CN112846660A (zh) * 2020-12-31 2021-05-28 有研亿金新材料有限公司 一种厚壁大长径比高纯铜管靶加工方法
CN112846660B (zh) * 2020-12-31 2022-05-27 有研亿金新材料有限公司 一种厚壁大长径比高纯铜管靶加工方法
CN113774337A (zh) * 2021-08-19 2021-12-10 虹华科技股份有限公司 一种平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺
CN113774337B (zh) * 2021-08-19 2023-11-17 四川华赐科技有限公司 一种平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺
CN113862619A (zh) * 2021-09-08 2021-12-31 先导薄膜材料(广东)有限公司 一种锌镁靶材及其制备方法
CN113862619B (zh) * 2021-09-08 2023-10-17 先导薄膜材料(广东)有限公司 一种锌镁靶材及其制备方法
CN114574822A (zh) * 2022-03-02 2022-06-03 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种银合金靶材制备工艺及应用
CN114574822B (zh) * 2022-03-02 2024-01-30 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种银合金靶材制备工艺及应用
CN115522086A (zh) * 2022-10-26 2022-12-27 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种NiCr合金靶材制备方法
CN115522086B (zh) * 2022-10-26 2024-07-05 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种NiCr合金靶材制备方法
CN116752104A (zh) * 2023-06-16 2023-09-15 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种半导体用的高纯低氧细晶Ag旋转管靶的制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN105734507B (zh) 2018-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105734507B (zh) 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法
CN105861999B (zh) 高纯细晶金属镍热挤压旋转靶材
CN108213422B (zh) 一种含碳高熵合金复合材料的制备方法
CN103071793B (zh) 钼溅射靶材热等静压生产方法
US20240123502A1 (en) Titanium alloy powder for selective laser melting 3d printing, selective laser melted titanium alloy and preparation thereof
CN105268973A (zh) 一种基于TiNi记忆合金丝材的功能材料部件增材制造方法
WO2021046927A1 (zh) 一种含微量稀土元素的镍铼合金旋转管状靶材及制备方法
CN104480444A (zh) 钛铝合金靶材及其制备方法
CN112916870B (zh) 一种中高熵合金材料的制备方法
CN110218910A (zh) 一种新型粉末高温合金及其制备方法
CN112317993B (zh) 一种Ti35HS钛合金焊丝材的制备方法
CN110343887B (zh) 一种粉末挤压制备高致密度细晶钛合金的方法
CN102392147A (zh) 超细晶镍基粉末高温合金的制备方法
CN103938102A (zh) 一种铁铬铝系多元高电阻电热合金的制备方法
CN110468301A (zh) 一种具有近零热膨胀性能青铜合金的制备方法
CN100549199C (zh) 一种磁控溅射Co-Cr-Ta合金靶的制造方法
CN114101372B (zh) 一种高强tc18钛合金无缝管材高效低成本制备方法
CN103521943A (zh) 钎焊用铝硅铜合金无缝药芯焊丝、制备及应用
CN105821265A (zh) 一种大截面厚壁合金型材及其生产工艺
CN105220092A (zh) 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法
CN111441020B (zh) 一种低成本制备tc4钛合金溅射靶材的方法
CN102416558B (zh) 特别适用于冷弯塑性成形铝合金挤压构件的制备方法
CN108531756A (zh) 一种提高黄铜材料抗拉强度和晶粒细化的生产工艺
CN110484885A (zh) 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法
CN107740020A (zh) 一种钛镍管材的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right
PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right

Denomination of invention: Fine grain nickel alloy rotary target capable of achieving even film forming and hot extrusion optimizing preparation method thereof

Effective date of registration: 20200616

Granted publication date: 20180619

Pledgee: Jiangsu Suzhou Rural Commercial Bank Co., Ltd. Lili sub branch

Pledgor: JIMAIKE MATERIAL TECHNOLOGY (SUZHOU) Co.,Ltd.

Registration number: Y2020320010048

PC01 Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right
PC01 Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right

Date of cancellation: 20210608

Granted publication date: 20180619

Pledgee: Jiangsu Suzhou Rural Commercial Bank Co., Ltd. Lili sub branch

Pledgor: JIMAIKE MATERIAL TECHNOLOGY (SUZHOU) Co.,Ltd.

Registration number: Y2020320010048

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right
PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right

Denomination of invention: Fine grained nickel alloy rotary target with uniform film formation and its optimized preparation by hot extrusion

Effective date of registration: 20210611

Granted publication date: 20180619

Pledgee: Jiangsu Suzhou Rural Commercial Bank Co., Ltd. Lili sub branch

Pledgor: JIMAIKE MATERIAL TECHNOLOGY (SUZHOU) Co.,Ltd.

Registration number: Y2021320010207