CN105734507A - 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 - Google Patents
成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105734507A CN105734507A CN201610206997.5A CN201610206997A CN105734507A CN 105734507 A CN105734507 A CN 105734507A CN 201610206997 A CN201610206997 A CN 201610206997A CN 105734507 A CN105734507 A CN 105734507A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- nickel
- purity
- target
- alloy
- extrusion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
- C22C19/05—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel with chromium
- C22C19/058—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel with chromium without Mo and W
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/10—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of nickel or cobalt or alloys based thereon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Extrusion Of Metal (AREA)
Abstract
Description
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610206997.5A CN105734507B (zh) | 2016-04-05 | 2016-04-05 | 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610206997.5A CN105734507B (zh) | 2016-04-05 | 2016-04-05 | 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105734507A true CN105734507A (zh) | 2016-07-06 |
CN105734507B CN105734507B (zh) | 2018-06-19 |
Family
ID=56253702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610206997.5A Active CN105734507B (zh) | 2016-04-05 | 2016-04-05 | 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105734507B (zh) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019167564A1 (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-06 | 三菱マテリアル株式会社 | Cu-Ni合金スパッタリングターゲット |
JP2019151916A (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-12 | 三菱マテリアル株式会社 | Cu−Ni合金スパッタリングターゲット |
CN110468382A (zh) * | 2019-09-12 | 2019-11-19 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法 |
CN112063982A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-12-11 | 洛阳高新四丰电子材料有限公司 | 一种镍钼合金熔炼管靶及其制备方法 |
WO2021046929A1 (zh) * | 2019-09-12 | 2021-03-18 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法 |
CN112846660A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-28 | 有研亿金新材料有限公司 | 一种厚壁大长径比高纯铜管靶加工方法 |
CN113774337A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-12-10 | 虹华科技股份有限公司 | 一种平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺 |
CN113862619A (zh) * | 2021-09-08 | 2021-12-31 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种锌镁靶材及其制备方法 |
CN114574822A (zh) * | 2022-03-02 | 2022-06-03 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种银合金靶材制备工艺及应用 |
CN115522086A (zh) * | 2022-10-26 | 2022-12-27 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种NiCr合金靶材制备方法 |
CN116752104A (zh) * | 2023-06-16 | 2023-09-15 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种半导体用的高纯低氧细晶Ag旋转管靶的制作方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1615374A (zh) * | 2002-01-18 | 2005-05-11 | 株式会社日矿材料 | 高纯度镍或镍合金靶及其制造方法 |
US20060037680A1 (en) * | 2003-01-10 | 2006-02-23 | Nikko Materials Co., Ltd | Nickel alloy sputtering target |
CN1982498A (zh) * | 2005-09-26 | 2007-06-20 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料 |
CN101821676A (zh) * | 2007-10-12 | 2010-09-01 | 爱发科成膜株式会社 | 用于制造灰色调掩模的方法 |
CN102803550A (zh) * | 2010-03-19 | 2012-11-28 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 镍合金溅射靶、Ni合金薄膜及镍硅化物膜 |
CN105220092A (zh) * | 2015-11-03 | 2016-01-06 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法 |
-
2016
- 2016-04-05 CN CN201610206997.5A patent/CN105734507B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1615374A (zh) * | 2002-01-18 | 2005-05-11 | 株式会社日矿材料 | 高纯度镍或镍合金靶及其制造方法 |
US20060037680A1 (en) * | 2003-01-10 | 2006-02-23 | Nikko Materials Co., Ltd | Nickel alloy sputtering target |
CN1982498A (zh) * | 2005-09-26 | 2007-06-20 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料 |
CN101821676A (zh) * | 2007-10-12 | 2010-09-01 | 爱发科成膜株式会社 | 用于制造灰色调掩模的方法 |
CN102803550A (zh) * | 2010-03-19 | 2012-11-28 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 镍合金溅射靶、Ni合金薄膜及镍硅化物膜 |
CN105220092A (zh) * | 2015-11-03 | 2016-01-06 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111788332B (zh) * | 2018-03-01 | 2021-08-06 | 三菱综合材料株式会社 | Cu-Ni合金溅射靶 |
JP2019151916A (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-12 | 三菱マテリアル株式会社 | Cu−Ni合金スパッタリングターゲット |
CN111788332A (zh) * | 2018-03-01 | 2020-10-16 | 三菱综合材料株式会社 | Cu-Ni合金溅射靶 |
WO2019167564A1 (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-06 | 三菱マテリアル株式会社 | Cu-Ni合金スパッタリングターゲット |
CN110468382A (zh) * | 2019-09-12 | 2019-11-19 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法 |
WO2021046929A1 (zh) * | 2019-09-12 | 2021-03-18 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法 |
CN110468382B (zh) * | 2019-09-12 | 2021-04-09 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法 |
CN112063982A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-12-11 | 洛阳高新四丰电子材料有限公司 | 一种镍钼合金熔炼管靶及其制备方法 |
CN112846660A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-28 | 有研亿金新材料有限公司 | 一种厚壁大长径比高纯铜管靶加工方法 |
CN112846660B (zh) * | 2020-12-31 | 2022-05-27 | 有研亿金新材料有限公司 | 一种厚壁大长径比高纯铜管靶加工方法 |
CN113774337A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-12-10 | 虹华科技股份有限公司 | 一种平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺 |
CN113774337B (zh) * | 2021-08-19 | 2023-11-17 | 四川华赐科技有限公司 | 一种平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺 |
CN113862619A (zh) * | 2021-09-08 | 2021-12-31 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种锌镁靶材及其制备方法 |
CN113862619B (zh) * | 2021-09-08 | 2023-10-17 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种锌镁靶材及其制备方法 |
CN114574822A (zh) * | 2022-03-02 | 2022-06-03 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种银合金靶材制备工艺及应用 |
CN114574822B (zh) * | 2022-03-02 | 2024-01-30 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种银合金靶材制备工艺及应用 |
CN115522086A (zh) * | 2022-10-26 | 2022-12-27 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种NiCr合金靶材制备方法 |
CN115522086B (zh) * | 2022-10-26 | 2024-07-05 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种NiCr合金靶材制备方法 |
CN116752104A (zh) * | 2023-06-16 | 2023-09-15 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 一种半导体用的高纯低氧细晶Ag旋转管靶的制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105734507B (zh) | 2018-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105734507B (zh) | 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 | |
CN105861999B (zh) | 高纯细晶金属镍热挤压旋转靶材 | |
CN108213422B (zh) | 一种含碳高熵合金复合材料的制备方法 | |
CN103071793B (zh) | 钼溅射靶材热等静压生产方法 | |
US20240123502A1 (en) | Titanium alloy powder for selective laser melting 3d printing, selective laser melted titanium alloy and preparation thereof | |
CN105268973A (zh) | 一种基于TiNi记忆合金丝材的功能材料部件增材制造方法 | |
WO2021046927A1 (zh) | 一种含微量稀土元素的镍铼合金旋转管状靶材及制备方法 | |
CN104480444A (zh) | 钛铝合金靶材及其制备方法 | |
CN112916870B (zh) | 一种中高熵合金材料的制备方法 | |
CN110218910A (zh) | 一种新型粉末高温合金及其制备方法 | |
CN112317993B (zh) | 一种Ti35HS钛合金焊丝材的制备方法 | |
CN110343887B (zh) | 一种粉末挤压制备高致密度细晶钛合金的方法 | |
CN102392147A (zh) | 超细晶镍基粉末高温合金的制备方法 | |
CN103938102A (zh) | 一种铁铬铝系多元高电阻电热合金的制备方法 | |
CN110468301A (zh) | 一种具有近零热膨胀性能青铜合金的制备方法 | |
CN100549199C (zh) | 一种磁控溅射Co-Cr-Ta合金靶的制造方法 | |
CN114101372B (zh) | 一种高强tc18钛合金无缝管材高效低成本制备方法 | |
CN103521943A (zh) | 钎焊用铝硅铜合金无缝药芯焊丝、制备及应用 | |
CN105821265A (zh) | 一种大截面厚壁合金型材及其生产工艺 | |
CN105220092A (zh) | 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法 | |
CN111441020B (zh) | 一种低成本制备tc4钛合金溅射靶材的方法 | |
CN102416558B (zh) | 特别适用于冷弯塑性成形铝合金挤压构件的制备方法 | |
CN108531756A (zh) | 一种提高黄铜材料抗拉强度和晶粒细化的生产工艺 | |
CN110484885A (zh) | 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法 | |
CN107740020A (zh) | 一种钛镍管材的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Fine grain nickel alloy rotary target capable of achieving even film forming and hot extrusion optimizing preparation method thereof Effective date of registration: 20200616 Granted publication date: 20180619 Pledgee: Jiangsu Suzhou Rural Commercial Bank Co., Ltd. Lili sub branch Pledgor: JIMAIKE MATERIAL TECHNOLOGY (SUZHOU) Co.,Ltd. Registration number: Y2020320010048 |
|
PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right |
Date of cancellation: 20210608 Granted publication date: 20180619 Pledgee: Jiangsu Suzhou Rural Commercial Bank Co., Ltd. Lili sub branch Pledgor: JIMAIKE MATERIAL TECHNOLOGY (SUZHOU) Co.,Ltd. Registration number: Y2020320010048 |
|
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Fine grained nickel alloy rotary target with uniform film formation and its optimized preparation by hot extrusion Effective date of registration: 20210611 Granted publication date: 20180619 Pledgee: Jiangsu Suzhou Rural Commercial Bank Co., Ltd. Lili sub branch Pledgor: JIMAIKE MATERIAL TECHNOLOGY (SUZHOU) Co.,Ltd. Registration number: Y2021320010207 |