CN110484885A - 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种含微量元素的大管径Ni‑Cr旋转靶材及其制备方法,包括按质量百分比计的如下原料组分:C 0.01~0.05%,B 0.02~0.08%,Zr 0.01~0.06%,Mg 0.05~0.1%,Cr 7~44%以及余量Ni和不可避免的杂质。制备步骤依次采用真空熔炼、热锻、机加工、热挤压、酸洗处理、固溶处理、冷轧或镗孔、退火处理、机加工或绑定。本发明在Ni‑Cr的基础上,添加微量的元素C、B、Zr、Mg进行成分优化,使合金在凝固后期能够有效补缩,减少缺陷的形成面积,降低氧、硫、氢、氮等含量,且能抑制裂纹的萌生,提高靶材的晶界结合力,细化晶粒,从而提高成材率;通过制作整体旋转靶或绑定旋转靶,其利用率可达到70%‑80%,既能满足更多的市场需求和特殊需求,又能提高材料的利用率,降低成本。
Description
技术领域
本发明涉及磁控溅射靶材及其制备,特别是涉及一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法。
背景技术
随着电子、新能源、建筑等工业领域的快速发展,薄膜电阻、太阳能光谱选择吸收膜、镀膜玻璃等的应用要求也日益提高。因此,磁控溅射镀膜技术需要更加完善,而靶材作为磁控溅射镀膜过程中最为关键的基本耗材,如何提高靶材的利用率和沉积薄膜的质量,通过研究发现只有致密度高、晶粒尺寸小且均匀的靶材,才具备高导电性、高导热性及高强度等优点。
目前,国内使用的镍铬靶材大部分为平面靶材,旋转靶材只占很少的一部分。受到国外技术的封锁,国内目前只能生产一些小管径的镍铬旋转靶材。相较于利用率只有20~30%的平面靶材而言,旋转靶材的利用率可以高达70%,甚至超过70%,尤其大管径的镍铬旋转靶材利用率更高。而且大管径的镍铬旋转靶材可应用于特殊的产品镀膜,从而满足更多的市场需求。但是大管径镍铬合金管在传统的穿管、轧管工艺过程中,需要多次扩孔与更换模具,成本相当大,而且常出现开裂、夹杂物及偏心等缺陷,成品率很低,从而使镍铬合金管的生产成本居高不下。另外,由于环境保护的可持续发展理念,在合金熔炼过程中,使用发热剂来提高钢锭补缩的方式被取缔,为提高成材率,寻求一种生产工艺简单、成材率高、精度高、成本较低的大管径镍铬旋转靶材的制备方法势在必行。
发明内容
发明目的:本发明的目的之一是提供一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材,利用微量元素的添加,使合金在凝固后期能够有效补缩,减少缺陷的形成面积,且能抑制裂纹的萌生,提高晶界结合力,细化晶粒,从而提高成材率;本发明的目的之二是提高一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,制备得到的旋转靶材具备高利用率,可应用于特殊镀膜行业,且在制备过程中能够克服镍铬管开裂、夹杂物、缺陷、偏心及加工困难等问题。
技术方案:本发明的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材,包括按质量百分比计的如下组分:C 0.01~0.05%,B 0.02~0.08%,Zr 0.01~0.06%,Mg 0.05~0.1%,Cr 7~44%以及余量Ni和不可避免的杂质。其中不可避免的杂质如Al、Fe等。
优选地,所述旋转靶材的杂质Fe的含量小于0.01%。杂质铁对靶材磁控溅射的影响最大,因此采用合适的原料组分配比和制备工艺,降低旋转靶材中杂质铁的含量。
本发明还提供了一种所述含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,制备步骤主要包括原料准备、真空熔炼、热锻、机加工、热挤压、酸洗处理、固溶处理、冷轧或镗孔、退火处理、机加工或绑定;具体过程为:
(1)真空熔炼:熔炼前准备原料,纯度≥99.9%的光电碳、纯度≥99.5%的硼粒、纯度≥99.5%的金属锆、纯度≥99.9%的金属镁或者镍-镁中间合金、纯度≥99.43%的金属铬、99.96%的电解镍;后将原料按照上述各组分含量将电解镍、金属铬、光电碳混合,后在1400~1550℃条件下真空熔炼70~90min,再加入锆、镁或镍-镁中间合金、硼精炼10~20min,后在保护气氛下浇铸得到铸锭;其中整个熔炼过程中真空度保持在小于4Pa;浇铸时的保护气氛可以是氩气;
(2)热锻:热锻前对铸锭进行粗加工,可以利用车床去除表面氧化皮和一些缺陷,切除冒口,得到圆台型光亮锭,并仔细修磨,去除微裂纹等;后将铸锭进行热锻,将铸锭加热至1100~1300℃,保温20~50min后,进行锻造,开锻温度为1100~1300℃,终锻温度为950~1050℃;将铸锭反复墩粗后拔长,变形量大于50%;此处的拔长的变形量大于50%,是和墩粗后的锻棒相对比的。
(3)机加工:将经过热锻的圆柱型锻件表面氧化皮去除,将锻件两端加工平整,确保端面与圆柱面垂直,然后根据要求加工出中心通孔,并在锻棒的一端加工出锥形孔,得到合金圆柱。
(4)热挤压:通过感应加热对步骤(3)得到的合金圆柱进行加热,加热温度为1100~1200℃;后进行扩孔,扩孔速度为150~220mm/s;再采用二次感应加热处理,加热温度为1110~1220℃,采用热挤压机进行挤压,挤压速度为120~150mm/s,得到旋转靶材的荒管。其中荒管可加工为外径170~200mm,内径为130~160mm,长度为2500~4500mm;也可以根据实际需要加工得到的最终靶材的管径进行调整。
(5)对荒管依次进行酸洗处理、固溶处理、冷轧或镗孔、退火处理、机加工或绑定。
上述工艺中,酸洗处理:将荒管进行酸洗,去除表面凹坑等缺陷;酸洗处理可采用现有技术中的常用酸洗工艺;
固溶处理:将酸洗过的荒管进行固溶处理,室温下得到单相奥氏体组织,使材料具有最好的耐蚀性,并且塑性高、成形性好,并且能够细化荒管的晶粒组织。
冷轧或镗孔:将表面处理过的荒管进行高精度的轧制或者进行镗孔,得到内孔尺寸公差为±0.2mm光亮管。
退火处理:对光亮管进行退火处理,退火温度为840~870℃,保温80~90min。
机加工或绑定:最后将光亮管加工到所需尺寸的整体旋转靶材,或加工到一定的尺寸,再通过绑定的方式制作所需尺寸的绑定旋转靶材。
优选地,上述制备过程中的步骤(1)中电解镍在550~650℃条件下烘烤5~8小时。长时间的烘烤,可以有效去除电解镍中含有的大部分氢气。
优选地,所述步骤(1)中真空熔炼过程中添加锆、镁、硼采用镍箔包住锆、镁、硼的方式加入;真空熔炼过程中采用上述方式加入微量合金元素金属锆、金属镁、硼粒,可以避免直接加入引起钢液沸腾及溅射。
优选地,所述步骤(2)中墩粗的变形量为45~60%。在锻造过程中,反复墩粗和拔长,其墩粗变形量为45~60%,充分破碎粗大晶粒组织,从而提高挤压成材率。
优选地,所述步骤(3)中心通孔的直径为20~40mm,所述锥形孔的锥度为20°~40°。此处的中心通孔、锥形孔方便扩孔头与合金对应,防止扩歪造成偏心。
优选地,所述步骤(4)中,二次感应加热的温度比前一次感应加热的温度高10~20℃。通过感应加热后再扩孔,二次感应加热后再挤压,并且二次感应加热温度略高10~20℃,可以防止挤压准备过程中温度下降而造成的缺陷或报废。
优选地,所述步骤(5)固溶处理将荒管加热到1000~1100℃保温,然后水淬。采用较低温度的固溶处理,快速冷却,从而得到细小晶粒的荒管,提高材料的塑性和耐蚀性。
优选地,所述步骤(5)的退火处理具体为:退火温度为840~870℃,保温80~90min。
发明原理:本发明通过在真空熔炼过程中添加微量的合金元素C、B、Zr、Mg进行成分优化,使合金在凝固后期能够有效补缩,减少缺陷的形成面积,降低氧、硫、氢、氮等含量,且能抑制裂纹的萌生,提高靶材的晶界结合力,细化晶粒,从而提高成材率。其中,添加B元素,B偏聚在晶界或空位型缺陷上,提高晶界结合力,形成细小的M3B2型硼化物,减少由杂质元素结合形成的TCP相的形成,抑制裂纹的产生,使合金在凝固后期能够有效补缩,减少显微缩孔的产生;添加Zr元素,Zr在加热时能大量地吸收氧、氢等气体,尤其在高温熔炼时能猛烈地吸收氮气,同时,Zr能够促进Cr弥散分布,并细化晶粒;添加C、Mg元素,能够进一步脱氧、去硫,净化金属液,而且高温下会挥发,不影响金属液的纯度,从而降低镍铬合金中的氢、氧、氮等间隙气体含量,同时去除有害杂质硫与细化晶粒,从而提高合金的质量,优化合金成分。
本发明的两个关键技术环节分别为Ni-Cr旋转靶材原材料的配比设计及工艺条件的控制,两者相辅相成。通过合适的成分配比、结合优化的制备方法,成功制备得到了Ni-Cr旋转靶材,可以制作整体旋转靶材或者绑定旋转靶材,满足更多的使用需求。
有益效果:与现有技术相比,
(1)本发明在Ni-Cr的基础上,添加微量的合金元素C、B、Zr、Mg进行成分优化,使合金在凝固后期能够有效补缩,减少缺陷的形成面积,降低氧、硫、氢、氮等含量,且能抑制裂纹的萌生,提高靶材的晶界结合力,细化晶粒,从而提高成材率;
(2)电解镍通过长时间高温烘烤,能有效去除电解镍中含有的氢气;通过反复墩粗和拔长的锻造工艺、感应加热后扩孔及二次感应加热后挤压、精轧或镗孔等工艺过程,能够提高旋转靶材的同心率和成材率;
(3)本发明通过微量元素的添加、固溶处理及退火处理,使旋转靶材的晶粒均匀,且晶粒大小在80μm以下可调节;
(4)通过制作整体旋转靶或绑定旋转靶,其利用率可达到70%-80%,既能满足更多的市场需求和特殊需求,又能提高材料的利用率,降低成本;
(5)本发明的含微量元素的Ni-Cr旋转靶材生产工艺简单、成材率高、精度高、成本较低、管径大,应用前景广阔。
附图说明
图1是实施例1制备的大管径Ni-Cr旋转靶材的100倍金相照片;
图2是实施例2制备的大管径Ni-Cr旋转靶材的100倍金相照片;
图3是实施例3制备的大管径Ni-Cr旋转靶材的100倍金相照片;
图4是实施例4制备的大管径Ni-Cr旋转靶材的100倍金相照片;
图5是实施例5制备的大管径Ni-Cr旋转靶材的100倍金相照片。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行详细说明。
以下实施例中用于制备大管径Ni-Cr旋转靶材的试剂和材料均为市售。
实施例1:
本实施例中大管径Ni-Cr旋转靶材的组分及含量,按质量百分比计分别为:C0.04%,B 0.06%,Zr 0.03%,Mg0.09%,Cr44%以及余量Ni和不可避免的杂质。
该大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法包括如下步骤:
(1)真空熔炼:准备原料光电碳、硼粒、金属锆、金属镁、金属铬、电解镍,其中原料为:纯度为99.9%的光电碳、99.83%的硼粒、99.9%的金属锆、99.9%的金属镁、99.95%的金属铬、99.96%的电解镍;
将电解镍、金属铬的表面油污及氧化物处理干净并干燥称重,再将电解镍600℃,保温6小时烘烤;然后将原料按照上述各组分含量,首先将电解镍、金属铬、光电碳放入真空熔炼坩埚中,通电熔炼,熔炼温度为1500℃,熔炼时间为80min,再先后加入用镍箔包好的金属锆、金属镁和硼粒,再精炼15min,整个熔炼过程中真空度小于4Pa;熔炼后进行浇铸,浇铸前在真空状态中先通氩气4Mpa,在保护气氛的条件下进行浇注,浇注40min后脱模得到铸锭。
(2)第一次机加工:利用车床去除铸锭表面氧化皮和一些缺陷,切除冒口,得到圆台型光亮锭,并仔细修磨,去除微裂纹等;
(3)热锻:将经机加工处理后的铸锭加热至1100℃,保温30min后,进行锻造,开锻温度为1100℃,终锻温度为950℃;将铸锭反复墩粗,墩粗的变形量为50%,后进行拔长,变形量为60%,拔长变形量是和墩粗后的锻棒相对比的。最终锻造至的锻棒;
(4)第二次机加工:将圆柱型锻棒的表面氧化皮去除,将锻棒两端加工平整,确保端面与圆柱面垂直,加工后为直径299±1mm,长度大于500mm的圆柱,然后加工出直径为30mm的中心通孔,并在其中一端加工出成20°锥度的锥形孔,得到合金圆柱;
(5)热挤压:通过感应加热对合金圆柱进行加热,加热温度为1130℃,再利用扩孔头进行扩孔,扩孔速度为200mm/s,再经过二次感应加热,加热温度为1140℃,再利用6500吨热挤压机进行挤压,挤压速度为130mm/s;通过热挤压得到外径为170~200mm,内径为130~160mm,长度为2500~4500mm的荒管;
(6)酸洗处理:将荒管进行酸洗,去除表面凹坑等缺陷;
(7)固溶处理:将荒管加热到1000℃保温,保温1小时,然后水淬;
(8)冷轧或镗孔:将表面处理过的荒管进行高精度的轧制或者进行镗孔,得到内孔尺寸公差为±0.2mm光亮管;
(9)退火处理:在850℃的退火温度条件下,保温85min进行退火处理;
(10)机加工或绑定:将光亮管加工到所需尺寸的整体旋转靶材,或加工到一定的尺寸,再通过绑定的方式制作所需尺寸的绑定旋转靶材。
对本实施例制备得到的大管径Ni-Cr旋转靶材进行金相分析,100倍下的金相图片如图1所示,可以看出晶粒细小均匀,晶粒度大小平均在45~58μm。
实施例2:
本实施例中大管径Ni-Cr旋转靶材的组分及含量,按质量百分比计分别为:C0.05%,B 0.08%,Zr 0.01%,Mg 0.1%,Cr 40%以及余量Ni和不可避免的杂质。
本实施例的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法与实施例1基本相同,不同之处在于:
步骤(1)中,其中原料的纯度为99.9%的光电碳、99.83%的硼粒、99.9%的金属锆、99.9%的金属镁、99.43%的金属铬、99.96%的电解镍;电解镍在550℃,保温5小时进行烘烤;熔炼温度为1400℃,熔炼时间70min,精炼时间为10min;
步骤(3)中,铸锭加热至1250℃,保温20min;开锻温度为1250℃,终锻温度为1050℃;墩粗的变形量为45%;
步骤(4)中,机加工出直径为20mm的中心通孔,并在其中一端加工出成30°锥度的锥形孔;
步骤(5)中,感应加热温度为1160℃,扩孔速度为150mm/s;第二次感应加热温度为1180℃,挤压速度为120mm/s;
步骤(7)中,固溶处理加热到1100℃;
步骤(9)中,退火温度为840℃,保温80min。
对本实施例制备得到的大管径Ni-Cr旋转靶材进行金相分析,100倍下的金相图片如图2所示,可以看出晶粒细小,且比较均匀,晶粒度大小平均在55~76μm。
实施例3:
本实施例中大管径Ni-Cr旋转靶材的组分及含量,按质量百分比计分别为:C0.02%,B 0.04%,Zr 0.04%,Mg 0.06%,Cr 10%以及余量Ni和不可避免的杂质。
本实施例的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法与实施例1基本相同,不同之处在于:
步骤(1)中,其中原料的纯度为99.9%的光电碳、99.83%的硼粒、99.9%的金属锆、99.9%的金属镁、99.43%的金属铬、99.96%的电解镍;电解镍在580℃,保温8小时进行烘烤;熔炼温度为1550℃,熔炼时间90min,精炼时间为20min;
步骤(3)中,铸锭加热至1300℃,保温40min;开锻温度为1300℃,终锻温度为1020℃;墩粗的变形量为60%;
步骤(4)中,机加工出直径为30mm的中心通孔,并在其中一端加工出成40°锥度的锥形孔;
步骤(5)中,感应加热温度为1100℃,扩孔速度为160mm/s;第二次感应加热温度为1110℃,挤压速度为150mm/s;
步骤(7)中,固溶处理加热到1100℃;
步骤(9)中,退火温度为870℃,保温90min。
对本实施例制备得到的大管径Ni-Cr旋转靶材进行金相分析,100倍下的金相图片如图3所示,可以看出晶粒细小,且比较均匀,晶粒度大小平均在50~69μm。
实施例4:
本实施例中大管径Ni-Cr旋转靶材的组分及含量,按质量百分比计分别为:C0.01%,B 0.02%,Zr 0.06%,Mg 0.05%,Cr 7%以及余量Ni和不可避免的杂质。
本实施例的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法与实施例1基本相同,不同之处在于:
步骤(1)中,其中原料的纯度为99.96%的光电碳、99.83%的硼粒、99.9%的金属锆、99.9%的金属镁、99.43%的金属铬、99.96%的电解镍;电解镍在650℃,保温7小时进行烘烤;
步骤(3)中,铸锭加热至1200℃,保温50min;开锻温度为1200℃,终锻温度为1030℃;墩粗的变形量为55%;
步骤(4)中,机加工出直径为40mm的中心通孔,并在其中一端加工出成40°锥度的锥形孔;
步骤(5)中,感应加热温度为1180℃,扩孔速度为220mm/s;第二次感应加热温度为1200℃,挤压速度为140mm/s;
步骤(7)中,固溶处理加热到1000℃;
步骤(9)中,退火温度为860℃,保温85min。
对本实施例制备得到的大管径Ni-Cr旋转靶材进行金相分析,100倍下的金相图片如图4所示,可以看出晶粒细小均匀,晶粒度大小平均在40~53.5μm。
实施例5:
本实施例中大管径Ni-Cr旋转靶材的组分及含量,按质量百分比计分别为:C0.03%,B 0.05%,Zr 0.05%,Mg 0.08%,Cr 20%以及余量Ni和不可避免的杂质。
本实施例的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法与实施例1基本相同,不同之处在于:
步骤(1)中,其中原料的纯度为99.9%的光电碳、99.83%的硼粒、99.9%的金属锆、99.9%的金属镁、99.43%的金属铬、99.96%的电解镍;电解镍在620℃,保温6小时进行烘烤;
步骤(3)中,墩粗的变形量为48%;
步骤(4)中,机加工出直径为20mm的中心通孔,并在其中一端加工出成40°锥度的锥形孔;
步骤(5)中,感应加热温度为1200℃,第二次感应加热温度为1220℃;
步骤(7)中,固溶处理加热到1100℃;
对本实施例制备得到的大管径Ni-Cr旋转靶材进行金相分析,100倍下的金相图片如图5所示,可以看出晶粒细小均匀,晶粒度大小平均在47~60μm。
后分别对实施例1~实施例5制备得到的含微量元素的Ni-Cr旋转靶材进行ICP化学成分检测和纯度测试,结果分别如表1、表2所示。从表1可以看出,铬的实际检测含量比理论(结合纯度和投入比例)含量要略高,锆、硼、镁、碳这些微量元素都有烧损,尤其是镁的含量非常小,所以不影响靶材的纯度,反而净化部分杂质,提高纯度;其中,杂质铁对靶材磁控溅射的影响最大,本发明旋转靶材的铁的含量小于0.01%。
从表2可以看出,本发明的旋转靶材通过微量元素的添加和真空冶炼,可以将纯度保持在99.9%以上,也可以制备大于99.95%的高纯镍铬旋转靶材,满足绝大部分旋转溅射靶材的纯度要求。
表1 含微量元素的Ni-Cr旋转靶材化学成分测试结果
表2.含微量元素的Ni-Cr旋转靶材纯度测试结果
Claims (10)
1.一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材,其特征在于包括按质量百分比计的如下原料组分:C 0.01~0.05%,B 0.02~0.08%,Zr 0.01~0.06%,Mg 0.05~0.1%,Cr 7~44%以及余量Ni和不可避免的杂质。
2.根据权利要求1所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材,其特征在于:所述旋转靶材的杂质Fe的含量小于0.01%。
3.一种制备权利要求1或2所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)真空熔炼:按各原料组分含量将电解镍、金属铬、光电碳混合,后在1400~1550℃条件下真空熔炼70~90min,再加入锆、镁、硼精炼10~20min,后在保护气氛下浇铸得到铸锭;
(2)热锻:将铸锭经机加工处理后加热至1100~1300℃,保温20~50min后,进行锻造,开锻温度为1100~1300℃,终锻温度为950~1050℃;将铸锭反复墩粗后拔长,变形量大于50%;
(3)机加工:将步骤(2)得到的锻棒进行外表面机加处理,根据要求加工出中心通孔,锻棒的一端加工出锥形孔,得到合金圆柱;
(4)热挤压:通过感应加热对步骤(3)得到的合金圆柱进行加热,加热温度为1100~1200℃;后进行扩孔,扩孔速度为150~220mm/s;再采用二次感应加热处理,加热温度为1110~1220℃,采用热挤压机进行挤压,挤压速度为120~150mm/s,得到荒管;
(5)对荒管依次进行酸洗处理、固溶处理、冷轧或镗孔、退火处理、机加工或绑定。
4.根据权利要求3所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中电解镍在550~650℃条件下烘烤5~8小时。
5.根据权利要求3所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中真空熔炼过程中添加锆、镁、硼采用镍箔包住锆、镁、硼的方式加入。
6.根据权利要求3所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中墩粗的变形量为45~60%。
7.根据权利要求3所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中心通孔的直径为20~40mm,所述锥形孔的锥度为20°~40°。
8.根据权利要求3所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤(4)中,二次感应加热的温度比前一次感应加热的温度高10~20℃。
9.根据权利要求3所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)固溶处理将荒管加热到1000~1100℃保温,然后水淬。
10.根据权利要求3所述的含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)的退火处理具体为:退火温度为840~870℃,保温80~90min。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111604651A (zh) * | 2020-06-28 | 2020-09-01 | 沈阳有色金属加工有限公司 | 大尺寸高纯铜旋转靶材的制备方法 |
WO2021046929A1 (zh) * | 2019-09-12 | 2021-03-18 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006161082A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | スパッタリングターゲットの製造方法 |
CN101946015A (zh) * | 2008-02-13 | 2011-01-12 | 株式会社日本制钢所 | 具有优良的不易产生偏析的性能的Ni基高温合金 |
CN102352482A (zh) * | 2011-09-28 | 2012-02-15 | 江苏美特林科特殊合金有限公司 | 一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法 |
CN102922233A (zh) * | 2012-10-31 | 2013-02-13 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法 |
CN103710577A (zh) * | 2014-01-16 | 2014-04-09 | 南京达迈科技实业有限公司 | 含微量稀土元素的镍钒合金磁控溅射旋转靶材及制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2662461A1 (de) * | 2012-05-07 | 2013-11-13 | Schmidt + Clemens GmbH & Co. KG | Eisen-Chrom-Mangan-Nickel-Legierung |
CN105838925B (zh) * | 2015-01-12 | 2017-11-28 | 宝钢特钢有限公司 | 耐高温氧化镍基合金 |
CN105734507B (zh) * | 2016-04-05 | 2018-06-19 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 |
CN110484885A (zh) * | 2019-09-12 | 2019-11-22 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法 |
-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006161082A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | スパッタリングターゲットの製造方法 |
CN101946015A (zh) * | 2008-02-13 | 2011-01-12 | 株式会社日本制钢所 | 具有优良的不易产生偏析的性能的Ni基高温合金 |
CN102352482A (zh) * | 2011-09-28 | 2012-02-15 | 江苏美特林科特殊合金有限公司 | 一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法 |
CN102922233A (zh) * | 2012-10-31 | 2013-02-13 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法 |
CN103710577A (zh) * | 2014-01-16 | 2014-04-09 | 南京达迈科技实业有限公司 | 含微量稀土元素的镍钒合金磁控溅射旋转靶材及制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
刘正鄂等: "《有色重金属及合金的熔炼与浇铸》", 31 December 1985, 中国有色金属工业总公司职工教育教材编审办公室 * |
黄永昌等: "《现代材料腐蚀与防护》", 30 September 2012, 上海交通大学出版社 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021046929A1 (zh) * | 2019-09-12 | 2021-03-18 | 南京达迈科技实业有限公司 | 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法 |
CN111604651A (zh) * | 2020-06-28 | 2020-09-01 | 沈阳有色金属加工有限公司 | 大尺寸高纯铜旋转靶材的制备方法 |
CN111604651B (zh) * | 2020-06-28 | 2021-10-22 | 沈阳有色金属加工有限公司 | 大尺寸高纯铜旋转靶材的制备方法 |
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