发明内容
本发明的目的是针对现有技术存在的不足,提供一种工艺参数易于控制、微观组织均匀细小、成品完全密实、无疏松气孔裂纹等缺陷、成品成品率高以及成品成材率高的金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法。
为实现上述发明目的,本发明采用的技术方案为1、一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法,包括以下步骤:
1)配料:按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si;原料纯度在99.8%以上,合金成分wt%为:Ni:40~57%,Cr:40~57%,Si:3~10%;
2)铸造模型的加热:将真空感应炉内的加热炉加热至1000℃~1100℃,再将铸造模型放入其内加热至800-1000℃并保温,待浇注时使用;
3)熔炼、精密铸造铸锭:将称好的原料放入真空感应熔炼炉中,进行冶炼,精炼10~15分钟,当合金熔融液体温度达到液相线以上50~150℃时进行浇注;
4)铸锭冷却:浇注完成后取出铸锭埋入氧化物陶瓷细砂中缓慢冷却,待冷却至室温时取出铸锭进行机加工;
5)机加工:将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。
所述步骤2)中加热炉优选为电阻炉。
所述步骤2)中所述铸造模型为侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型。
所述步骤3)中将称好的原料优选放入真空感应熔炼炉的氧化镁坩埚中,进行冶炼。
所述步骤4)中所述氧化物陶瓷细砂优选为氧化硅细砂。
有益效果:本发明工艺参数容易控制,微观组织分布均匀,晶粒细小;无疏松气孔裂纹等缺陷,材料完全密实;铸锭表面无冷隔,喷溅,合金液体完全充满精密铸造模型,产品成材率高;可做产品尺寸大,最大尺寸可以达到400×130×13.5mm。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐明本发明,本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施,应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。
根据本发明所述的金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法和原料,制备了六批Ni-Cr-Si合金板材,每批共计2片靶材。表1为本发明实施例所用原料与工艺步骤、工艺参数和现有技术对比例对比表;表2本发明实施例与现有技术对比例产品的缺陷情况和成材率对比表。为了方便对比,将现有技术对比例的工艺参数和性能列入上表中,其中1-6#为本发明实施例,7-9#为现有技术对比例。
实施例一:一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法,包括以下步骤:
1)配料:按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si;原料纯度为99.8%。合金成分wt%为:Ni:40%,Cr:57%,Si:3%;
2)铸造模型的加热:将真空感应炉内的电阻炉加热至1000℃,再将侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型放入其内加热并在800℃保温,待浇注时使用;
3)熔炼、精密铸造铸锭:将称好的原料放入真空感应熔炼炉的氧化镁坩埚中,进行冶炼,精炼10分钟,当合金熔融液体温度达到液相线以上100℃时进行浇注,浇注温度为1430℃;
4)铸锭冷却:浇注完成后取出铸锭埋入氧化硅细砂中缓慢冷却,待冷却至室温时取出铸锭进行机加工;
5)机加工:将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。
实施例二:一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法,包括以下步骤:
1)配料:按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si;原料纯度为99.9%。合金成分wt%为:Ni:57%,Cr:40%,Si:3%;
2)铸造模型的加热:将真空感应炉内的电阻炉加热至1100℃,再将侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型放入其内加热并在900℃保温,待浇注时使用;
3)熔炼、精密铸造铸锭:将称好的原料放入真空感应熔炼炉的氧化镁坩埚中,进行冶炼,精炼15分钟,当合金熔融液体温度达到液相线以上90℃时进行浇注,浇注温度为1420℃;
4)铸锭冷却:浇注完成后取出铸锭埋入氧化硅细砂中缓慢冷却,待冷却至室温时取出铸锭进行机加工;
5)机加工:将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。
实施例三:一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法,包括以下步骤:
1)配料:按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si;原料纯度为99.85%。合金成分wt%为:Ni:50%,Cr:40%,Si:10%;
2)铸造模型的加热:将真空感应炉内的电阻炉加热至1050℃,再将侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型放入其内加热并在1000℃保温,待浇注时使用;
3)熔炼、精密铸造铸锭:将称好的原料放入真空感应熔炼炉的氧化镁坩埚中,进行冶炼,精炼11分钟,当合金熔融液体温度达到液相线以上50℃时进行浇注,浇注温度为1360℃;
4)铸锭冷却:浇注完成后取出铸锭埋入氧化硅细砂中缓慢冷却,待冷却至室温时取出铸锭进行机加工;
5)机加工:将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。
实施例四:一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法,包括以下步骤:
1)配料:按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si;原料纯度为99.95%。合金成分wt%为:Ni:47.5%,Cr:47.5%,Si:5%;
2)铸造模型的加热:将真空感应炉内的电阻炉加热至1050℃,再将侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型放入其内加热并在850℃保温,待浇注时使用;
3)熔炼、精密铸造铸锭:将称好的原料放入真空感应熔炼炉的氧化镁坩埚中,进行冶炼,精炼12分钟,当合金熔融液体温度达到液相线以上70℃时进行浇注,浇注温度为1400℃;
4)铸锭冷却:浇注完成后取出铸锭埋入氧化硅细砂中缓慢冷却,待冷却至室温时取出铸锭进行机加工;
5)机加工:将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。
实施例五:一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法,包括以下步骤:
1)配料:按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si;原料纯度为99.9%。合金成分wt%为:Ni:55%,Cr:40%,Si:5%;
2)铸造模型的加热:将真空感应炉内的电阻炉加热至1050℃,再将侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型放入其内加热并在950℃保温,待浇注时使用;
3)熔炼、精密铸造铸锭:将称好的原料放入真空感应熔炼炉的氧化镁坩埚中,进行冶炼,精炼12分钟,当合金熔融液体温度达到液相线以上60℃时进行浇注,浇注温度为1380℃;
4)铸锭冷却:浇注完成后取出铸锭埋入氧化硅细砂中缓慢冷却,待冷却至室温时取出铸锭进行机加工;
5)机加工:将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。
实施例六:一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法,包括以下步骤:
1)配料:按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si;原料纯度为99.8%。合金成分wt%为:Ni:53%,Cr:40%,Si:7%;
2)铸造模型的加热:将真空感应炉内的电阻炉加热至1060℃,再将侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型放入其内加热并在1000℃保温,待浇注时使用;
3)熔炼、精密铸造铸锭:将称好的原料放入真空感应熔炼炉的氧化镁坩埚中,进行冶炼,精炼13分钟,当合金熔融液体温度达到液相线以上80℃时进行浇注,浇注温度为1370℃;
4)铸锭冷却:浇注完成后取出铸锭埋入氧化硅细砂中缓慢冷却,待冷却至室温时取出铸锭进行机加工;
5)机加工:将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。
表1
表2