CN105579932B - 静电电容方式触摸面板用电极片 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种静电电容方式触摸面板用电极片,即使在由金属细线等不透明导电性细线图案构成电极的情况下,导电性细线也难以被目视识别出,能够确保高透明性。由不透明导电性细线和被该导电性细线分隔出的空白部分17构成的第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线16分别具有夹着基体12相对的线段16a,所述第1电极图案25a和所述第2电极图案25b中的一方的所述导电性细线16设计成仅所述相对的线段16a的线宽形成得比另一方的所述导电性细线16窄,由此使得宽度不是恒定的。

Description

静电电容方式触摸面板用电极片
技术领域
本发明涉及由金属细线等不透明导电性细线图案构成电极的静电电容方式的触摸面板用电极片。
背景技术
一般而言,静电电容方式的触摸面板是捕捉人的指尖与导电膜之间的静电电容变化来检测出指尖位置的位置输入装置,但是,作为该静电电容方式的触摸面板有表面型和投影型。表面型的构造简单,但难以同时检测出2点以上的接触(多点触摸)。另一方面,投影型触摸面板构成为多个电极排列成矩阵状,更具体来讲,构成为:多个第1电极排列于水平方向,多个第2电极隔着绝缘层排列于垂直方向,为通过由第1电极群和第2电极群依次检测出电容变化,能够检测出多点触摸的构成。
这样的触摸面板主要应用于智能手机、平板终端这样的小尺寸设备,但是,可以想象今后会应用于电脑用显示器等而向大尺寸化发展。对于这样的将来的动向而言,现有电极由于使用IT0(氧化铟锡),因此存在以下这样的问题:电阻大(几百欧/sq.左右),随着应用尺寸的变大,电极间的电流传输速度变慢,响应速度(从使指尖接触到检测出该位置为止的时间)变慢。此外,ITO价格高,因此存在着难以实现大尺寸化这样的问题。
因此,为了解决这些问题,人们一直在开发对廉价且电阻低的金、银、铜等的金属薄膜进行微细加工而以触摸者不可见的线宽的金属细线构成电极的技术(所谓金属网状电极)。作为将金属细线用于电极的触摸面板,已知有例如专利文献1~3。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特表2011-530112号公报
专利文献2:日本特开2012-079238号公报
专利文献3:日本特开2011-175628号公报
发明内容
不过,在将金属细线用于电极的情况下,由于金属细线是由不透明材料制作的,因此透明性和目视识别性成为问题。
例如,投影型静电电容方式的触摸面板如上所述,构成为:多个第1电极沿水平方向排列,多个第2电极隔着绝缘层沿垂直方向排列。为了制造这样构成的触摸面板用电极片,可以考虑将单一薄膜或者2层以上的经贴合而成的叠层薄膜作为基体,在基体的两面形成具有遮光性的金属薄膜,接着在两面形成感光性刻蚀剂,使用按照第1电极群用和第2电极群用而图像不同的光掩模对两面同时进行曝光、显影、刻蚀、刻蚀剂剥离。根据该方法,在对感光性刻蚀剂进行曝光时,必须使配置于基材两面的光掩模彼此准确进行位置对准,但是,难以完全排除错位的问题。
即使设计成由触摸者不可见的线宽的金属细线来构成电极,如果在第1电极的细线与第2电极的细线夹着基体相对的部分产生错位,则也会产生以下这样的问题:俯视观察而得到的图案的线宽一部分变粗(以下称为线变粗),导致被触摸者看到的是细线。而且,还会产生以下这样的问题:透明区域减少与线变粗对应的量,来自显示装置的光的透过率降低。
因此,本发明就是考虑上述这样的问题而做出的,目的在于提供以下静电电容方式触摸面板用电极片:即使在由金属细线等不透明导电性细线图案构成电极的情况下,导电性细线也难以被看到,能够确保高透明性。
为可达成上述目的,本发明如下这样构成。
根据本发明的第1技术方案,提供一种静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于,具有:透明基体、形成于所述基体的一个主面的第1导电部、以及形成于所述基体的另一主面的第2导电部;所述第1导电部具有多个第1电极图案,该多个第1电极图案分别由不透明导电性细线和被该导电性细线分隔出的空白部构成,在第1方向上延伸,并且沿与所述第1方向正交的第2方向排列,所述第2导电部具有多个第2电极图案,该多个第2电极图案分别由不透明导电性细线和被该导电性细线分隔出的空白部构成,在所述第2方向上延伸,并且沿所述第1方向排列,所述第1电极图案和所述第2电极图案的所述导电性细线具有夹着所述基体而相对的线段,对于所述第1电极图案和所述第2电极图案中的一方的所述导电性细线,仅所述相对的线段的线宽形成得比另一方的所述导电性细线窄,由此,使得所述一方的所述导电性细线的宽度不是恒定的。
根据本发明的第2技术方案,是在第1技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述相对的线段的窄幅化的比例为30~90%。
根据本发明的第3技术方案,是在第1技术方案或第2技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,通过组合所述第1导电部和所述第2导电部,在俯视图中,在需要透视的部分形成投影网状图案。
根据本发明的第4技术方案,是在第3技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述投影网状图案的线宽在15μm以下,开口率在85%以上。
根据本发明的第5技术方案,是在第1技术方案~第4技术方案中任一技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述第1电极图案和所述第2电极图案中的至少一方形成为具有网格构造的形状。
根据本发明的第6技术方案,是在第1技术方案~第4技术方案中任一技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述第1电极图案和所述第2电极图案双方都未形成具有网格构造的形状。
根据本发明第7技术方案,是在第1技术方案~第6技术方案中任一技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述第1电极图案和所述第2电极图案中所述相对的线段的线宽形成得较窄的一方比另一方短。
根据本发明第8技术方案,是在第1技术方案~第7技术方案中任一技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述导电性细线是由从金、铜、银、镍、铝、钼所构成的组中选出的金属或者合金构成的金属细线。
根据本发明第9技术方案,是在第8技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述导电性细线的触摸面侧的表面被实施了低反射处理。
根据本发明第10技术方案,是在第1技术方案~第7技术方案中任一技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述导电性细线是包含从碳、碳纳米管、石墨所构成的组中选出的1种或者2种以上的物质的非金属细线。
根据本发明第11技术方案,是在第1技术方案~第10技术方案中任一技术方案基础之上提供所述的静电电容方式触摸面板用电极片,所述第1导电部还具有多个第1虚设图案,该多个第1虚设图案由与所述第1电极图案相同的材料的导电性细线构成,配置于相邻的所述第1电极图案彼此的间隙间,与所述第1电极图案电绝缘;所述第2导电部还具有多个第2虚设图案,该多个第2虚设图案由与所述第2电极图案相同的材料的导电性细线构成,配置于相邻的所述第2电极图案彼此的间隙间,与所述第2电极图案电绝缘;所述第1电极图案和所述第2电极图案的所述导电性细线具有夹着所述基体与所述第1虚设图案或者所述第2虚设图案相对的线段,对于所述第1电极图案和所述第2电极图案中所述线宽形成得较窄的一方的所述导电性细线,其与所述第1虚设图案或者第2虚设图案相对的所述线段的线宽形成得比所述相对的第1虚设图案或者第2虚设图案的导电性细线窄。
如上所述,根据本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片,即使在由金属细线等不透明导电性细线图案构成电极的情况下,导电性细线也难以被看到,能够确保高透明性。
附图说明
图1是部分省略本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片的一例而示出的分解立体图。
图2是部分省略本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片的一例而示出的剖视图。
图3是对网格构造的一例的一部分进行放大而示出的说明图。
图4是对网格构造的另一例的一部分进行放大而示出的说明图。
图5是对网格构造的另一例的一部分进行放大而示出的说明图。
图6是表示本发明的抑制线变粗的一例的图。
图7是表示现有技术的线变粗状态的一例的图。
图8是表示两面同时曝光的说明图。
图9是部分省略本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片的另一例而示出的分解立体图。
图10是部分省略表示本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片的另一例而示出的剖视图。
图11是表示本发明涉及的抑制线变粗的另一例的图。
图12是表示现有技术的线变粗状态的另一例的图。
图13是部分省略本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片的另一例而示出的分解立体图。
图14是部分省略本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片的另一例而示出的剖视图。
图15是表示本发明的抑制线变粗的另一例的图。
图16是表示现有技术的线变粗状态的另一例的图。
图17是表示两面同时曝光的另一例的说明图。
具体实施方式
以下参照附图对本发明涉及的静电电容方式触摸面板用电极片进行详细说明。
第1实施方式
(电极片的构成)
第1实施方式涉及的静电电容方式触摸面板用电极片如图1所示,具有:透明基体12、在该基体12的一个主面形成的第1导电部14a、在基体12的另一个主面形成的第2导电部14b。图2是将图1的电极片中的1个第1电极图案25a沿长度方向剖切而得到的剖视图。
基体12由树脂、玻璃、硅等具有绝缘性且透光性高的材料制成。作为树脂可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乳酸(PLA)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯类、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、EVA、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚物(COC)等聚烯烃类、其他乙烯基系树脂、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚亚胺、丙烯酸树脂(PMMA)、三醋酸纤维素(TAC)等。而且,也可以在由这些树脂构成的薄膜的两面形成树脂涂层。
基体12的厚度优选5~350μm,更优选30~150μm。只要是在5~350μm的范围内就能够得到所希望的可见光的透过率,而且容易处理。此外,基体12可以是单层或者2层以上的经贴合而成的层叠体。进而基体12也可以是在构成中具有1/4相位差薄膜。此外,基体12也可以使用使上述聚乳酸薄膜沿着一轴延伸而成的不产生焦电性的压电薄膜。
第1导电部14a和第2导电部14b具有需要透视的部分(第1传感器部24a和第2传感器部24b)和不需要透视的部分(第1端子布线部34a和第2端子布线部34b)。并且,电极片1的外形在俯视图中为矩形形状,第1传感器部24a和第2传感器部24b的外形也为矩形形状。
第1导电部14a的第1传感器部24a具有多个第1电极图案25a,多个第1电极图案25a分别由不透明导电性细线16和被该导电性细线分隔出的空白部17构成,沿第1方向(图1中的X方向)延伸,并且沿与第1方向正交的第2方向(图1中的Y方向)排列。
第2导电部14b的第2传感器部24b具有多个第2电极图案25b,多个第2电极图案25b分别由不透明导电性细线16和被该导电性细线分隔出的空白部17构成,沿第2方向(图1中的Y方向)延伸,并且沿第1方向(图1中的X方向)排列。基体12如上所述由绝缘性材料构成,因此,第2导电部14b处于与第1导电部14a电绝缘的状态(参照图2)。
作为形成第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线16,例如,可以使用由从金、铜、银、镍、铝、钼所构成的组中选出的金属或者合金构成的金属细线。
在本实施方式中,由不透明导电性细线16和被该导电性细线分隔出的空白部17构成的图案具体来讲是具有网格构造的图案。即、各网格构造的轮廓由导电性细线16构成,开口部由被导电性细线16包围的空白部17构成(参照图1)。而且,第1电极图案25a和第2电极图案25b由于由这样的图案形成,因而能够实现透明性和低电阻。第1电极图案25a和第2电极图案25b的薄膜电阻优选在50Ω/sq.以下,进一步优选在30Ω/sq.以下,最优选在10Ω/sq.以下。
不过,适用于静电电容方式触摸面板用电极片的第1电极图案25a和第2电极图案25b的网格构造优选由图1所示的四边形或其他多边形构成开口部。如果是设置非多边形的例如圆形或椭圆形的开口的网格构造,由于即使以最大限度的密度并排配置开口部,开口部彼此之间也会出现轮廓粗的部分,因此该轮廓粗的部分比较显眼,成为降低光线透过率的主要因素。此外,也可以由三角形、四边形、六边形等图形中的一种或者多种的组合来构成。
图3~图5是针对能够应用于本发明的网格构造的例子对其一部分进行放大表示的图。而且,这些图的目的是说明开口形状,对于线宽而言,与实施方式无关,因而以等宽描绘出。
图3所示的网格图案以四边形为核心,沿X方向和Y方向连续,相当于之前示出的图1的第1电极图案25a和第2电极图案25b。但是,虽然图1所示的第1电极图案25a和第2电极图案25b都是以四边形为核心,但这些核心的尺寸不同。更详细来讲,将第1电极图案25a的核心沿Y方向排列多个而得到的尺寸相当于第2电极图案25b的一个核心。
图4所示的网格图案以六边形为核心,沿X方向和Ya方向、Yb方向连续。
图5所示的网格图案以梯形为核心,沿X方向和Y方向连续。
以四边形中特别是正方形为核心连续的网格图案与其他多边形形状相比,网格图案难以被识别为筋状,因此是优选的。
也就是,观察以某个形状为核心而有规律地连续的图案时存在以下倾向:沿其核心连续的方向看上去轮廓(导电性细线16)是连续的筋状。例如在是以六边形为核心的图案的情况下,沿着其连续方向的导电性细线16的线形是之字状,因此,看上去变粗了与该之字的振幅对应的量,其结果,导电性细线16的线宽看上去是膨胀了的状态。关于这一点,在是以上述正方形为核心连续的图案的情况下,沿着连续方向的导电性细线16的线形是笔直的,不用担心看上去比本来的宽度粗,因此难以识别出其存在,网格图案不显眼。
此外,在是以长方形为核心连续的图案的情况下,该长方形的长边方向和短边方向的间距不同,因此,对整体进行观察时,与长边方向相比,间距短的短边方向呈现较深颜色,存在其看上去是筋状且时隐时现的倾向,但是,以上述正方形为核心连续的图案,不会呈现这样的筋状,不显眼。此外,上述正方形不限于严格的有棱有角的正方形,也包括进行了倒角的正方形。
此外,本说明书中的“多边形”不仅包括几何学上严格的多边形,还包括对所述严格的多边形进行了轻微改变的“大致多边形”。作为轻微改变的例子,可以列举出与网格相比,增加了微小的点要素、线要素或构成网格的各边(导电性细线16)部分缺损的网格等。例如,图1所示的例子中,存在有面对第1电极图案25a彼此的间隙20的线状突起40,由此,使得该间隙20与第1电极图案25a的边界变得模糊,变得不太显眼。
通过组合这样的第1导电部和第2导电部,形成:在俯视图中将第1电极图案25a和第2电极图案25b投影于需要透视的部分而形成的网状图案(以下称为投影网状图案)。
在本实施方式的情况下,如图1所示,将第1电极图案25a的核心沿Y方向排列多个而成的尺寸相当于第2电极图案25b的一个核心。因此,通过使两图案进行位置对准,投影网状图案以以下图案形成,即、使第1电极图案25a的核心沿X方向和Y方向连续,在需要透视的整个部分上是大致均匀的图案。
投影网状图案的线宽的下限优选在1μm以上、3μm以上、4μm以上、或者5μm以上,上限优选在15μm以下、10μm以下、9μm以下、8μm以下。线宽小于上述下限值的情况下,导电性不足,因此触摸面板的检测灵敏度不足。另一方面,如果超过上述上限值,目视识别性变差。
投影网状图案的开口率从可见光透过率的角度考虑,优选在85%以上,更优选在90%以上,最优选在95%以上。开口率是指透光性部分占全体的比例。
(错位导致的线变粗的对策)
对于本实施方式涉及的静电电容方式触摸面板用电极片而言,第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线16具有夹着基体12相对的线段16a,第1电极图案25a的导电性细线仅在该相对的线段16a处其线宽形成得比第2电极图案25b的所述导电性细线窄,由此,宽度不是恒定的(参照图6)。在图6中,成为夹着基体12相对的线段16a的部分是:第2电极图案25b的成为网格构造的核心的四边形的轮廓。由此,对于网格细的第1电极图案25a的导电性细线而言,成为网格构造的核心的四边形的轮廓中仅一部分成为上述相对的线段16a。
此外,在图1所示的第1电极图案25a彼此的间隙20、第2电极图案25b彼此的间隙21处,导电性细线也不夹着基体12相对。另外,在图1所示的电极片的分解图中,难以描绘成:用肉眼能够判别导电性细线的线宽之差,因此以等宽进行了描绘。
在此,例如,在如现有技术那样,第1电极图案25a和第2电极图案25b的细线宽度相同的情况下,第1电极图案25a与第2电极图案25b重叠的位置精度的偏差,使得投影网状图案的线变粗(参照图7)。由此,产生以下问题:触摸者能看到导电性细线。此外,还会产生透明区域减少与线变粗相应的量,来自显示装置的光的透过率降低这样的问题。此外,图7中的符号与图6中的符号相对应。
与此相对,在本实施方式中,如上所述,通过在第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线的夹着基体12相对的部分来设置出第1电极图案25a与第2电极图案25b的细线宽度差,即使第1电极图案25a与第2电极图案25b重叠的位置精度产生偏差,偏差的一部分(参照图6)或者全部也会被吸收于线宽差之中。因此,能够抑制投影网状图案的线变粗,提高目视识别性和透明性。另一方面,导电性细线的未夹着基体12相对的部分,是即使在俯视图中其线宽也会被原样目视识别出的部分,该部分不必细小地设定第1电极图案25a与第2电极图案25b的细线宽度差。
上述相对的线段16a的窄幅化的比例优选为30~90%,更优选为40~80%,进一步优选为50~70%。窄幅化的比例小于上述下限值的情况下,导电性不足,因此,触摸面板的检测灵敏度不足。另一方面,如果超过上述上限值,则难以抑制错位时的线变粗。
(电极片的导电图案的形成方法)
以下对本实施方式涉及的第1电极图案25a和第2电极图案25b的形成方法进行说明。
作为第1电极图案25a和第2电极图案25b的形成方法具有以下两种方法:通过在不透明导电性膜的表面形成感光层,并对感光层进行曝光、显影,对导电性膜的表面进行部分覆盖,之后,对导电性膜的露出部分进行刻蚀除去,在基体12的两面分别形成第1电极图案25a和第2电极图案25b的第1形成方法;以及在基体12的两面通过印刷分别形成第1电极图案25a和第2电极图案25b的第2形成方法。
1)第1形成方法
在此,对第1形成方法进行说明。首先,制作长条形的叠层料卷110。叠层料卷110具有:透明基体12、在该基体12的一个主面上依次层叠而形成的不透明第1导电性膜115a和第1感光层113a、在基体12的另一主面上依次层叠而形成的不透明第2导电性膜115b和第2感光层113b。
在形成所述由金属或者合金构成的第1导电性膜115a和第2导电性膜115b时,可以使用无电解电镀、溅射、金属箔层叠等金属薄膜形成方法。而且,也可以将这些形成方法与电解电镀进行组合。
接下来,对叠层料卷110进行曝光。在该曝光处理中,如图8所示进行以下处理(两面同时曝光):针对第1感光层113a,朝基体12照射光而使第1感光层113a按照第1曝光图案曝光的第1曝光处理、以及针对第2感光层113b,朝基体12照射光而使第2感光层113b按照第2曝光图案曝光的第2曝光处理。在图8的例子中,一边将长条形的叠层料卷110沿一个方向搬送,一边经由第1光掩模117a而对第1感光层113a照射第1光111a(平行光),并且,经由第2光掩模117b而对第2感光层113b照射第2光111b(平行光)。第1光111a是通过利用途中的第1准直透镜120a将从第1光源118a射出的光转换为平行光而得到的,第2光111b是通过利用途中的第2准直透镜120b将从第2光源118b射出的光转换为平行光而得到的。在图8的例子中,示出了使用2个光源(第1光源118a和第2光源118b)的情况,但是,也可以使从1个光源射出的光经由光学系统进行分割而作为第1光111a和第2光111b来对第1感光层113a和第2感光层113b进行照射。
第1曝光处理如图8所示,在第1感光层113a上例如紧密接合配置第1光掩模117a,从与该第1光掩模117a相对配置的第1光源118a朝第1光掩模117a照射第1光111a,由此对第1感光层113a进行曝光。第1光掩模117a由以下部分构成:由透明钠玻璃形成的玻璃基板、以及在该玻璃基板上形成的掩模图案(第1曝光图案)。因此,通过该第1曝光处理,将第1感光层113a中与形成于第1光掩模117a的第1曝光图案对应的部分曝光。
同样,第2曝光处理通过在第2感光层113b上例如紧密接合配置第2光掩模117b,从与该第2光掩模117b相对配置的第2光源118b朝第2光掩模117b照射第2光111b,对第2感光层113b进行曝光。第2光掩模117b与第1光掩模117a一样,由以下部分构成:由透明钠玻璃形成的玻璃基板、以及在该玻璃基板上形成的掩模图案(第2曝光图案)。因此,通过该第2曝光处理将第2感光层113b中与形成于第2光掩模117b的第2曝光图案对应的部分曝光。
对于第1曝光处理和第2曝光处理,可以使从第1光源118a射出第1光111a的射出时机与从第2光源118b射出第2光111b的射出时机相同,也可以使之不同。如果相同,则能够以1次曝光处理来对第1感光层113a和第2感光层113b同时进行曝光,能够缩短处理时间。
另外,对第1感光层113a照射的来自第1光源118a的第1光111a被不透明的第1导电性膜115a和第2导电性膜115b遮挡而基本上不会到达第2感光层113b,对第2感光层113b照射的来自第2光源118b的第2光111b被不透明的第2导电性膜115b和第1导电性膜115a遮挡而基本上不会达到第1感光层113a。因而,通过曝光处理,能够在透明基体12的两面(表面背面)任意形成不同的刻蚀图案,并且,能够位置精度良好地形成在表面和背面。在此,“基本上不会到达”表示:光不到达的情况,以及光虽然到达了,但是是未显影成像的光量的情况。因此,“光到达”表示显影成像程度的光量的光到达。
接下来,通过对曝光后的叠层料卷110进行显影处理,形成第1刻蚀图案和第2刻蚀图案(未图示)。第1刻蚀图案按照第1曝光图案形成于透明基体12的具有第1导电性膜115a的面,第2刻蚀图案按照第2曝光图案形成于透明基体12的具有第2导电性膜115b的面。此时,未形成第1刻蚀图案和第2刻蚀图案的部分露出第1导电性膜115a和第2导电性膜115b。
之后,通过对叠层料卷110进行刻蚀,如图2所示,形成第1电极图案25a和第2电极图案25b。第1电极图案25a通过刻蚀除去第1导电性膜115a的露出部而形成于透明基体12的一个主面12a,第2电极图案25b通过刻蚀除去第2导电性膜115b的露出部分而形成于透明基体12的另一主面12b。此外,也可以在第1电极图案25a和第2电极图案25b上通过进一步实施物理显影和/或镀敷处理而使第1电极图案25a和第2电极图案25b承载导电性金属。
另外,在该第1形成方法中,虽然希望不产生第1曝光处理中的第1光掩模117a的配置与第2曝光处理中的第2光掩模117b的配置的错位,但是,难以完全消除错位。即、形成于基体12的一个主面12a的第1电极图案25a的配置与形成于基体12的另一主面12b的第2电极图案25b的配置的错位虽然是微小的,但难以避免。因此,如上所述,在第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线夹着基体12相对的部分,需要设置第1电极图案25a与第2电极图案25b的细线宽度差。
2)第2形成方法
另一方面,在第2形成方法中,在基体12的一个主面12a,印刷包含不透明导电性材料的墨水132来形成第1电极图案25a,在基体12的另一主面12b上同样地印刷包含不透明导电性材料的墨水132来形成第2电极图案25b(参照图2)。此时,可以使对基体12的一个主面12a印刷墨水(第1电极图案25a用墨水)的时机与对基体12的另一主面12b印刷墨水(第2电极图案25b用墨水)的时机相同,也可以使之不同。如果相同,则能够以1次印刷处理在基体12的两面(表面背面)分别形成第1电极图案25a和第2电极图案25b,能够缩短印刷处理时间。
另外,在该第2形成方法的情况下,在基体12的一个主面12a印刷形成的第1电极图案25a的配置与在基体12的另一主面12b印刷形成的第2电极图案25b的配置的错位虽然是微小的,但难以避免。因此,在第2形成方法的情况下,也需要在第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线夹着基体12相对的部分,设置第1电极图案25a与第2电极图案25b的细线宽度差。
(其他构成)
如上所述,第1导电部14a和第2导电部14b具有需要透视的部分(第1传感器部24a和第2传感器部24b)和不需要透视的部分(第1端子布线部34a和第2端子布线部34b)。
在第1端子布线部34a中的电极片1的一边侧的周缘部,在其长度方向中央部分并排形成有多个第1端子(未图示)。而且,第1端子布线图案35a从各第1电极图案25a的任意一端引出,朝所述第1端子迂回,分别电连接于所对应的第1端子。另外,在第2端子布线部34b中的电极片1的一边侧的周缘部,在其长度方向中央部分也并排形成有多个第2端子(未图示)。而且,第2端子布线图案35b从各第2电极图案25b的任意一端引出,朝所述第2端子迂回,分别电连接于所对应的第2端子。
第1端子布线图案35a和第2端子布线图案35b与第1电极图案25a和第2电极图案25b的材料相同,使用相同的图案形成方法,可以与第1电极图案25a和第2电极图案25b同时形成。第1端子布线图案35a和第2端子布线图案35b例如以25μm以上且500μm以下的宽度、10mm以上的长度构成,电阻为每10mm在300Ω以下,优选100Ω以下。当然,也可以使用与第1电极图案25a和第2电极图案25b不同的材料、不同的图案形成方法来形成第1端子布线图案35a和第2端子布线图案35b。
另外,在将该电极片1构成为触摸面板的情况下,除了上述电极片1之外,还具有:在电极片1的任意一个主面侧层叠的盖部件、经由线缆电连接于电极片1的挠性基体、配置于挠性基体上的IC电路。
通过使指尖接触于盖部件上,来自与指尖相对的第1电极图案25a和第2电极图案25b的信号被传输给IC电路。在IC电路中,基于所提供的信号运算指尖的位置。因此,即使同时使2个指尖接触,也能够检测出各指尖的位置。应用该触摸面板的显示装置是液晶面板、等离子体面板、有机EL面板、无机EL面板等。此外,在相互电容方式的触摸面板中,第1电极图案25a和第2电极图案25b重叠的部分多时,检测灵敏度高。
以上,对本发明的第1实施方式进行了说明,但是,本发明不限于第1实施方式。例如,可以是以下说明的各实施方式。而且,对与第1实施方式相同的构成省略说明。
第2实施方式
第1实施方式中,使第1电极图案25a和第2电极图案25b双方采用网格构造,但是,本发明的第1电极图案25a和第2电极图案25b只要是由不透明导电性细线16和被该导电性细线分隔出的空白部17构成,则不限于网格构造。例如,也可以不使第2电极图案25b为网格构造,而是使之为图9所示的在X方向排列有齿的梳齿状(第2实施方式)。图10是将图9的电极片中的1个第1电极图案25a沿长度方向剖切而得到的剖视图。
在图9中,成为夹着基体12而相对的线段16a的部分是第2电极图案25b的梳齿。对于第1电极图案25a的导电性细线而言,成为网格构造的核心的四边形的轮廓中,仅有一部分成为上述相对的线段16a。
此外,在图9所示的第1电极图案25a彼此的间隙20、第2电极图案25b彼此的间隙21处,导电性细线也不夹着基体12相对。另外,即使是图9所示的电极片的分解图,也难以以肉眼能够判别导电性细线的线宽之差的方式来描绘,因此以相同宽度描绘。
在本实施方式中,也通过组合第1导电部和第2导电部,在俯视图中,在需要透视的部分形成投影网状图案。在本实施方式的情况下,如图9所示,沿Y方向将第1电极图案25a的核心排列多个而成的部分,恰好落于第2电极图案25b的一个梳齿内。因此,通过将两图案进行位置对准,投影网状图案由以下图案形成,即、使第1电极图案25a的核心沿X方向和Y方向连续,在需要透视的整个部分上是大致均匀的图案。
如上所述,通过在第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线16夹着基体12相对的部分16a,设置出第1电极图案25a与第2电极图案25b的细线宽度差,即使第1电极图案25a与第2电极图案25b重叠的位置精度产生偏差,偏差的一部分(参照图11)或者全部也会被吸收于线宽差之中。因此,能够抑制投影网状图案的线变粗,提高目视识别性。另一方面,导电性细线的未夹着基体12相对的部分,是即使在俯视图中其线宽也会被原样目视识别出的部分,因此,该部分不必细小地设定第1电极图案25a与第2电极图案25b的细线宽度差。此外,图12是表示未实施线变粗对策时的例子的图。
其他方面与第1实施方式相同。
第3实施方式
第1实施方式中,在相邻的第1电极图案25a彼此的间隙20、以及相邻的第2电极图案25b彼此的间隙21处,未设置任何第1导电部14a和第2导电部14b,但是,本发明不限于此。例如,也可以如图13所示,第1导电部14a具有多个第1虚设图案55a,多个第1虚设图案55a由与第1电极图案25a相同材料的导电性细线18构成,并配置于相邻的第1电极图案25a彼此的间隙20,且与第1电极图案25a电绝缘,第2导电部14b具有多个第2虚设图案55b,多个第2虚设图案55b由与第2电极图案25b相同材料的导电性细线18构成,并配置于相邻的第2电极图案25b彼此的间隙21,且与第2电极图案25b电绝缘(第3实施方式)。图14是将图13的电极片中的1个第1电极图案25a沿长度方向剖切而得到的剖视图。
第1虚设图案55a和第2虚设图案55b是为了使得第1电极图案25a彼此的间隙20、以及第2电极图案25b彼此的间隙21不显眼而补充的。即、被第1电极图案25a、第2电极图案25b的导电性细线16分隔出的空白部17(第1实施方式中为开口部)看上去在间隙20、21处也连续存在。
此外,第1虚设图案55a在对第1电极图案25a进行图案形成时与第1电极图案25a同时形成。同样,第2虚设图案55b在对第2电极图案25b进行图案形成时与第2电极图案25b同时形成。
在第1实施方式中,第1电极图案25a的导电性细线16仅在与第2电极图案25b夹着基体12相对的线段16a处,将线宽形成得比第2电极图案25b的导电性细线16窄。与此相对,在本实施方式中,第1电极图案25a的导电性细线16还与第2虚设图案的导电性细线18相对(图中,虚设图案的相对部分是18a),因此,优选在该部分也将第1电极图案25a的导电性细线16的线宽形成得较窄。
由此,即使第1电极图案25a侧的包含第1虚设图案55a的图案与第2电极图案25b侧的包含第2虚设图案55b的图案重叠的位置精度产生偏差,偏差的一部分(参照图15)或者全部也会被吸收于线宽差之中。因此,能够抑制投影网状图案的线变粗,提高目视识别性和透明性。此外,图16是表示不实施线变粗对策时的例子的图。
其他方面与第1实施方式相同。
第4实施方式
第1~3实施方式中,形成第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线16是金属细线,但是,本发明的第1导电部和第2导电部不限于此。例如,导电性细线也可以是包含从碳、碳纳米管、石墨构成的组中选出的1种或2种以上的物质的非金属细线(第4实施方式)。
本实施方式中的第1电极图案25a和第2电极图案25b的形成方法,不是如第1~3实施方式所示那样,在不透明导电性膜的表面另外形成感光层并曝光、显影、刻蚀。具体而言,在以下方面不同:使用在基体12的两面具有分散了从上述碳、碳纳米管、石墨构成的组选出的1种或2种以上的物质的不透明第1导电性感光层123a、第2导电性感光层123b的叠层料卷120,并对其进行曝光、显影、烘烤,由此,在基体12的两面分别形成第1电极图案25a和第2电极图案25b。
但是,与第1~3实施方式一样,存在曝光工程(参照图17),难以完全消除第1曝光处理中第1光掩模117a的配置与第2曝光处理中第2光掩模117b的配置的错位,这一点没变。因此,在本实施方式中,也在第1电极图案25a和第2电极图案25b的导电性细线夹着基体12相对的部分,设置出第1电极图案25a与第2电极图案25b的细线宽度差,由此,消除错位引起的线变粗。
其他方面与第1实施方式相同。
变化例
此外,第1电极图案25a的排列方向和第2电极图案25b优选设计成:不会因与显示装置的像素发生干涉而产生莫尔条纹。例如,为了抑制莫尔条纹的产生,可以使第1电极图案25a的排列方向和第2电极图案25b的排列方向相对于显示装置的像素排列方向具有倾斜。通过倾斜第1电极图案25a和第2电极图案25b,虽然检测出的位置信息会产生偏差,但是,只要在IC电路中嵌入根据所设定的倾斜角度修正位置信息的位置修正电路即可。
另外,作为其他莫尔条纹的对策,也可以针对第1电极图案25a和第2电极图案25b设计成:使相邻导电性细线间的间距不是恒定的。或者,也可以将导电性细线设计成曲线状。
此外,对于第1电极图案25a和第2电极图案25b而言,第1实施方式中仅用金属细线来构成,第4实施方式中仅用非金属细线来构成,但是,本发明不限于此。即、也可以使第1电极图案25a和第2电极图案25b的一方为金属细线,而使另一方为非金属细线。
此外,在导电性细线16、18为金属细线时,如果对触摸面侧的表面进行低反射处理,则会抑制金属的反射色,使得电极图案的存在变得不显眼。而且,如果对与触摸面侧相反的一面也进行低反射处理,则来自相反面的反射色不会映入显示画面,能够提高目视识别性,因此,对此是特别优选的。
作为上述低反射处理的具体例,可以列举出化学成膜处理、镀敷处理等表面处理。化学成膜处理是利用氧化处理、硫化处理而在金属表面形成低反射层的处理,例如,如果金属细线的原材料使用铜,通过在其表面利用氧化处理来形成氧化皮膜,则能够在不减小金属细线的截面尺寸的情况下将该金属细线的表面处理成具有光反射防止性的黑色。
另外,作为镀敷处理,如果对金属细线实施例如黑色铬镀敷,则能够将金属细线的表面处理成具有光反射防止性的黑色。此外,如果实施高电流密度的镀铜,则能够处理成茶褐色。
此外,作为上述低反射处理,也可以使用电沉积涂料处理。
但是,如果像第1~4实施方式那样,第1电极图案25a的导电性细线的线宽形成得比第2电极图案25b的导电性细线窄,则对应于线宽变窄,电阻相应增高。因此,在电极片1的外形为长方形的情况下,使其短边与线宽被设计得较窄的第1电极图案25a的延伸方向一致,能够减少与第2电极图案25b间的电阻差,因此优选。
另外,对于第1~4实施方式的电极片而言,将形成第1电极图案25a的基体12的一个主面12a和形成第2电极图案25b的另一个主面12b中的哪一面作为触摸面侧组装于触摸面板并非是特定的。因此,在本说明书中,也可以将“第1”与“第2”互换。
符号说明
1、10、100 电极片
12 基体
14a 第1导电部、14b 第2导电部
16、18 导电性细线
16a,18a 相对的线段
17 空白部
20、21 间隙
24a 第1传感器部、24b 第2传感器部
25a 第1电极图案、25b 第2电极图案
34a 第1端子布线部、34b 第2端子布线部
35a 第1端子布线图案、35b 第2端子布线图案
40 线状突起
55a 第1虚设图案、55b 第2虚设图案
10、120 叠层料卷
111a 第1光、111b 第2光
113a 第1感光层、113b 第2感光层
115a 第1导电性膜、115b 第2导电性膜
117a 第1光掩模、117b 第2光掩模
118a 第1光源、118b 第2光源
123a 第1导电性感光层、123b 第2导电性感光层

Claims (11)

1.一种静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于,具有:
透明基体,
第1导电部,形成于所述基体的一个主面,以及
第2导电部,形成于所述基体的另一个主面;
所述第1导电部具有多个第1电极图案,该多个第1电极图案分别由不透明导电性细线和被该导电性细线分隔出的空白部构成,沿第1方向延伸,并且沿与所述第1方向正交的第2方向排列,
所述第2导电部具有多个第2电极图案,该多个第2电极图案分别由不透明导电性细线和被该导电性细线分隔出的空白部构成,沿所述第2方向延伸,并且沿所述第1方向排列,
所述第1电极图案和所述第2电极图案的所述导电性细线具有夹着所述基体而相对的线段,
对于所述第1电极图案和所述第2电极图案中的一方的所述导电性细线,仅所述相对的线段的线宽形成得比另一方的所述导电性细线窄,由此使得所述一方的所述导电性细线的宽度不是恒定的。
2.根据权利要求1所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述相对的线段的窄幅化的比例为30~90%。
3.根据权利要求1或2所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
通过组合所述第1导电部和所述第2导电部,在俯视图中,在需要透视的部分形成投影网状图案。
4.根据权利要求3所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述投影网状图案的线宽在15μm以下,开口率在85%以上。
5.根据权利要求1所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述第1电极图案和所述第2电极图案的至少一方形成为具有网格构造的形状。
6.根据权利要求1所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述第1电极图案和所述第2电极图案双方都未形成为具有网格构造的形状。
7.根据权利要求1所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述第1电极图案和所述第2电极图案中所述相对的线段的线宽形成得较窄的一方比另一方短。
8.根据权利要求1所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述导电性细线是由从金、铜、银、镍、铝、钼所构成的组中选出的金属或者合金构成的金属细线。
9.根据权利要求8所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述导电性细线的触摸面侧的表面被实施了低反射处理。
10.根据权利要求1所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述导电性细线是包含从碳、碳纳米管、石墨所构成的组中选出的1种或2种以上的物质的非金属细线。
11.根据权利要求1所述的静电电容方式触摸面板用电极片,其特征在于:
所述第1导电部还具有多个第1虚设图案,该多个第1虚设图案由与所述第1电极图案相同的材料的导电性细线构成,配置于相邻的所述第1电极图案彼此的间隙间,与所述第1电极图案电绝缘,
所述第2导电部还具有多个第2虚设图案,该多个第2虚设图案由与所述第2电极图案相同的材料的导电性细线构成,配置于相邻的所述第2电极图案彼此的间隙间,与所述第2电极图案电绝缘,
所述第1电极图案和所述第2电极图案的所述导电性细线具有夹着所述基体与所述第1虚设图案或者所述第2虚设图案相对的线段,
对于所述第1电极图案和所述第2电极图案中所述线宽形成得较窄的一方的所述导电性细线,其与所述第1虚设图案或者第2虚设图案相对的所述线段的线宽形成得比所述相对的第1虚设图案或者第2虚设图案的导电性细线窄。
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