CN105549286B - 显示面板、显示装置及显示面板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法。所述显示面板具有电极区，电极区包括：基板，设置在基板上的并在平行于基板的上表面的方向上彼此交替的数据线层和隔离层，其中，数据线层的高度等于隔离层的高度。由于数据线层与隔离层之间没有高度差，不存在沟槽，隔离层此时堆积导电异物的可能性大大降低，并且平滑的表面更有利于异物的移动，清洗带可以移除异物。此外，当清洗带以一定压力来清洗电极区的数据线时，可以防止清洗带使电极区数据线倾倒的情况的发生。从而，本发明的方案可以大大提供电极区的清洗率，减少电极区的异物，大大降低了模组贴附工艺后的数据线短路的不良发生率，减少设备投资与人员费用，提高一次产品良率。

Description

显示面板、显示装置及显示面板的制造方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法。
背景技术
液晶面板的生产大致分为四个工艺：阵列工艺、CF(彩色滤光片)工艺、成盒(cell)工艺以及模组工艺。电极区的镀膜在阵列工艺中完成，COF与PCB的贴附工艺在模组工艺完成。在进行模组工艺的贴附工艺之前会对电极区(Pad)使用清洗带进行压力清洗。
现有技术条件下，有以下两种情况最终导致电极区数据线短路：
第一、由于数据线层比相邻的绝缘层高度高，造成在电极区清洗时，异物会堆积在绝缘层，当堆积过多时，造成数据线与数据线之间短路。
第二、由于数据线层比相邻的绝缘层高度高，在电极区清洗时，由于压力原因或阵列镀膜不牢固等原因，可能导致数据线层向绝缘层处倾倒，当堆积过多时，造成数据线与数据线之间短路。
当电极区的数据线之间短路后，该产品就会被判定为报废(NG)品，需要经过维修设备对短路的数据线进行切割，分离开短路的数据线。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示面板、显示装置和显示面板的制造方法，能够解决现有显示技术中的数据线之间容易短路、产品报废率较高的问题。
本发明的一个目的在于提供一种显示面板。
本发明的第一方面提供了一种显示面板，其具有电极区，所述电极区包括：基板，设置在所述基板上的在平行于所述基板的上表面的方向上彼此交替的数据线层和隔离层，其中，所述数据线层的高度等于所述隔离层的高度。
在一种实施方式中，所述数据线层包括：设置在所述基板上的第一导电层；和设置在所述第一导电层上的第二导电层。
可选地，所述数据线层还包括：间隔层，其被设置在所述第一导电层和所述第二导电层之间；过孔，其被设置在所述间隔层中，所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
可选地，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源极电极或漏极电极。
可选地，所述间隔层包括第一钝化层；所述隔离层包括第二钝化层。
在一种实施方式中，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的栅极电极。
可选地，所述隔离层包括钝化层。
可选地，所述间隔层包括第一绝缘层；所述隔离层包括在所述基板上的第二绝缘层和在所述第二绝缘层上的第三钝化层。
可选地，所述第二导电层的高度和所述第一绝缘层的高度的比为1:39。
可选地，所述间隔层还包括在所述第一绝缘层上的第四钝化层。
可选地，所述第一导电层包括金属；所述第二导电层包括透明导电层；所述基板包括玻璃；所述显示面板包括液晶显示面板。
本发明的另一个目的在于提供一种显示装置。
本发明的第二方面提供了一种显示装置，其包括上述的显示面板。
本发明的又一个目的在于提供一种显示面板的制造方法。
本发明的第三方面提供了一种显示面板的制造方法，包括：提供基板，在所述基板上设置在平行于所述基板的上表面的方向上彼此交替的数据线层和隔离层以形成显示面板的电极区，其中，所述数据线层的高度被设置为等于所述隔离层的高度。
可选地，所述数据线层包括：设置在所述基板上的第一导电层；和设置在所述第一导电层上第二导电层。
可选地，所述数据线层还包括：间隔层，其被设置在所述第一导电层和所述第二导电层之间；过孔，其被设置在所述间隔层中，所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
在一种实施方式中，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源极电极或漏极电极，所述方法进一步包括：在基板上形成所述第一导电层并对其进行构图，使其形成彼此交替的第一导电层去除区域和第一导电层保留区域；在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置钝化层；将第一导电层保留区域上的钝化层去除；在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置所述第二导电层；以及将所述第一导电层去除区域的所述第二导电层去除。
可选地，所述第一导电层保留区域上的钝化层被部分去除，所述方法进一步包括：在第一导电层保留区域上的钝化层中设置过孔，所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
在一种实施方式中，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的栅极电极，所述方法进一步包括：在基板上形成所述第一导电层并对其进行构图，使其形成彼此交替的第一导电层去除区域和第一导电层保留区域；在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置绝缘层；在所述绝缘层上设置钝化层；将所述第一导电层保留区域的钝化层至少部分去除；在所述第一导电层保留区域的所述绝缘层和所述钝化层中设置连接到所述第一导电层的过孔；在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置所述第二导电层；以及将所述第一导电层去除区域上的所述第二导电层去除，其中所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
可选地，所述第一导电层保留区域的钝化层被完全去除，所述方法进一步包括：将所述第一导电层保留区域的绝缘层部分地去除。
可选地，所述第一导电层保留区域的绝缘层的高度被去除掉四十分之一。
可选地，所述第一导电层包括金属；所述第二导电层包括透明导电层；所述基板包括玻璃；所述显示面板包括液晶显示面板。
进一步，在形成显示面板的电极区后，还包括对所述电极区清洗的步骤。
进一步，对所述电极区清洗的步骤包括：利用清洗带对所述电极区进行压力清洗。
本发明的实施例提供的显示面板、显示装置和显示面板的制造方法，通过在显示面板的电极区提供基板、设置在基板上的并在平行于所述基板的上表面的方向上彼此交替的数据线层和隔离层，使数据线层的高度等于隔离层的高度，能够有效防止数据线倾斜带来的短路，减少设备投资与人员费用，提高一次产品良率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的实施例的技术方案，下面将对实施例的附图进行简要说明，应当知道，以下描述的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制，其中：
图1为现有技术的显示面板的电极区的制造工艺的示意图，其中使用栅极金属层作为电极区的数据线层的一部分；
图2为现有技术的显示面板的电极区的制造工艺的示意图，其中使用源极/漏极金属层作为电极区的数据线层的一部分；
图3(a)为根据本发明的一个实施例的显示面板的电极区制造工艺的示意图，其中使用栅极电极作为数据线层的一部分；
图3(b)为根据图3(a)的制造工艺制造的显示面板的电极区的局部放大图；
图4(a)为根据本发明的另一个实施例的显示面板的电极区制造工艺的示意图，其中使用栅极电极作为数据线层的一部分；
图4(b)为根据图4(a)的制造工艺制造的显示面板的电极区的局部放大图；
图5(a)为根据本发明的又一个实施例的显示面板的电极区制造工艺的示意图，其中使用源极/漏极电极作为数据线层的一部分；
图5(b)为根据图5(a)的制造工艺制造的显示面板的电极区的局部放大图；
图6(a)为根据本发明的再一个实施例的显示面板的电极区制造工艺的示意图，其中使用源极/漏极电极作为数据线层的一部分；
图6(b)为根据图6(a)的制造工艺制造的显示面板的电极区的局部放大图；
图7为本发明的一个实施例的方法的流程图。
具体实施方式
为了使本发明的实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将接合附图，对本发明的实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，也都属于本发明保护的范围。
当介绍本发明的元素及其实施例时，冠词“一”、“一个”、“该”和“所述”旨在表示存在一个或者多个要素。用语“包含”、“包括”、“含有”和“具有”旨在包括性的并且表示可以存在除所列要素之外的另外的要素。
出于下文表面描述的目的，如其在附图中被标定方向那样，术语“上”、“下”、“左”、“右”“垂直”、“水平”、“顶”、“底”及其派生词应涉及发明。术语“上覆”、“在……顶上”、“定位在……上”或者“定位在……顶上”意味着诸如第一结构的第一要素存在于诸如第二结构的第二要素上，其中，在第一要素和第二要素之间可存在诸如界面结构的中间要素。术语“接触”意味着连接诸如第一结构的第一要素和诸如第二结构的第二要素，而在两个要素的界面处可以有或者没有其它要素。
图1示出了一种使用栅极金属层作为数据线层的一部分的方案的示意图，制造步骤如下：
S101、提供玻璃基板。
S102、在玻璃基板上沉积栅极金属层。
S103、通过曝光显影剥离等工艺，将栅极层金属构图为特定形状。
S104、栅极绝缘(GI)层镀膜。
S105、钝化层(PVX)镀膜。
S106、通过干刻工艺，制造过孔，该过孔穿过钝化层到达栅极层。此时，PVX层与GI层高度不变。经此工艺后，数据线层的高度已经高出绝缘层高度，二者的高度差为栅极金属层的高度。
S107、氧化铟锡(ITO)层镀膜，栅极层上方的ITO通过过孔与栅极相连接。
S108、进行曝光显影剥离等工艺，使得栅极层上方的ITO保留，其它位置的ITO去除。此时数据线处膜层的高度已经高出绝缘层高度，高度差为栅极层的高度加上ITO层的高度之和。
图2示出了另一种使用源极/漏极金属层作为数据线层的一部分的示意图，制造步骤如下：
S201、提供玻璃基板。
S202、栅极金属层镀膜。
S203、通过曝光显影剥离等工艺，在电极区将栅极层金属全部去除。
S204、栅极绝缘(GI)层镀膜。
S205、源极/漏极金属电极层镀膜。
S206、通过曝光显影剥离等工艺，将源极/漏极金属电极层构图为特定形状。
S207、钝化层(PVX)绝缘层镀膜。
S208、通过干刻工艺，制造过孔，该过孔穿过PVX层到达源极/漏极金属层。此时PVX层高度不变。进过此工艺后，数据线处膜层的高度已经高出绝缘层高度，二者的高度差为源极/漏极金属层的高度。
S209、ITO金属层镀膜，源极/漏极层上方的ITO通过过孔与源极/漏极相连接。
S210、进行曝光显影剥离等工艺，使得源极/漏极层上方的ITO保留，其它位置处的ITO去除。此时数据线层的高度已经高出绝缘层高度，高度差为源极/漏极电极层的高度加上ITO层的高度之和。
经过图1或图2所示的以上工艺步骤之后，例如，达到模组工艺的电极区清洗时，就存在数据线与数据线短路的风险。
针对上述潜在问题，本发明提供了能够将数据线层和设置在数据线层之间的隔离层设置为具有相同高度的方案。
本发明的显示面板的电极区包括基板、位于基板上的数据线层和隔离层，其中，数据线层和隔离层在平行于所述基板的上表面的方向上彼此交替，数据线层的高度等于隔离层的高度。数据线层包括位于基板上的第一导电层和位于第一导电层上的第二导电层。
在一种实施方式中，使用栅极电极(例如，金属)作为显示面板电极区中的数据线层的一部分，即，第一导电层还延伸到显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的栅极电极。第一导电层和第二导电层之间设置有间隔层，间隔层中设置有用于电连接第一导电层和第二导电层的过孔，其优选位于间隔层的中心，以及优选地，该过孔由第二导电层的材料填充。间隔层包括在栅极层上的栅极绝缘层(第一绝缘层)。可选地，间隔层还包括在栅极绝缘层上的钝化层(第四钝化层)。在这种情况下，隔离层包括栅极侧的绝缘层(第二绝缘层)和在该绝缘层上的钝化层(第三钝化层)。
需要指出，本发明的诸如“第四层”的表达仅仅是特定层的称谓，并非用于限制层的种类数目。例如，“第二钝化层”并非意味着需要有两个钝化层；其可以意味着，只有一个钝化层，该钝化层被称为“第二钝化层”。此外，虽然图中所示的过孔的一端延伸到第一导电层中，其也可以仅接触第一导电层的上表面，而不延伸到第一导电层中，只要该过孔能够形成到第一导电层的导电连接。
具体地，在一个实施例中，如图3(b)所示，数据线层包括第一导电层311(栅极电极层)、第一绝缘层313、第二导电层312和过孔314。其中，第一绝缘层313位于第一导电层311和第二导电层312之间，过孔314被设置在第一绝缘层313构成的间隔层中，该过孔314从第二导电层312穿过第一绝缘层313而到达第一导电层311，优选位于第一绝缘层313的中心。隔离层包括第二绝缘层321和设置在第二绝缘层上的第三钝化层322。
具体地，在另一个实施例中，如图4(b)所示，数据线层包括第一导电层411、第一绝缘层413、第四钝化层415、第二导电层412和过孔414，其中，过孔414设置在第一绝缘层413和第四钝化层415构成的间隔层中，优选位于间隔层的中心。隔离层包括第二绝缘层421和第三钝化层422。
在一种实施方式中，使用源极或漏极层金属作为数据线层的一部分，即，第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源极或漏极电极。第一导电层和第二导电层可以直接接触，或者，在二者之间可以设置有间隔层。间隔层可以为钝化层(第一钝化层)，并且其中设置有用于电连接第一导电层和第二导电层的过孔，优选地，该过孔由第二导电层的材料填充。在此实施例中，隔离层也包括钝化层(第二钝化层)。
具体地，在一个实施例中，如图5(b)所示，数据线层包括第一导电层511和第二导电层512。隔离层包括第二钝化层521。
具体地，在另一个实施例中，如图6(b)所示，数据线层包括第一导电层611、第一钝化层613、第二导电层612和过孔614。其中，过孔614被设置在由第一钝化层613中。隔离层包括第二钝化层621。
本发明的显示面板包括但不限于液晶显示面板。基板可以为玻璃基板，也可以为其它合适的材料。第一导电层可以为适用于薄膜晶体管的源极、漏极或者栅极的电极的金属层，也可以为其它合适的材料。第二导电层可以为ITO层，也可以为其它合适的透明导电层。
图3-6还示例性示出了本发明的不同实施例的显示面板的电极区制造工艺。本发明的方法提供了基板，在基板上设置在平行于所述基板的上表面的方向上彼此交替的数据线层和隔离层，并且将数据线层的高度设置为等于隔离层的高度。
具体地，在一种实施方式中，当使用栅极层金属作为第一导电层时,即，第一导电层还延伸到显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的栅极电极时，参见图3(a)和图4(a)，可以采用如下示例性方法：
S1：提供基板(如步骤S301或步骤S401所示)，基板材料可以本领域的任何适宜的基板材料，例如，玻璃。
S2：在基板上设置作为第一导电层的栅极金属层(如步骤S302或S402所示)。
S3：对栅极金属层进行构图，使其形成彼此交替的第一导电层去除区域和第一导电层保留区域(如步骤S303或S403所示)。其中，构图工艺可以采取本领域技术人员所知晓的任何合适的工艺，例如，包括曝光、显影和刻蚀的光刻工艺等工艺。
S4：在第一导电层去除区域和第一导电层保留区域上设置绝缘层(如步骤S304或S404所示)。
S5：在绝缘层上设置钝化层(如步骤S305或S405所示)。
S6：根据层高度的具体情况，将第一导电层保留区域上的钝化层全部(见图3(a)的S306)或者部分去除(见图4(a)的S406)。
S7：设置用于电连接第一导电层和第二导电层的过孔(如步骤S306或S406所示)。可以利用干刻等工艺来形成过孔。对于第一导电层保留区域上的钝化层全部去除的情况，如图3所示，在绝缘层中设置过孔。对于第一导电层保留区域上的钝化层部分去除的情况，如图4所示，在钝化层和绝缘层中设置过孔。
S8：设置诸如透明导电氧化物的第二导电层。透明导电氧化物包括但不限于ITO。在一个实施例中，在数据线层和间隔层之上整体地沉积第二导电层(如步骤S307或S407所示)，然后对第二导电层进行构图(例如，采用光刻工艺)，使得其形成彼此交替的第二导电层去除区域和第二导电层保留区域(如步骤S308或S408所示)。并且第二导电层去除区域和第二导电层保留区域分别与第一导电层去除区域和第一导电层保留区域相对应。从而，在隔离层处没有第二导电层，而数据线层位置处具有第二导电层。
可以看出，对于图3所示的第一导电层保留区域上的钝化层全部去除的情况，还可以进一步地去除第一导电层保留区域上的绝缘层的一部分(例如，将其高度去除大约四十分之一)去除。在此情况中，第一导电层和第二导电层之间的间隔层由绝缘层构成，过孔被形成在该绝缘层中。
对于图4所示的第一导电层保留区域上的钝化层部分去除的情况，第一导电层和第二导电层之间的间隔层由绝缘层和钝化层构成，过孔被形成在该绝缘层和钝化层中。
在另一种实施方式中，当使用源极/漏极层金属作为第一导电层时，即，第一导电层还延伸到显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源极/漏极电极时，参见图5(a)和图6(a)，可以采用如下示例性方法：
S1：提供基板(如步骤S501或步骤S601所示)，基板材料可以本领域的任何适宜的基板材料，例如，玻璃。可选地，考虑到包括电极区和阵列区的显示面板的实际生产需要，还可以在显示面板的基板上设置栅极金属层(如步骤S502-或步骤S602-所示)，然后利用构图工艺(例如，通过光刻)，将电极区的栅极金属层去除(如步骤S503或步骤S603所示)。在去除电极区的栅极金属层之后，可以进一步设置栅极绝缘层(如步骤S504或步骤S604所示)。需要说明，在使用源极/漏极层金属作为数据线层的一部分的情况，对于电极区，栅极和栅极绝缘层的设置并非是必需的。
S2：在基板上设置作为第一导电层的源极/漏极金属层(如步骤S505或步骤S605所示)。
S3：对源极/漏极金属层进行构图(如步骤S506或步骤S606所示)，使其形成彼此交替的第一导电层去除区域和第一导电层保留区域。其中，构图工艺可以采取本领域技术人员所知晓的任何合适的工艺，例如，光刻工艺。
S4：在第一导电层去除区域和第一导电层保留区域上设置钝化层(如步骤S507或步骤S607所示)。
S5：根据层高度的具体情况，将第一导电层保留区域上的钝化层全部(见图5(a)的S508)或者部分去除(见图6(a)的S608)。对于图6所示的情况，步骤S5还包括，在剩余的钝化层中设置过孔，以电连接第一导电层和第二导电层(见步骤S608)。
S6：设置诸如ITO层的第二导电层。在一个实施例中，在数据线层和间隔层处整体地沉积第二导电层(如步骤S509或步骤S609所示)，然后对第二导电层进行构图(例如，采用光刻工艺)，使得其形成彼此交替的第二导电层去除区域和第二导电层保留区域(如步骤S510或步骤S610所示)。并且第二导电层去除区域和第二导电层保留区域分别与第一导电层去除区域和第一导电层保留区域相对应。从而，在隔离层处没有第二导电层，而数据线层位置处具有第二导电层。
可以看出，对于图5所示的将第一导电层保留区域上的钝化层全部除去的情况，第一导电层和第二导电层之间不存在间隔层。对于图6所示的将第一导电层保留区域上的钝化层部分去除的情况，第一导电层和第二导电层之间的间隔层由钝化层构成，过孔被形成在钝化层中，优选位于钝化层的中心。
图7示出了本发明的一个实施例的示意性方法的流程图。在框101中，提供了基板。在框201中，设置了第一导电层。可以对第一导电层进行构图，来形成第一导电层保留区域和第一导电层去除区域，以在数据线层处形成有第一导电层，而在隔离层处没有第一导电层。在框301中，当第一导电层还延伸到显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的栅极电极时，设置绝缘层和钝化层。在框302中，当第一导电层还延伸到显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源/漏极电极时，设置钝化层。在框401、402、403和404中，根据层高度的需要，将第一导电层保留区域(对应于数据线层)上的钝化层部分或者全部去除。在框412中，进一步地将第一导电层保留区域上的绝缘层部分地去除。在框501中，设置用于电连接第一导电层和第二导电层的过孔。在框601中，在数据线层处设置第二导电层。
本发明中描绘的流程图仅仅是一个例子。在不脱离本发明精神的情况下，可以存在该流程图或其中描述的步骤的很多变型。例如，所述步骤可以以不同的顺序进行，或者可以添加、删除或者修改步骤。这些变型都被认为是所要求保护的方面的一部分。
由上述描述可以知道，本发明的方案在阵列镀膜工艺时，在不增加现有掩模的情况下，通过调整数据线层与隔离层的高度之间的关系，使得隔离层的高度最终与数据线层的高度保持一致，能够使得数据线与绝缘层保持在一个水平面。
在形成显示面板的电极区后，执行对电极区清洗的步骤时，例如利用清洗带对所述电极区进行压力清洗时，由于数据线层与隔离层之间没有高度差，不存在沟槽，隔离层此时堆积导电异物的可能性大大降低，并且平滑的表面更有利于异物的移动，清洗带可以移除异物。此外，当清洗带以一定压力来清洗电极区的数据线时，可以防止清洗带使电极区数据线倾倒的情况的发生。从而，本发明的方案可以大大提供电极区的清洗率，减少电极区的异物，大大降低了模组贴附工艺后的数据线短路的不良发生率，减少设备投资与人员费用，提高一次产品良率。
已经描述了某特定实施例，这些实施例仅通过举例的方式展现，而且不旨在限制本发明的范围。事实上，本文所描述的新颖实施例可以以各种其它形式来实施；此外，可在不脱离本发明的精神下，做出以本文所描述的实施例的形式的各种省略、替代和改变。所附权利要求以及它们的等价物旨在覆盖落在本发明范围和精神内的此类形式或者修改。

Claims (22)

1.一种显示面板，其具有电极区，所述电极区包括：基板，设置在所述基板上的并在平行于所述基板的上表面的方向上彼此交替的数据线层和隔离层，其特征在于，所述数据线层包括：
设置在所述基板上的第一导电层；和
设置在所述第一导电层上的第二导电层，其中，
所述第二导电层与所述隔离层保持在一个水平面。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述数据线层还包括：间隔层，其被设置在所述第一导电层和所述第二导电层之间；
过孔，其被设置在所述间隔层中，所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源极电极或漏极电极。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述间隔层包括第一钝化层；
所述隔离层包括第二钝化层。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源极电极或漏极电极。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述隔离层包括钝化层。
7.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的栅极电极。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述间隔层包括第一绝缘层；
所述隔离层包括在所述基板上的第二绝缘层和在所述第二绝缘层上的第三钝化层。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第二导电层的高度和所述第一绝缘层的高度的比为1:39。
10.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述间隔层还包括在所述第一绝缘层上的第四钝化层。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的显示面板，其特征在于，
所述第一导电层包括金属；
所述第二导电层包括透明导电层；
所述基板包括玻璃；
所述显示面板包括液晶显示面板。
12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-11中任一项所述的显示面板。
13.一种显示面板的制造方法，包括：提供基板，在所述基板上设置在平行于所述基板的上表面的方向上彼此交替的数据线层和隔离层以形成显示面板的电极区，其特征在于，设置所述数据线层包括：
在所述基板上设置第一导电层；和
在所述第一导电层之上设置第二导电层，其中，
所述第二导电层与所述隔离层保持在一个水平面。
14.根据权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述数据线层还包括：间隔层，其被设置在所述第一导电层和所述第二导电层之间；
过孔，其被设置在所述间隔层中，所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
15.根据权利要求13所述的制造方法，其中，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的源极电极或漏极电极，其特征在于，所述方法进一步包括：
在所述基板上形成所述第一导电层并对其进行构图，使其形成彼此交替的第一导电层去除区域和第一导电层保留区域；
在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置钝化层；
将所述第一导电层保留区域上的所述钝化层去除；
在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置所述第二导电层；以及
将所述第一导电层去除区域的所述第二导电层去除。
16.根据权利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述第一导电层保留区域上的钝化层被部分去除，所述方法进一步包括：
在第一导电层保留区域上的所述钝化层中设置过孔，所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
17.根据权利要求13所述的制造方法，其中，所述第一导电层还延伸到所述显示面板的阵列区中作为薄膜晶体管的栅极电极，其特征在于，所述方法进一步包括：
在所述基板上形成所述第一导电层并对其进行构图，使其形成彼此交替的第一导电层去除区域和第一导电层保留区域；
在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置绝缘层；
在所述绝缘层上设置钝化层；
将所述第一导电层保留区域的所述钝化层至少部分去除；
在所述第一导电层保留区域的所述绝缘层和所述钝化层中设置连接到所述第一导电层的过孔；
在所述第一导电层去除区域和所述第一导电层保留区域上设置所述第二导电层；以及
将所述第一导电层去除区域上的所述第二导电层去除，
其中所述过孔用于电连接所述第一导电层和所述第二导电层。
18.根据权利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述第一导电层保留区域的所述钝化层被完全去除，所述方法进一步包括：
将所述第一导电层保留区域的所述绝缘层部分地去除。
19.根据权利要求18所述的制造方法，其特征在于，所述第一导电层保留区域的所述绝缘层的高度被去除掉四十分之一。
20.根据权利要求13-19中任一项所述的方法，其特征在于，
所述第一导电层包括金属；
所述第二导电层包括透明导电层；
所述基板包括玻璃；
所述显示面板包括液晶显示面板。
21.根据权利要求20所述的方法，其特征在于，在形成显示面板的电极区后，还包括对所述电极区清洗的步骤。
22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，对所述电极区清洗的步骤包括：利用清洗带对所述电极区进行压力清洗。
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