CN105428261A - 使用uv膜固定基板的smt方法 - Google Patents

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严小龙
束方沛
王铁璇
洪胜平
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Abstract

本申请公开了一种使用UV膜固定基板的SMT方法,包括以下步骤:在载具的表面形成UV膜,所述载具包括框架,所述框架上固定连接有透明玻璃板,所述UV膜形成于所述透明玻璃板的顶面上;在所述UV膜上粘接固定基板;在所述基板上形成贴装层;从所述透明玻璃板的下方对所述UV膜进行UV照射,去除所述UV膜的粘性;移除所述载具。采用上述方法,通过UV膜自身的粘性即可将基板粘接在框架上,而不需要人工手动的采用胶带来固定基板,提高了基板粘接的位置精度且降低了人力成本。在表面贴装完成后,通过UV照射,消除掉UV膜的粘性便可将基板从载具上卸下,且基板的表面不存在残胶的问题。

Description

使用UV膜固定基板的SMT方法
技术领域
本申请一般涉及半导体封装技术领域,尤其涉及使用UV膜固定基板的SMT方法。
背景技术
随着半导体行业的飞速发展,FC(FlipChip;倒装芯片)封装集成度越来越高,封装尺寸越来越小。FC产品组装的工序也越来越多,越来越复杂,SMT(SurfaceMountTechnology;表面贴装技术)也是其中重要的环节。传统的SMT程序通过高温胶带把基板固定在载具上,完成印刷后进入电容贴装工序,回流后再在基板上盖上盖板,然后进入芯片贴装工序。
采用此种方式,需要人工手动采用胶带的方式将基板粘贴到载具上,人力成本较高,而且还会应为人为操作带来基板的粘贴位置精度不高的问题。同时基板上还会存才残胶的问题,容易造成基板沾污。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种使用UV膜固定基板的SMT方法,以提高基板的位置精度且解决基板上残胶的问题。
本申请提供一种使用UV膜固定基板的SMT方法,包括以下步骤:
在载具的表面形成UV膜,所述载具包括框架,所述框架上固定连接有透明玻璃板,所述UV膜形成于所述透明玻璃板的顶面上;
在所述UV膜上粘接固定基板;
在所述基板上形成贴装层;
从所述透明玻璃板的下方对所述UV膜进行UV照射,去除所述UV膜的粘性;
移除所述载具。
采用上述方法,通过UV膜自身的粘性即可将基板粘接在框架上,而不需要人工手动的采用胶带来固定基板,提高了基板粘接的位置精度且降低了人力成本。在表面贴装完成后,通过UV照射,消除掉UV膜的粘性便可将基板从载具上卸下,且基板的表面不存在残胶的问题。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本发明实施例一提供的使用UV膜固定基板的SMT方法的流程图;
图2为本发明实施例二提供的使用UV膜固定基板的SMT方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请参考图1所述,本发明实施例一提供的使用UV膜固定基板的SMT方法,包括以下步骤:
S10:在载具的表面形成UV(UltraViolet;紫外线)膜,所述载具包括框架,所述框架上固定连接有透明玻璃板,所述UV膜形成于所述透明玻璃板的顶面上;
在进行表面贴装之前,在载具的透明玻璃板的上表面预先粘贴一层UV膜。
S20:在所述UV膜上粘接固定基板;
UV膜自身具有粘性,通过UV膜的粘性来将基板固定到载具上。
S30:在所述基板上形成贴装层;
将基板固定到载具上后,开始在基板的功能面上形成贴装层。形成贴装层的方法可以采用现有的贴装层加工工艺。
S40:从所述透明玻璃板的下方对所述UV膜进行UV照射,去除所述UV膜的粘性;
在贴装层制作完成后,采用紫外线从玻璃板的下侧对UV膜进行照射,去除UV膜的粘性。
S50:移除所述载具。
在UV膜的粘性去除后,将基板与载具分离并移除载具,以进行后续的封装程序。
采用上述方法,通过UV膜自身的粘性即可将基板粘接在框架上,而不需要人工手动的采用胶带来固定基板,提高了基板粘接的位置精度且降低了人力成本。在表面贴装完成后,通过UV照射,消除掉UV膜的粘性便可将基板从载具上卸下,且基板的表面不存在残胶的问题。
请参考图2所述,本发明实施例二提供的使用UV膜固定基板的SMT方法,包括以下步骤:
S10:在载具的表面形成UV(UltraViolet;紫外线)膜,所述载具包括框架,所述框架上固定连接有透明玻璃板,所述UV膜形成于所述透明玻璃板的顶面上;
在进行表面贴装之前,在载具的透明玻璃板的上表面预先粘贴一层UV膜。
S20:在所述UV膜上粘接固定基板;
UV膜自身具有粘性,通过UV膜的粘性来将基板固定到载具上。
S301:在所述基板上贴装无源器件;
S302:在所述基板上贴装芯片;
S40:从所述透明玻璃板的下方对所述UV膜进行UV照射,去除所述UV膜的粘性;
在贴装层制作完成后,采用紫外线从玻璃板的下侧对UV膜进行照射,去除UV膜的粘性。
S50:移除所述载具。
在该实施例中,首先进行无源器件的贴装,然后再进行芯片的贴装。
进一步地,为了降低封装后的整体厚度,通过倒装贴装的方式在将芯片倒装的贴装在基板上。
进一步地,框架为矩形框架,该矩形框架可以由四条型材顺次首尾连接焊接而成,上述的透明玻璃板固定镶嵌于矩形框架的中心空腔内。
进一步地,无源器件为电容、电阻或电感中的一种或多种。
进一步地,通过倒装的方式在基板上贴装一颗或多颗芯片。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解,本申请中所涉及的发明范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下,由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (6)

1.一种使用UV膜固定基板的SMT方法,其特征在于,包括以下步骤:
在载具的表面形成UV膜,所述载具包括框架,所述框架上固定连接有透明玻璃板,所述UV膜形成于所述透明玻璃板的顶面上;
在所述UV膜上粘接固定基板;
在所述基板上形成贴装层;
从所述透明玻璃板的下方对所述UV膜进行UV照射,去除所述UV膜的粘性;
移除所述载具。
2.根据权利要求1所述的使用UV膜固定基板的SMT方法,其特征在于,所述在所述基板上形成贴装层,具体包括以下步骤:
在所述基板上贴装无源器件:
在所述基板上贴装芯片。
3.根据权利要求2所述的使用UV膜固定基板的SMT方法,其特征在于,所述在所述基板上贴装芯片,具体为:
通过倒装贴装的方式在所述基板上贴装芯片。
4.根据权利要求1-3任一项所述的使用UV膜固定基板的SMT方法,其特征在于,所述框架为矩形框架,所述透明玻璃板固定镶嵌于所述矩形框架的中心空腔内。
5.根据权利要求2或3所述的使用UV膜固定基板的SMT方法,其特征在于,所述无源器件为电容、电阻或电感中的一种或多种。
6.根据权利要求2或3所述的使用UV膜固定基板的SMT方法,其特征在于,所述芯片为单颗或多颗。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109781617A (zh) * 2019-01-17 2019-05-21 威士达半导体科技(张家港)有限公司 一种uv划片膜与底膜易撕效果的评估方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1720766A (zh) * 2002-12-02 2006-01-11 索尼化学株式会社 挠性布线电路板的制造方法
CN101489358A (zh) * 2008-01-14 2009-07-22 旗胜科技股份有限公司 软性电路板的元件表面实装方法
CN102131878A (zh) * 2008-08-27 2011-07-20 日东电工株式会社 粘合带或片
CN102301835A (zh) * 2008-12-02 2011-12-28 代表亚利桑那大学的亚利桑那校董会 准备柔性基板组件的方法和从其得到的柔性基板组件
CN102740601A (zh) * 2011-04-27 2012-10-17 浙江国森精细化工科技有限公司 电子基板之制程与所应用的接着剂
CN102751257A (zh) * 2011-04-22 2012-10-24 三星半导体(中国)研究开发有限公司 Cob模块及其制造方法
CN104838485A (zh) * 2012-10-04 2015-08-12 荷兰应用自然科学研究组织Tno 在载板上的可卸式基板

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1720766A (zh) * 2002-12-02 2006-01-11 索尼化学株式会社 挠性布线电路板的制造方法
CN101489358A (zh) * 2008-01-14 2009-07-22 旗胜科技股份有限公司 软性电路板的元件表面实装方法
CN102131878A (zh) * 2008-08-27 2011-07-20 日东电工株式会社 粘合带或片
CN102301835A (zh) * 2008-12-02 2011-12-28 代表亚利桑那大学的亚利桑那校董会 准备柔性基板组件的方法和从其得到的柔性基板组件
CN102751257A (zh) * 2011-04-22 2012-10-24 三星半导体(中国)研究开发有限公司 Cob模块及其制造方法
CN102740601A (zh) * 2011-04-27 2012-10-17 浙江国森精细化工科技有限公司 电子基板之制程与所应用的接着剂
CN104838485A (zh) * 2012-10-04 2015-08-12 荷兰应用自然科学研究组织Tno 在载板上的可卸式基板

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109781617A (zh) * 2019-01-17 2019-05-21 威士达半导体科技(张家港)有限公司 一种uv划片膜与底膜易撕效果的评估方法

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