CN105396330B - 气泡分离机构与气泡分离方法及其应用于含有药液供给的制程机台 - Google Patents

气泡分离机构与气泡分离方法及其应用于含有药液供给的制程机台 Download PDF

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CN105396330B CN201510485223.6A CN201510485223A CN105396330B CN 105396330 B CN105396330 B CN 105396330B CN 201510485223 A CN201510485223 A CN 201510485223A CN 105396330 B CN105396330 B CN 105396330B
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Abstract

本发明为一种气泡分离机构与气泡分离方法及其应用于含有药液供给的制程机台,该气泡分离机构包含有一腔体;一活塞,具有一初始高度;一第一通道,具有一第一高度;一第三通道,第三通道具有一第二高度;一第二通道,第二通道设有一第二切换阀并且具有一第三高度,而初始高度、第一高度、第二高度与第三高度分别为活塞顶部表面、第一信道中心、第二信道与第三信道中心距离地面的垂直距离,第二高度大于第一高度,第一高度大于或等于第三高度,第三高度大于初始高度。因进入腔体中的流体具有第一高度的高度差,使其具有的位能差转换成存于腔体中流体内的分子动能,以使流体中的气泡移动至液面的效率增加,提升气泡分离的效率。

Description

气泡分离机构与气泡分离方法及其应用于含有药液供给的制 程机台
技术领域
本发明涉及一种气泡分离机构与分离方法及其应用于含有药液供给的制程机台,尤指一种含有药液供给的制程机台利用进料与出料之间的高度差所产生的位能差,进行气泡分离的机构及其分离方法。
背景技术
现有技术中气泡与液体的分离,如中国专利第CN201010526270.8号,使用震动方式,排除液体中的气体,包括超音波震动。但震动方式所含震波会使液体具有震波,对于精密涂布产业,所需含低震或无震的涂布液体,还必须考虑减震装置。
现有技术中气泡与液体的分离,如中国台湾专利第I349745号,揭示利用液体压力减压延迟,来侦测判断液体中的气体含量,但压力减压须较复杂的装置,而且不同的液体有不同的粘度,液压的物理现象也不尽相同,因此一种分离装置,较难多种液体状态下适用。
先前技术,半导体药液的滤泡装置多设于生产机台内部,例如:光阻涂布机、显影机及湿式蚀刻机的装置,若药液的气泡未完全排出时,气泡将直接附着于产品上,将对制程造成负面影响降低产品良率,而造成的影响包括有:残影(Mura)、水印(WaterMark)、针孔(PinHole)及种种相关受气泡影响而造成反应不全(例如:显影不全、蚀刻不全)的缺陷,造成产品合格率大幅降低,而有待从事此行业者加以解决。
发明内容
为减少现有技术药液的气泡未完全排出时,气泡将直接附着于产品上,将对制程造成负面影响降低产品良率,本发明目的在于提供一种气泡分离机构,适用于一含有药液的制程机台,含有药液的制程机台包含有一容置槽、至少一气泡分离机构以及一输出装置的涂布机台(Coater)、显影机台(Developer)、清洗机台(Cleaner)、湿蚀刻机台(WetEtching)或剥膜机台(Stripper),而分离气泡机构包含有一腔体;一活塞,设于腔体中的底面并且具有一初始水平高度;一第一通道,一端耦接腔体的侧面并且相通于腔体,第一通道设有一第一切换阀并且具有一第一水平高度;一出料管,一端耦接腔体的侧面并且相通于腔体,而出料管具有一第二水平高度;一第二通道,一端耦接腔体的顶面并且相通于腔体,而第二通道设有一第二切换阀,其中初始高度、第一高度与第三高度分别为活塞顶部表面、第一通道中心、第二通道与第三通道中心距离地面的垂直距离,而第二高度大于第一高度,第一高度大于或等于第三高度,而第三高度大于初始高度。
本发明另一目的在于提供一种气泡分离方法,适用于一外侧分别连接有一第一通道、一第二通道与一第三通道的腔体,腔体具有一初始内部容积,而腔体的内部容积为可压缩,包括有以下步骤:
开启第一通道并且封闭第二通道,提供一流体经第一通道进入腔体中。
封闭第一通道并开启第二通道,而存于流体中的气泡受浮力而朝液面方向移动,并经第二通道排出至腔体外部。
封闭第二通道后,压缩腔体以形成一第一内部容积,使第三通道位置的液压增加而迫使流体经第三通道排出至腔体外部。
完成压缩后再开启第一通道,以使流体再进入腔体中,其中连接腔体处的第一通道、第二通道与第三通道于通道的中心距离地面分别具有一第一高度、一第二高度与一第三高度,而第二高度大于第一高度,第一高度大于或等于第三高度。
本发明具有的优点在于:
本发明提供更精简的气泡分离装置结构及其方法,并可适用于不同黏滞度的液体的气泡分离,以及广泛应用于半导体制程中的各种含有药液的制程机台,有效解决本发明所欲达成的目的。
附图说明
图1绘制本发明一实施例的气泡分离机构的剖面示意图。
图2绘制本发明另一实施例的气泡分离机构的剖面示意图。
图3绘制本发明的气泡分离机构的进料示意图。
图4绘制本发明的气泡分离机构的排泡示意图。
图5绘制本发明的气泡分离机构的出料示意图。
图6绘制一种气泡与液体的分离效率曲线图。
图7绘制一种应用气泡分离机构的制程机台示意图。
图8绘制本发明一实施例的气泡分离方法步骤示意图。
图9绘制本发明另一实施例的气泡分离方法步骤示意图。
图10绘制本发明一实施例的气泡分离机构的作动时序示意图。
图11绘制本发明另一实施例的气泡分离机构的作动时序示意图。
图12绘制本发明一实施例的气泡分离机构(含第三切换阀)的作动时序示意图。
图13绘制本发明另一实施例的气泡分离机构(含第三切换阀)的作动时序示意图。
21第一通道;
22第三通道;
23腔体;
231尖椎体;
24第二通道;
31第一切换阀;
32第二切换阀;
33第三切换阀;
41流体;
42气泡;
h1第一高度;
h2第二高度;
h3第三高度;
p0初始高度;
p1第一压缩高度;
p2第二压缩高度;
100容置槽;
110供给管路;
120供料泵;
200气泡分离机构;
210气泡分离机构;
300输出装置;
310输送管路;
320喷嘴;
S1-S4气泡分离方法步骤(被动泄压排泡);
S10-S40气泡分离方法步骤(主动压缩排泡)。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明,以使本领域的技术人员可以更好的理解本发明并能予以实施,但所举实施例不作为对本发明的限定。
请参考图1所示,本发明揭露一种气泡分离机构200,适用于一含有药液的制程机台,而含有药液的制程机台用以在一基材上(如硅晶圆、玻璃基板、金属基板、塑料基板或软性基板)进行涂布药液、清洗、蚀刻、去膜的制程,例如半导体制程的一涂布制程机台(Coater)、一显影制程机台(Developer)、一清洗制程机台(Cleaner)、一湿蚀刻制程机台(WetEtching)或者一剥膜制程机台(Stripper)等,但不依此为限。
请参考图7所示,图示中绘制的含有药液的制程机台表示为涂布机台,而图式中仅依此涂布机台的架构为例做说明,但不以此为限,含有药液的制程机台包含有一容置槽100、至少一气泡分离机构200以及一输出装置300。
容置槽100的内部含有一制程药液,例如光阻液、显影液、蚀刻液、去离子水、剥离液,而容置槽100对外连接至少一供给管路110与一供料泵120,其中该供给管路110一端连接气泡分离机构200,透过供料泵120用以将容置槽100中的制程药液输送至气泡分离机构200。
输出装置300一侧设有至少一输送管路310,另一侧设置有至少一喷嘴320,而输送管路310一端连接气泡分离机构200,另一端连接输出装置300,其中输出装置300用以接收经气泡分离机构200处理后的制程药液,并经喷嘴320将制程药液输出至基材上。
请参考图1所示,图式绘制本发明气泡分离机构200的其一实施例,气泡分离机构200包含有一腔体腔体23、一第一通道第一通道21、一第三通道22、一第二通道24与一活塞25、一第一切换阀31,以及一第二切换阀32。
腔体23具有至少一顶面、一底面与一侧面,腔体23内部用以容置制程药液,腔体23可为一柱状的腔体结构,例如圆柱状,而位于腔体结构的顶端可为一渐缩的结构型态,例如一尖锥体231的结构型态,但不以此为限,此结构型态设计提供腔体23中制程液体的气泡易于集中至邻近于第二通道24,以提升气泡排除的效率。
第一通道21设于腔体23的侧面且一端耦接含有药液的制程机台的供给管路110(未图示),另一端耦接腔体23的侧面并且相通于腔体23,第一通道21用以输送制程液体进入腔体23中,而第一通道21具有一第一高度h1,其中第一高度h1为以平行地面为参考点至第一通道21的孔径中心的垂直轴向距离,进一步说明,第一通道21可为一管体结构,其内径介于0.3-6公分之间,但不以此为限。
第二通道24设于腔体23的顶面且一端耦接腔体23并且相通于腔体23,第二通道24用以提供腔体23中的气体释放的管道,而第二通道24的结构型态于图式中虽呈现为一直管型态,但不以此为限,可为一具有曲度的弯管型态,而第二通道24具有一第二高度h2,其中第二高度h2为以平行地面为参考点至第二通道24与腔体23耦接位置的垂直轴向距离。
第三通道22设于腔体23的侧面且一端耦接含有药液的制程机台的输送管路310(未图示),另一端耦接腔体23的侧面并且相通于腔体23,而第三通道22与第一通道21所设置于腔体23侧面位置可为同一侧面、相反侧或任意一侧面,在此不限定,依实际需求做设计,而第三通道22用以输出完成排泡后的制程液体至输送管路310,其中第三通道22具有一第三高度h3,第三高度h3为以平行地面为参考点至第三通道22中心的垂直轴向距离,进一步说明,第三通道22可为一管体结构,其内径介于0.3-6公分之间,但不以此为限,而第三通道22的内径可小于或等于第一通道21的内径,在此不限定,依实际需求做设计。
活塞25设于腔体23的底面且一端耦接驱动装置(图未示),另一端嵌入于腔体23中,用以进行往复作动以压缩腔体23的内部容积而使腔体内形成正压或负压状态,腔体中呈负压状态时以进一步增加第一通道21中的制程液体进入腔体23中的吸入,腔体中呈正压状态时以提供腔体中气体经第二通道24排出,以及增加腔体23中的制程液体经第三通道22至输送管路310的动力,进一步说明,活塞25未作动进行压缩时具有一初始高度p0,初始高度p0为以平行地面为参考点至活塞25顶面的垂直轴向距离,其中初始高度p0、第一高度h1、第高度h2与第三高度h3之间的关系为第二高度h2大于第一高度h1,第一高度h1大于或等于第三高度h3,而第三高度h3大于初始高度p0,再者,第一高度h1与第三高度h3之间具有一预定间距,而预定间距为第一通道21孔径中心与第三通道22孔径中心的间距,其中预定间距介于该第一通道21内径的0.5-3.5倍之间。
第一切换阀31连接于第一通道21,经外部控制系统(图未示)的控制以进行切换阀门开启或关闭,用以开放或阻挡制程液体进入腔体23中,而第二切换阀32连接于第二通道24,经外部控制系统(图未示)的控制以进行切换阀门开启或关闭,以开放气泡排出腔体23外部,而第一切换阀31与第二切换阀32可为一电磁切换阀,或者为一压力切换阀,在此不限定,依实际需求做设计。
请参考图2所示,图式绘制本发明另一实施例的一气泡分离机构210,本实施例中与前一实施例的主要差异在于气泡分离机构210具有一第三切换阀33,而与前一实施例相似结构部分则沿用图1的组件符号,本实施例中仅说明主要差异部分。
第三切换阀33连接于第三通道22,经外部控制系统(图未示)的控制以进行切换阀门开启或关闭,用以开放或阻挡制程液体经第三通道22排出于腔体23,而第三切换阀33可为一电磁切换阀,或者为一压力切换阀,在此不限定,依实际需求做设计。
而本发明还揭露一种气泡分离方法,来达成本发明所欲解决的问题,请参考图8所示,图示绘制本发明一实施例的气泡分离方法程序步骤,,腔体23具有一初始内部容积,且腔体23的内部容积为可压缩,该气泡分离方法为被动式排泡,包含有以下步骤:
S1:开启第一通道21并且封闭第二通道24,提供一流体经第一通道21进入腔体23中,进一步说明,视该流体黏滞性(Viscosity)的数值而造成流体经第三通道22泄漏于外的可能,可进一步封闭第三通道22。
S2:封闭第一通道21并开启第二通道24,而存于流体中的气泡受浮力而朝液面方向移动,并经第二通道24排出至腔体外部。
S3:封闭该第二通道,压缩腔体23以形成一第一内部容积,使第三通道22位置的液压增加而迫使该流体经第三通道22排出至腔体23外部,而第一内部容积小于初始内部容积,其中压缩方式为利用活塞25作动的方式,进一步说明,若于S1步骤中所述的封闭第三通道22,则于此S3步骤需开启第三通道22以使流体排出。
S4:再开启第一通道21且活塞回至初始高度p0,造成腔体23内部容积膨胀以使流体再进入腔体23中。
再请参考图9所示,图式绘制本发明所述的气泡分离方法的另一实施例,该气泡分离方法为主动式排泡,包含有以下步骤:
S10:开启第一通道21并且封闭第二通道24,提供一流体经第一通道21进入腔体23中,进一步说明,视该流体黏滞性(Viscosity)的数值而造成流体经第三通道22泄漏于外的可能,可进一步封闭第三通道22。
S20:封闭第一通道21并开启第二通道24后,压缩腔体23以形成一第二内部容积,而存于流体中的气泡受浮力而朝液面方向移动,并经第二通道24排出至腔体23外部,其中于此阶段压缩腔体的方式是提升气泡排出的效率。
S30:封闭该第二通道24后,压缩腔体以形成一第一内部容积,使第三通道22位置的液压增加而迫使该流体经第三通道22排出至腔体23外部,而第一内部容积、第二内部容积与初始内部容积的关系为第一内部容积小于第二内部容积,而第二内部容积小于初始内部容积,其中压缩方式同前一实施例所述的方式,进一步说明,若于S10步骤中所述之封闭第三通道22,则于此S30步骤需开启第三通道22以使流体排出。
S40:再开启第一通道21且活塞25回至初始高度p0,造成腔体23内部容积膨胀使流体再进入腔体23中
本发明特举实施例作说明,请参考图3-图5并配合图10所示,图式绘制本发明于一实施例所述的气泡分离机构200的作动程序,以分别进行进料、排泡、出料的过程,而本发明所述的气泡分离机构200的作动程序的多个实施例将以时序状态进行说明,其中一实施例说明如下:
A.进料过程:第一切换阀31状态为开(switchon),第二切换阀32状态为关(switchoff),活塞25由一第一压缩高度p1移动至初始高度p0,以使供给管路110(图未示)中的一流体41(制程液体)持续进入腔体23中,其中多个气泡42存于流体41中。
B.排泡过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为开(switchon),活塞25保持于初始高度p0,以使流体41中的气泡42逐渐集中于邻近第二通道24的液面位置后,经第二通道24排至腔体23的外部。
C.出料过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为关(switchoff),活塞25朝腔体23顶面方向移动至第一压缩高度p1,用以压缩腔体内部容积造成腔体内压力增加,以使腔体23中的流体41经第三通道22进入输送管路310(图未示),其中第一压缩高度p1是以平行地面为参考点至活塞25顶面的垂直轴向距离,而初始高度p0小于第一压缩高度p1,而第一压缩高度p1小于第三高度h3,进一步说明,本实施例中的第一切换阀31与第二切换阀32的开关切换时间范围介于0.1-180秒之间,而于状态切换时具有一延迟时间,该延迟时间以毫秒或微秒单位计。
请参考图3-图5并配合图11所示,本发明的气泡分离机构200作动程序的另一实施例说明如下:
A.进料过程:第一切换阀31状态为开(switchon),第二切换阀32状态为关(switchoff),活塞25由第一压缩高度p1移动至初始高度p0,以使供给管路110(图未示)中的流体41持续进入腔体23中,其中多个气泡42存于流体41中。
B.排泡过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为开(switchon),活塞25朝腔体23顶面方向移动至一第二压缩高度p2,以使流体41中的气泡42逐渐集中于邻近第二通道24的液面位置后,经第二通道24排至腔体23的外部,其中第二压缩高度p2是以平行地面为参考点至活塞25顶面的垂直轴向距离。
C.出料过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为关(switchoff),活塞25朝腔体23顶面方向再移动至第一压缩高度p1,用以压缩腔体内部容积造成腔体内压力增加,以使腔体23中的流体41经第三通道22进入输送管路310(图未示),其中初始高度p0小于第二压缩高度p2,第二压缩高度p2小于第一压缩高度p1,第一压缩高度p1小于第三高度h3,进一步说明,本实施例中的第一切换阀31与第二切换阀32的开关切换时间范围介于0.1-180秒之间,而于状态切换时具有一延迟时间,该延迟时间以毫秒或微秒单位计。
请参考图2并配合图12所示,本发明于一实施例所述的气泡分离机构210的作动程序,以分别进行进料、排泡、出料的过程,而本发明所述的气泡分离机构210的作动程序的多个实施例,其中一实施例说明如下
A.进料过程:第一切换阀31状态为开(switchon),第二切换阀32状态为关(switchoff),第三切换阀33状态为关(switchoff),活塞25由第一压缩高度p1移动至初始高度p0,以使供给管路110(图未示)中的流体41(制程液体)持续进入腔体23中,其中多个气泡42存于流体41中。
B.排泡过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为开(switchon),第三切换阀33状态为关(switchoff),活塞25保持于初始高度p0,以使流体41中的气泡42逐渐集中于邻近第二通道24的液面位置后,经第二通道24排至腔体23的外部。
C.出料过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为关(switchoff),第三切换阀33状态为开(switchon),活塞25朝腔体23顶面方向移动至第一压缩高度p1,用以压缩腔体内部容积造成腔体内压力增加,以使腔体23中的流体41经第三通道22进入输送管路310(图未示),其中第一压缩高度p1是以平行地面为参考点至活塞25顶面的垂直轴向距离,而初始高度小于第一压缩高度p1,而第一压缩高度p1小于第三高度h3,进一步说明,本实施例中的第一切换阀31、第二切换阀32与第三切换阀33的开关切换时间范围介于0.1-180秒之间,而于状态切换时具有一延迟时间,该延迟时间以毫秒或微秒单位计。
请参考图2并配合图13所示,本发明的气泡分离机构210的作动程序另一实施例说明如下:
A.进料过程:第一切换阀31状态为开(switchon),第二切换阀32状态为关(switchoff),第三切换阀33状态为关(switchoff),活塞25由第一压缩高度p1移动至初始高度p0,以使供给管路110(图未示)中的流体41持续进入腔体23中,其中多个气泡42存于流体41中。
B.排泡过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为开(switchon),第三切换阀33状态为关(switchoff),活塞25朝腔体23顶面方向移动至第二压缩高度p2,以使流体41中的气泡42逐渐集中于邻近第二通道24的液面位置后,经第二通道24排至腔体23的外部,其中第二压缩高度p2是以平行地面为参考点至活塞25顶面的垂直轴向距离。
C.出料过程:第一切换阀31状态为关(switchoff),第二切换阀32状态为关(switchoff),第三切换阀33状态为开(switchon),活塞25朝腔体23顶面方向再移动至第一压缩高度p1,用以压缩腔体内部容积造成腔体内压力增加,以使腔体23中的流体41经第三通道22进入输送管路310(图未示),其中第一压缩高度p1是以平行地面为参考点至活塞25顶面的垂直轴向距离,而初始高度p0小于第二压缩高度p1,第二压缩高度p2小于第一压缩高度p1,而第一压缩高度小于第三高度h3,进一步说明,本实施例中的第一切换阀31、第二切换阀32与第三切换阀33的开关切换时间范围介于0.1-180秒之间,而于状态切换时具有一延迟时间,该延迟时间以毫秒或微秒单位计。
请参考图6所示,图示绘制说明第一通道21与第三通道22之间所述的预定间距对于排泡效率的影响,其中预定间距是正比于排泡减少的时间,当预定间距由0.5倍增加至3.5倍时,排泡减少的时间亦由5%提升至45%。
本发明所述的气泡分离方法的两个实施例中,因持续进入腔体的流体具有第一高度的高度差,使进入的流体具有的位能差转换成存于腔体中流体内的分子动能,而进一步提供流体中的气泡具有朝液面方向的动量,以使黏滞度较高的流体中的气泡移动至液面的气泡排出的效率增加,以提升气泡分离的效率。
本发明所述的气泡分离机构、分离方法及其应用于含有药液供给的制程机台,相较于先前技术中,通过本发明的技术手段提供更精简的气泡分离装置结构与气泡分离程序,并可适用于不同黏滞度的液体的气泡分离,以及广泛应用于半导体制程中的各种含有药液的制程机台,有效解决本发明所欲达成的目的。
以上所述实施例仅是为充分说明本发明而所举的较佳的实施例,本发明的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本发明基础上所作的等同替代或变换,均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围以权利要求书为准。

Claims (10)

1.一种气泡分离机构,其特征在于,包含有:
一腔体,该腔体具有至少一顶面、一底面与一侧面;
一活塞,设于该腔体中的该底面位置,该活塞具有一初始高度;
一第一通道,其一端耦接该腔体的该侧面并且相通于该腔体,该第一通道设有一第一切换阀,而该第一通道具有一第一高度;
一第三通道,其一端耦接该腔体的该侧面并且相通于该腔体,而该第三通道具有一第三高度;以及
一第二通道,其一端耦接该腔体的该顶面并且相通于该腔体,该第二通道设有一第二切换阀,该第二通道具有一第二高度,所述该第二高度为以平行地面为参考点至该第二通道与该腔体耦接位置的垂直轴向距离;
其中,该初始高度、该第一高度、该第二高度与该第三高度分别为该活塞顶部表面、该第一通道中心、该第二通道与该第三通道中心距离地面的垂直距离,而该第二高度大于该第一高度,该第一高度大于或等于该第三高度,该第三高度大于该初始高度;
该腔体的顶端为一尖椎体结构;
该第一通道、该第二通道与该第三通道分别为一管体结构;
该第一高度与该第三高度之间具有一预定间距,该预定间距为该第一通道中心与该第三通道中心的距离,而该预定间距介于该第一通道内径的0.5-3.5倍之间;
该第三通道设有一第三切换阀。
2.根据权利要求1所述的气泡分离机构,其特征在于,其中该第一通道的内径介于0.3-6公分之间,而该第三通道的内径介于0.3-6公分之间。
3.根据权利要求2所述的气泡分离机构,其特征在于,其中该第一通道的内径大于或等于该第三通道的内径。
4.一种含有药液供给的制程机台,其特征在于,其包含有:
一容置槽,其内部具有一制程药液;
至少一供给管路,其耦接并相通于该容置槽;
一供料泵,其连接于该容置槽的外部;
至少一气泡分离机构,其具有:
一腔体,该腔体具有至少一顶面、一底面与一侧面;
一活塞,设于该腔体中的该底面位置,该活塞具有一初始高度;
一第一通道,其一端耦接该腔体的该侧面并且相通于该腔体,该第一通道设有一第一切换阀,而该第一通道具有一第一高度;
一第三通道,其一端耦接该腔体的该侧面并且相通于该腔体,而该第三通道具有一第三高度;以及
一第二通道,其一端耦接该腔体的该顶面并且相通于该腔体,该第二通道设有一第二切换阀,该第二通道具有一第二高度,所述该第二高度为以平行地面为参考点至该第二通道与该腔体耦接位置的垂直轴向距离;
一输出装置,其一侧设有至少一输送管路,该输送管路两端分别耦接该输出装置与该第三通道,而该输出装置另一侧设有至少一喷嘴;其中,该初始高度、该第一高度、该第二高度与该第三高度分别为该活塞顶部表面、该第一通道中心、该第二通道与该第三通道中心距离地面的垂直距离,而该第二高度大于该第一高度,该第一高度大于或等于该第三高度,该第三高度大于该初始高度;
该第一高度与该第三高度之间具有一预定间距,该预定间距为该第一通道中心与该第三通道中心的距离,而该预定间距介于该第一通道内径的0.5-3.5倍之间。
5.根据权利要求4所述的含有药液供给的制程机台,其特征在于,其中该药液供给的制程机台为一涂布制程机台、一显影制程机台、一清洗制程机台、一湿蚀刻制程机台或者一剥膜制程机台。
6.一种气泡分离方法,其特征在于,其适用于一外侧分别连接有一第一通道、一第二通道与一第三通道的腔体,该腔体具有一初始内部容积,而该腔体的内部容积为可压缩,该气泡分离方法包括以下步骤:
A.开启该第一通道并且封闭该第二通道;
B.提供一流体经该第一通道进入该腔体中;
C.封闭该第一通道并开启该第二通道,而存于该流体中的气泡受浮力而朝液面方向移动,并经该第二通道排出至该腔体外部;
D.封闭该第二通道;
E.压缩该腔体以形成一第一内部容积,使该第三通道位置的液压增加而迫使该流体经该第三通道排出至该腔体外部,而该第一内部容积小于该初始内部容积;以及F.完成压缩后再开启该第一通道,使该流体再进入该腔体中;
其中,该第一通道、该第二通道与该第三通道,其前述三者于连接该腔体的通道的中心距离地面分别具有一第一高度、一第二高度与一第三高度,而该第二高度大于该第一高度,该第一高度大于或等于该第三高度。
7.根据权利要求6所述的气泡分离方法,其特征在于,其中上述该气泡分离方法中的步骤C至D之间还包括有步骤C1,如下述:
C1.压缩该腔体以形成一第二内部容积,以使存于该流体中的气泡所受浮力增加并朝液面的方向移动,并经该第二通道排出至该腔体外部;
其中,上述该第一内部容积小于该第二内部容积,而该第二内部容积小于该初始内部容积。
8.根据权利要求7所述的气泡分离方法,其特征在于,其中上述该气泡分离方法中的步骤A至B之间还包括有步骤A1,而步骤E替换为步骤E1,且步骤E1至F之间还步骤E2,如下述:
A1.封闭该第三通道;
E1.压缩该腔体以形成该第一内部容积,使该第三通道位置的液压增加,并开启该第三通道,以使该流体经该第三通道排出至该腔体外部;
E2.封闭第三通道。
9.根据权利要求6、7或8中任一项所述的气泡分离方法,其特征在于,其中上述的该压缩方式为利用活塞移动的压缩方式,而该活塞设于该腔体底面。
10.根据权利要求9所述的气泡分离方法,其特征在于,其中存于该流体的气泡经该第二通道排出的速率正比于该第一高度与该第三高度之间的距离。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111054097B (zh) * 2018-10-16 2021-11-16 台湾创新材料股份有限公司 气泡分离装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01284312A (ja) * 1988-05-10 1989-11-15 Nitsusaku:Kk 気液分離装置
US5526684A (en) * 1992-08-05 1996-06-18 Chevron Research And Technology Company, A Division Of Chevron U.S.A. Inc. Method and apparatus for measuring multiphase flows
CN101105356A (zh) * 2006-07-13 2008-01-16 住友重机械工业株式会社 水平散装油分离器
JP2008238045A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Citizen Holdings Co Ltd 気泡除去装置
CN101637678A (zh) * 2008-07-30 2010-02-03 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 过滤器
CN201899905U (zh) * 2010-12-18 2011-07-20 广东生益科技股份有限公司 锥形活塞消泡器
CN102225252A (zh) * 2011-05-24 2011-10-26 涂强 一种旋流式消气器
CN202983292U (zh) * 2012-11-23 2013-06-12 合肥市顺昌不锈钢设备制造有限公司 一种水气分离装置的泄压机构
CN203447828U (zh) * 2013-08-07 2014-02-26 陈玉凤 集输用单井气液分离装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI110604B (fi) * 2000-08-15 2003-02-28 Admets Oy Kaasunpoistojärjestely
JP2012000571A (ja) * 2010-06-17 2012-01-05 Nitto Denko Corp 脱気用多孔体およびそれを備えた脱気装置
IT1401274B1 (it) * 2010-07-30 2013-07-18 Nuova Pignone S R L Macchina sottomarina e metodi per separare componenti di un flusso di materiale
TWM394847U (en) * 2010-08-30 2010-12-21 Ampoc Far East Co Ltd Liquid bubble removal device for substrate wet process
DE102011088959B4 (de) * 2011-12-19 2022-08-04 Endress+Hauser Conducta Gmbh+Co. Kg Vorrichtung zum Entgasen einer Flüssigkeit und Verwendung dieser Vorrichtung in einem Analysegerät

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01284312A (ja) * 1988-05-10 1989-11-15 Nitsusaku:Kk 気液分離装置
US5526684A (en) * 1992-08-05 1996-06-18 Chevron Research And Technology Company, A Division Of Chevron U.S.A. Inc. Method and apparatus for measuring multiphase flows
CN101105356A (zh) * 2006-07-13 2008-01-16 住友重机械工业株式会社 水平散装油分离器
JP2008238045A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Citizen Holdings Co Ltd 気泡除去装置
CN101637678A (zh) * 2008-07-30 2010-02-03 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 过滤器
CN201899905U (zh) * 2010-12-18 2011-07-20 广东生益科技股份有限公司 锥形活塞消泡器
CN102225252A (zh) * 2011-05-24 2011-10-26 涂强 一种旋流式消气器
CN202983292U (zh) * 2012-11-23 2013-06-12 合肥市顺昌不锈钢设备制造有限公司 一种水气分离装置的泄压机构
CN203447828U (zh) * 2013-08-07 2014-02-26 陈玉凤 集输用单井气液分离装置

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