CN105344292A - 一种超临界水氧化工艺控制方法和控制系统 - Google Patents

一种超临界水氧化工艺控制方法和控制系统 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种超临界水氧化工艺控制方法和控制系统，涉及超临界水氧化技术领域，能够及时准确地对工艺系统条件进行调节，提高含碳物料的处理效果。该超临界水氧化工艺控制方法包括：步骤一、监测超临界水氧化产物的参数，所述参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量；步骤二、将所述参数与其标准参数范围进行对比；步骤三、根据对比结果调节工艺系统条件；重复以上步骤对所述工艺系统条件进行调整，直至所有所述参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。本发明用于控制超临界水氧化工艺。

Description

一种超临界水氧化工艺控制方法和控制系统
技术领域
本发明涉及超临界水氧化技术领域，尤其涉及一种超临界水氧化工艺控制方法和控制系统。
背景技术
超临界水氧化技术是指利用超临界水(即温度超过374.1℃且绝对压力超过22.1MPa的水)为介质的含碳物料氧化过程。由于超临界水与含碳物料和气体均能互溶，且超临界水具有比热容大、传热系数高、扩散系数大、反应速率快等特点，从而使得含碳物料与氧气进行的氧化反应具有反应速率快、氧化彻底，氨氮脱除率高，及无任何污染物产生的优点，从而使得应用超临界水氧化技术处理含碳物料受到越来越广泛的关注。
其中，对含碳物料进行超临界水氧化的过程需要在工艺系统内进行，工艺系统条件在很大程度上决定了对含碳物料的处理效果，因此，对工艺系统条件进行实时监测和调节具有十分重要的意义。现有技术中，主要通过监测反应器内多点温度或者反应器进出口温度、压力的方法来调节工艺系统条件。然而本申请的发明人发现，进出口温度、压力无法准确地反映工艺系统条件，进而使得上述监测和调节过程无法达到准确地监测工艺系统条件，并对工艺系统条件作出调节的目的，进而影响含碳物料的处理效果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种超临界水氧化工艺控制方法和控制系统，用于及时准确地对工艺系统条件进行调节，提高含碳物料的处理效果。
为达到上述目的，本发明提供一种超临界水氧化工艺控制方法，采用如下技术方案：
步骤一、超临界水氧化工艺控制方法包括：
步骤二、监测超临界水氧化产物的参数，所述参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量；
步骤三、将所述参数与其标准参数范围进行对比；根据对比结果调节工艺系统条件；
重复以上步骤对所述工艺系统条件进行调整，直至所有所述参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。
本发明提供的超临界水氧化工艺控制方法包括如上所述的步骤，由于对工艺系统条件进行调节，以对超临界水氧化工艺进行控制的主要目的在于提高含碳物料的处理效果，因此，超临界水氧化产物的参数能最及时准确的反映工艺系统条件是否合理，因此，将监测所得的超临界水氧化产物的参数与其标准参数范围进行对比后，根据所得的对比结果能够及时准确地调节工艺系统条件，且重复以上步骤对工艺系统条件进行调整后，能够使所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定，进而有效提高含碳物料的处理效果。
此外，本发明还提供一种超临界水氧化工艺控制系统，所述超临界水氧化工艺控制系统应用于以上所述的超临界水氧化工艺控制方法中，采用如下技术方案：
超临界水氧化工艺控制系统包括：
参数监测单元，所述参数监测单元用于监测超临界水氧化产物的参数，所述参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量；
对比单元，所述对比单元与所述参数监测单元连接，用于将所述参数与标准参数范围进行对比；
工艺系统条件调节单元，所述工艺系统条件调节单元与所述对比单元连接，用于根据对比结果调节工艺系统条件。
本发明提供的超临界水氧化工艺控制系统包括如上各单元，由于对工艺系统条件进行调节，以对超临界水氧化工艺进行控制的主要目的在于提高含碳物料的处理效果，因此，超临界水氧化产物的参数能最及时准确的反映工艺系统条件是否合理，因此，经过对比单元将参数监测单元监测所得的超临界水氧化产物的参数与其标准参数范围进行对比后，工艺系统条件调节单元能够及时准确地根据所得的对比结果调节工艺系统条件，且上述几个单元重复以上步骤对工艺系统条件进行调整后，能够使所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定，进而有效提高含碳物料的处理效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中的超临界水氧化工艺控制方法的流程图；
图2为本发明实施例中的超临界水氧化工艺控制系统的示意图一；
图3为本发明实施例中的参数监测单元的示意图；
图4为本发明实施例中的工艺系统条件调节单元的示意图；
图5为本发明实施例中的超临界水氧化工艺控制系统的示意图二；
图6为本发明实施例中的超临界水氧化工艺控制系统的示意图三。
附图标记说明：
1—参数监测单元；11—在线气体分析仪；12—在线水质监测仪；
2—对比单元；3—工艺系统条件调节单元；31—氧气供应调节模块；
32—温度调节模块；33—压力调节模块；4—集散控制单元；
5—标准参数范围存储单元。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一
本发明实施例提供了一种超临界水氧化工艺控制方法，如图1所示，该超临界水氧化工艺控制方法包括：
步骤一、监测超临界水氧化产物的参数。
其中，超临界水氧化产物包括气体和液体，因此，上述参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量(ChemicalOxygenDemand，简称COD)。示例性地，对含碳物料进行超临界水氧化处理后，得到的超临界水氧化产物中气体主要包括氢气(H2)、一氧化碳(CO)、氧气(O2)、氮气(N2)、二氧化碳(CO2)和甲烷(CH4)，此时，需要分别监测以上各组分的含量。
步骤二、将参数与其标准参数范围进行对比。
示例性地，超临界水氧化产物中各组分的标准参数范围分别如下：氢气的含量为0～0.01％，一氧化碳的含量为0～0.01％，氧气的含量为0～2％，氮气的含量为0～20％，二氧化碳的含量为78～100％，甲烷的含量为0～0.01％；超临界水氧化产物中液体的化学需氧量的标准参数范围为10mg/L～50mg/L。
步骤三、根据对比结果调节工艺系统条件。
示例性地，为了更好地使工艺系统稳定，本发明实施例中，根据对比结果调节工艺系统条件具体包括：调节一个工艺系统条件，同时监测其他工艺系统条件，将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件。
需要说明的是，上述“其他工艺系统条件”指的是除上述“一个工艺系统条件”以外的工艺系统条件，例如系统温度和系统压力等。因此，上述“同时监测其他工艺系统条件，将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件”的步骤具体可以为：
同时对所有其他工艺系统条件均进行监测，将所有其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节所有其他工艺系统条件。
或者，对任意一个其他工艺系统条件进行监测，将该其他工艺系统条件与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节该其他工艺系统条件，例如，可以对顶部法兰温度进行监测，将顶部法兰温度与其标准参数范围进行对比，再根据对比所得的对比结果对顶部法兰温度进行调节。示例性地，对含碳物料进行超临界水氧化处理时，顶部法兰温度的标准参数范围为400℃～450℃。
或者，同时对多个其他工艺系统条件进行监测，将多个其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节多个其他工艺系统条件，例如，可以同时监测反应器内的温度、反应器出口温度和反应器内的压力，并将反应器内的温度、反应器出口温度和反应器内的压力分别与其标准参数范围进行对比，最后根据对比结果分别调节反应器内的温度、反应器出口温度和反应器内的压力。示例性地，对含碳物料进行超临界水氧化处理时，反应器内的温度的标准参数范围为550℃～900℃，反应器出口温度的标准参数范围为450℃～510℃，反应器内的压力的标准参数范围为22.1MPa～24MPa。
在执行完以上三个步骤后，重复以上步骤以对工艺系统条件进行调整，直至所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。
为了便于本领域技术人员理解和实施，下面本发明实施例以对含碳物料进行超临界水氧化处理为例，提供根据四种不同的对比结果对工艺系统条件的进行调节的具体方式。
第一种，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围，其它气体组分的含量均在其标准参数范围内，液体的化学需氧量高于其标准参数范围。以上对比结果说明反应器内的温度较低，对含碳物料进行的超临界水氧化处理不充分，此时，根据该对比结果调节工艺系统条件具体包括：提高反应器内的温度，同时监测其他工艺系统条件，并将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件。
示例性地，当上述其他工艺系统条件为反应器内的温度、反应器出口温度和反应器内的压力时，将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件的步骤具体可以为：将反应器内的温度与其标准参数范围进行对比，当反应器内的温度低于其标准参数范围时，提高反应器内的温度；将反应器出口温度与其标准参数范围进行对比，当反应器出口温度高于其标准参数范围时，降低反应器出口温度；将反应器内的压力与其标准参数范围进行对比，当反应器内的压力高于其标准参数范围时，降低反应器内的压力。
此次调节结束后，重新开始监测超临界水氧化产物的参数，将参数与其标准参数范围进行对比，后续再根据对比结果调节工艺系统条件，直至所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。
第二种，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量低于其标准参数范围，一氧化碳和氢气的含量均高于其标准参数范围，其他气体的含量均在其标准参数范围内，且液体的化学需氧量高于其标准参数范围。以上对比结明说明反应器内的氧气的量不足，对含碳物料进行的超临界水氧化处理不充分，此时，根据该对比结果调节工艺系统条件具体包括：提高反应器内的氧气的量，同时监测其他工艺系统条件，并将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件。
示例性地，当上述其他工艺系统条件为反应器内的温度、反应器出口温度和反应器内的压力时，将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件的步骤具体可以为：将反应器内的温度与其标准参数范围进行对比，当反应器内的温度低于其标准参数范围时，提高反应器内的温度；将反应器出口温度与其标准参数范围进行对比，当反应器出口温度高于其标准参数范围时，降低反应器出口温度的步骤；将反应器内的压力与其标准参数范围进行对比，当反应器内的压力高于其标准参数范围时，降低反应器内的压力。
此次调节结束后，重新开始监测超临界水氧化产物的参数，将参数与其标准参数范围进行对比，后续再根据对比结果调节工艺系统条件，直至所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。
第三种，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围，一氧化碳的含量高于其标准参数范围，其他气体的含量均在其标准参数范围内，且液体的化学需氧量高于其标准参数范围。以上对比结果说明反应器内的温度较低，对含碳物料进行的超临界水氧化处理不充分，此时，根据对比结果调节工艺系统条件具体包括：提高反应器内的温度，同时监测其他工艺系统条件，并将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件。
示例性地，当上述其他工艺系统条件为反应器内的温度、反应器出口温度和反应器内的压力时，将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比，根据对比结果调节其他工艺系统条件的步骤具体可以为：将反应器内的温度与其标准参数范围进行对比，当反应器内的温度低于其标准参数范围时，提高反应器内的温度；将反应器出口温度与其标准参数范围进行对比，当反应器出口温度高于其标准参数范围时，降低反应器出口温度的步骤；将反应器内的压力与其标准参数范围进行对比，当反应器内的压力高于其标准参数范围时，降低反应器内的压力。
此次调节结束后，重新开始监测超临界水氧化产物的参数，将参数与其标准参数范围进行对比，后续再根据对比结果调节工艺系统条件，直至所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。
第四种，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围，其他气体的含量均在其标准参数范围内，且液体的化学需氧量均在其标准参数范围内。上述对比结果说明反应器内的氧气过多，造成浪费，此时，根据对比结果调节工艺系统条件具体包括降低反应器内的氧气的量的步骤。
具体地，本发明实施例中可以通过调高氧气流量调节阀开度，和/或，提高液氧泵频率的方式，提高反应器内的氧气的量；通过增加辅助燃料流量的方式，提高反应器内的温度；通过提高反应器内的液位，和/或，提高冷却水泵频率的方式，降低反应器出口温度；通过开启降压系统，降低封压泵频率，和/或，调高压力调节阀开度的方式，降低反应器内的压力；通过调低氧气流量调节阀开度，和/或，降低液氧泵频率的方式，降低反应器内的氧气的量。需要说明的是，本领域技术人员还可以通过其他方式达到上述各个目的，本发明实施例对此不进行限定。
需要说明的是，在对含碳物料进行超临界水氧化处理的实际过程中，超临界水氧化产物的参数各有不同，导致对比结果各有不同。示例性地，不同情况下将同一参数与其标准参数范围对比所得的对比结果各有不同；分别用不同参数与其标准参数范围对比所得的对比结果也各有不同。根据其他对比结果对工艺系统条件的调节方式，本领域技术人员可以在参照以上四种的基础上，结合实际需要进行选择，本发明实施例不再一一赘述。
此外，本发明实施例在综合考虑用于监测超临界水氧化产物中各气体组分的含量的在线气体分析仪的监测能力，用于监测超临界水氧化产物中液体的化学需氧量的在线水质监测仪的监测能力，对工艺系统条件的调节效果体现在超临界水氧化产物中所需的时间的前提下，本发明实施例中选择每隔至多30秒监测超临界水氧化产物中各气体组分的含量一次，每隔至多30分钟监测超临界水氧化产物中液体的化学需氧量一次，以尽可能达到实时监测超临界水氧化产物的参数的目的。
本发明实施例提供的超临界水氧化工艺控制方法包括如上所述的步骤，由于对工艺系统条件进行调节，以对超临界水氧化工艺进行控制的主要目的在于提高含碳物料的处理效果，因此，超临界水氧化产物的参数能最及时准确的反映工艺系统条件是否合理，因此，将监测所得的超临界水氧化产物的参数与其标准参数范围进行对比后，根据所得的对比结果能够及时准确地调节工艺系统条件，且重复以上步骤对工艺系统条件进行调整后，能够使所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定，进而有效提高含碳物料的处理效果。
实施例二
本发明实施例提供了一种超临界水氧化工艺控制系统，该超临界水氧化工艺控制系统应用于与实施例一中所述的超临界水氧化工艺控制方法中，具体地，如图2所示，该超临界水氧化工艺控制系统包括：参数监测单元1，参数监测单元1用于监测超临界水氧化产物的参数及其他工艺参数，其中，超临界水氧化产物参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量；对比单元2，对比单元2与参数监测单元1连接，用于将参数与标准参数范围进行对比；工艺系统条件调节单元3，工艺系统条件调节单元3与对比单元2连接，用于根据对比结果调节工艺系统条件。上述几个单元可以重复执行其功能以对工艺系统条件进行调整，进而使所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。
示例性地，如图3所示，本发明实施例中的参数监测单元1包括用于监测超临界水氧化产物参数的在线气体分析仪11和在线水质监测仪12，其中，在线气体分析仪11用于监测超临界水氧化产物中各气体组分的含量，在线水质监测仪12用于监测超临界水氧化产物中液体的化学需氧量。
此外，本发明实施例中的参数监测单元1还包括用于监测其他工艺参数的温度仪表、压力仪表等，本领域技术人员可根据实际需要进行选择，本发明对此不作任何限制。
示例性地，如图4所示，本发明实施例中的工艺系统条件调节单元3包括氧气供应调节模块31、温度调节模块32和压力调节模块33，其中，氧气供应模块31用于调节反应器内的氧气的量，温度调节模块32用于调节系统温度，压力调节模块33用于调节系统压力。示例性地，上述“系统温度”包括反应器内的温度、反应器出口温度、顶部法兰温度等；上述“系统压力”包括反应器内的压力等。
可选地，氧气供应调节模块31包括液氧泵、氧气缓冲罐和氧气流量调节阀，其中，液氧泵、氧气缓冲罐与氧气流量调节阀的连接方式与现有技术中的连接方式相同，此处不再进行赘述。具体地，通过调节液氧泵的频率，和/或，调节氧气流量调节阀开度，即可达到调节反应器内的氧气的量的目的。
可选地，温度调节模块32包括辅助燃料泵、冷却水系统、液位调节泵和闪蒸系统，冷却水系统包括循环冷却水和冷却水泵，其中，辅助燃料泵、冷却水系统、液位调节泵和闪蒸系统的连接方式均与现有技术中的连接方式相同，此处不再进行赘述。具体地，通过调节辅助燃料泵的频率，即可达到调节反应器内的温度的目的，通过调节冷却水泵的频率，和/或，调节液位调节泵的频率，调节反应器内的液位，即可达到调节反应器出口温度和反应器内温度分布的目的。可选地，上述辅助燃料泵和冷却水泵的调节响应时间应小于1分钟，以便于快速对反应器内的温度进行调节。
可选地，压力调节模块33包括封压泵、降压系统和压力调节阀，其中，封压泵、降压系统和压力调节阀的连接方式与现有技术中的连接方式相同，此处不再进行赘述。具体地，通过开启降压系统，调节封压泵的频率，和/或，调节压力调节阀开度，即可达到调节反应器内的压力的目的。
此外，如图5所示，本发明实施例中的超临界水氧化工艺控制系统还包括集散控制单元4，集散控制单元4与对比单元2连接，且集散控制单元4与氧气供应调节模块31、温度调节模块32和压力调节模块33均连接，用于控制氧气供应调节模块31、温度调节模块32和压力调节模块33，以简化超临界水氧化工艺控制方法。
此外，如图6所示，本发明实施例中的超临界水氧化工艺控制系统还包括：标准参数范围存储单元5，标准参数范围存储单元5与对比单元2连接，用于存储参数的标准参数范围。此时，对比单元2可以从标准参数范围存储单元5中直接提取标准参数范围，进而能够快速地将参数监测单元1监测所得的参数与其标准参数范围进行对比，能够简化超临界水氧化工艺控制方法。
本发明提供的超临界水氧化工艺控制系统包括如上各单元，由于对工艺系统条件进行调节，以对超临界水氧化工艺进行控制的主要目的在于提高含碳物料的处理效果，因此，超临界水氧化产物的参数能最及时准确的反映工艺系统条件是否合理，因此，经过对比单元2将参数监测单元1监测所得的超临界水氧化产物的参数与其标准参数范围进行对比后，工艺系统条件调节单元3能够及时准确地根据所得的对比结果调节工艺系统条件，且上述几个单元重复以上步骤对工艺系统条件进行调整后，能够使所有参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定，进而有效提高含碳物料的处理效果。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (20)

1.一种超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，包括：
步骤一、监测超临界水氧化产物的参数，所述参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量；
步骤二、将所述参数与其标准参数范围进行对比；
步骤三、根据对比结果调节工艺系统条件；
重复以上步骤对所述工艺系统条件进行调整，直至所有所述参数均在其标准参数范围内，工艺系统稳定。
2.根据权利要求1所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，根据对比结果调节工艺系统条件包括：
调节一个工艺系统条件；
同时监测其他工艺系统条件；
将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比；
根据对比结果调节其他工艺系统条件。
3.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围，其它气体组分的含量均在其标准参数范围内，液体的化学需氧量高于其标准参数范围时，调节一个工艺系统条件具体为：提高反应器内的温度。
4.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量低于其标准参数范围，一氧化碳和氢气的含量均高于其标准参数范围，其他气体的含量均在其标准参数范围内，且液体的化学需氧量高于其标准参数范围时，调节一个工艺系统条件具体为：提高反应器内的氧气的量。
5.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围，一氧化碳的含量高于其标准参数范围，其他气体的含量均在其标准参数范围内，且液体的化学需氧量高于其标准参数范围时，调节一个工艺系统条件具体为：提高反应器内的温度。
6.根据权利要求4所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，提高反应器内的氧气的量包括：调高氧气流量调节阀开度，和/或，提高液氧泵频率。
7.根据权利要求3或5所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，提高反应器内的温度包括：增加辅助燃料流量。
8.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，当调节其它工艺系统条件为降低反应器出口温度时，降低反应器出口温度包括：提高反应器内的液位，和/或，提高冷却水泵频率。
9.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，当调节其它工艺系统条件为降低反应器内的压力时，降低反应器内的压力包括：开启降压系统，降低封压泵频率，和/或，调高压力调节阀开度。
10.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，对比结果为：超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围，其他气体的含量均在其标准参数范围内，且液体的化学需氧量均在其标准参数范围内时，调节一个工艺系统条件具体为：降低反应器内的氧气的量。
11.根据权利要求10所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，降低反应器内的氧气的量包括：调低氧气流量调节阀开度，和/或，降低液氧泵频率。
12.根据权利要求1所述的超临界水氧化工艺控制方法，其特征在于，每隔至多30秒监测超临界水氧化产物中各气体组分的含量一次，每隔至多30分钟监测超临界水氧化产物中液体的化学需氧量一次。
13.一种超临界水氧化工艺控制系统，所述超临界水氧化工艺控制系统应用于如权利要求1～12任一项所述的超临界水氧化工艺控制方法中，其特征在于，所述超临界水氧化工艺控制系统包括：
参数监测单元，所述参数监测单元用于监测超临界水氧化产物的参数及其他工艺参数，所述超临界水氧化产物参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量；
对比单元，所述对比单元与所述参数监测单元连接，用于将所述参数与标准参数范围进行对比；
工艺系统条件调节单元，所述工艺系统条件调节单元与所述对比单元连接，用于根据对比结果调节工艺系统条件。
14.根据权利要求13所述的超临界水氧化工艺控制系统，其特征在于，所述参数监测单元包括用于监测超临界水氧化产物参数的在线气体分析仪和在线水质监测仪，所述在线气体分析仪用于监测超临界水氧化产物中各气体组分的含量，所述在线水质监测仪用于监测超临界水氧化产物中液体的化学需氧量。
15.根据权利要求14所述的超临界水氧化工艺控制系统，其特征在于，所述工艺系统条件调节单元包括氧气供应调节模块、温度调节模块和压力调节模块，其中，
所述氧气供应调节模块用于调节反应器内的氧气的量，所述温度调节模块用于调节系统温度，所述压力调节模块用于调节系统压力。
16.根据权利要求15所述的超临界水氧化工艺控制系统，其特征在于，所述氧气供应调节模块包括液氧泵、氧气缓冲罐和氧气流量调节阀。
17.根据权利要求15所述的超临界水氧化工艺控制系统，其特征在于，所述温度调节模块包括辅助燃料泵、冷却水系统、液位调节泵和闪蒸系统，所述冷却水系统包括循环冷却水和冷却水泵。
18.根据权利要求15所述的超临界水氧化工艺控制系统，其特征在于，所述压力调节模块包括封压泵、降压系统和压力调节阀。
19.根据权利要求15～18任一项所述的超临界水氧化工艺控制系统，其特征在于，所述超临界水氧化工艺控制系统还包括集散控制单元，所述集散控制单元与所述对比单元连接，且所述集散控制单元与所述氧气供应调节模块、所述温度调节模块和所述压力调节模块均连接，用于控制所述氧气供应调节模块、所述温度调节模块和所述压力调节模块。
20.根据权利要求13所述的超临界水氧化工艺控制系统，其特征在于，所述超临界水氧化工艺控制系统还包括：标准参数范围存储单元，所述标准参数范围存储单元与所述对比单元连接，用于存储所述参数的标准参数范围。
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