CN105314821A - 用于制造玻璃的装置和使用该装置制造玻璃的方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的是提供一种用于制造玻璃的装置和一种用于制造玻璃的方法，其可以在表面玻璃被放入成型设施之前有效地去除表面玻璃，从而制造出非常均匀的用于显示器的玻璃基板，在该产品中不存在光学畸变缺陷以及机械表面波度。所述表面玻璃是在制造玻璃的过程中存在燃烧室或自由挥发玻璃表面的情况下，由于低密度的挥发性分子(例如，硼酸)的挥发而产生的。

Description

用于制造玻璃的装置和使用该装置制造玻璃的方法

技术领域

本申请主张于2014年6月27日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2014-0079513的优先权益，上述申请的全部内容通过引用被并入到本文中。

本发明涉及一种用于制造玻璃的装置和一种使用该装置制造玻璃的方法，其用于制造显示器的玻璃或者出于光学或机械目的需要高表面均匀性的其他玻璃。

背景技术

用于显示器的玻璃基板，其表示用于液晶显示屏(LCD)的玻璃基板，特别需要高标准规格。这种玻璃基板需要对用于制造玻璃基板的工艺的各种化学物质具有高耐蚀性，并且为了减小尺寸增大的玻璃基板的重量，需要具有较低的密度。另外，为了应对在制造显示器的工艺中因为高温处理引起的热冲击，玻璃基板需要具有高耐受性以及低热膨胀特性，并且为了使得玻璃基板与来自形成在基板上的电路的电信号无关，就其成分而言，需要基本上不含有碱组合物。

因此，为了应对上述要求，应用基于高含量的硅和硼酸的硼硅玻璃是有必要的。然而，存在这样一个缺点：硼硅玻璃需要在较高的温度下熔融。这不仅与熔融区段相关，也与将熔融玻璃材料放入成型设施之前的精炼区段、搅拌区段，以及传送区段的所有区段相关。

在这种情况下，为了保持传送区段内的熔融玻璃材料的质量，与玻璃接触的部分由铂或铂合金构成，或在大多数情况下涂布有铂或铂合金。与形成热熔炉的耐火材料相比，铂或铂合金的优点在于铂或铂合金基本上没有接缝，具有光滑的表面，并且具有非常低的材料腐蚀性。然而，由于相比起铂或铂合金，耐火材料使用寿命长并且便宜，因此，耐火材料可以被用作传送区段的材料，例如，德国专利申请提前公开NO.DE102009000785A1中详细地公开了耐火材料。

同时，在制造用于显示器的玻璃的工艺中除了需要上述高标准规格以外，由于玻璃基板应用的领域内的产品(例如，电视机和监视器)的特性，用于显示器的玻璃基板需要高光学标准。高光学标准不仅是指不存在具有预定尺寸或比预定尺寸更大的尺寸的气泡(气泡或晶粒)、条纹、节疤，以及刮伤的状态，而且是指没有光学畸变缺陷(例如，条纹、拉引线道(ream)以及表面波度)的状态。在与非均匀玻璃混合变得不均匀的情况下，光学畸变缺陷是严重的。就厚度为2㎜或2㎜以上的用于建筑或车辆的平板玻璃，或者就厚度为1㎜或1㎜以上的太阳能玻璃而言，光学畸变缺陷不能被肉眼看见，就玻璃的功能而言，一般水平的光学畸变缺陷难以被认为是至关重要的缺陷。然而，就用于显示器的玻璃基板而言，一般水平的光学畸变缺陷被认为是致命性缺陷。

在硼硅玻璃用作显示器玻璃的组合物的情况下，在熔融工艺中、精炼工艺中，搅拌工艺中以及传送工艺中的温度高于在厚板的平板玻璃情况下的熔融工艺、精炼工艺、搅拌工艺以及传送工艺中的温度，这样实质上进一步促进了在硼酸玻璃的组合物中的低分子(例如，硼酸)的挥发。在硼硅玻璃的组合物中的低分子的挥发主要在熔融玻璃材料的表面上进行，从而表面玻璃具有较少的硼酸以及许多二氧化硅以及氧化铝，使得就成分而言，表面玻璃与内部玻璃材料不同。具有不同成分的表面玻璃的厚度与玻璃滞留时间相关，并且约为几十到几百微米，即使表面玻璃具有这个级别的厚度，当产品完全形成时，就光学特性而言，会产生致命的缺陷。此外，在上述表面玻璃存在的情况下，由于表面玻璃本身不均匀的特质，表面张力畸变。因此，存在玻璃的表面波度变大导致出现不均匀的问题。在玻璃产品需要额外的工艺(例如，研磨)的情况下，可能延长需要对产品进行加工的时间，或者可能不能彻底地解决上述问题。在硼硅玻璃中，这种机械不均匀性也被认为是一种致命的缺陷。

在熔融工艺、精炼工艺、搅拌工艺，以及传送区段被配置在燃烧室中，或者玻璃表面存在自然地挥发的情况下，由于构成玻璃组合物的低分子挥发性成分从熔融玻璃的表面挥发至燃烧室等等，这种缺陷变得更加严重，并且引起表面的成分的微小变化。在低分子挥发成分挥发并且表面玻璃的组合物先于搅拌工艺而微小地变化时，通过紧接着的搅拌工艺使得表面玻璃部分地与内部熔融玻璃混合，使得微小变化减轻到一定的程度，但是微小变化不能被完全消除。另外，在燃烧室或自然挥发的玻璃表面存在于搅拌工序之后的区段(例如，将玻璃运送到成型设施的供应通道或工作端)，低分子挥发性成分挥发，不可避免地会产生表面玻璃。另外，在硼硅玻璃的情况下，为了在搅拌工序之后仍然保持低粘度需要保持1200℃或1200℃以上的高温，并且在具有燃烧室的情况下，为了排出燃烧气体，要在外部进行排气处理，结果，进一步减小了燃烧室中的低分子挥发成分的部分压力，最终，进一步促进挥发，而出现更厚的表面玻璃。由于高粘度，熔融玻璃材料在传送区段以层流的方式被传送，并且在表面玻璃没有与内部熔融玻璃混合的状态下排出到形成工序，使得存在这样一个问题：这样制作的玻璃具有致命性的畸变缺陷。

【相关领域的文献】

【专利文献】

(专利文献1)韩国专利NO.KR1207674B1

(专利文献2)韩国专利NO.KR0496067B1

发明内容

技术问题

本发明旨在提供一种用于制造玻璃的装置和一种用于制造玻璃的方法，其可以在表面玻璃被放入成型设施之前有效地去除表面玻璃，从而制造出非常均匀的用于显示器的玻璃基板，在该产品中不存在光学畸变缺陷以及机械表面波度。所述表面玻璃是在制造玻璃时存在燃烧室或自由挥发玻璃表面的情况下，由于低密度的挥发性分子(例如，硼酸)的挥发而产生的。

技术方案

本发明的示例性实施例提供一种用于制造玻璃的装置，包括：传送通道，所述传送通道传送熔融玻璃；撇渣器，所述撇渣器撇去所述传送通道中的表面玻璃；以及排出单元，被撇去的所述表面玻璃通过所述排出单元溢出并且被排出。只要当所述熔融玻璃流动时，所述传送通道能够使所述熔融玻璃的表面被暴露，对所述传送通道的位置并没有被特别地限制。例如，所述传送通道可以是位于前炉、进料口，或者冷却区中的任意一处的通道。

所述撇渣器被安装在所述传送通道的上侧，所述排出单元被安装在所述传送通道的横向侧。为了将非均匀玻璃层(即，表面玻璃)撇去，所述撇渣器被安装在所述传送通道的上侧。需要注意的是“撇去”的意思包括将在熔融玻璃的表面上的非均匀玻璃层流与熔融玻璃的主流分离的操作，并且使非均匀玻璃层在所需的方向上流动。

所述撇渣器在从沿所述传送通道的流动的熔融玻璃的上表面朝向下表面的方向上浸入。在这种情况下，从表面的浸入深度为从所述熔融玻璃的上表面至下表面的方向上的整个深度的5％至50％。在这种情况下，需要注意的是，所述撇渣器的浸入深度(即，给定深度)根据所述熔融玻璃的表面的不均匀层的程度来确定，并且在某些情况下，所述浸入深度可以被调节。

连接所述撇渣器的一端和另一端的线相对于与熔融玻璃在所述传送通道中流动的方向垂直的平面成预定的角度。或者，所述撇渣器的一侧可以被配置为倾斜。

所述排出单元被安装在所述传送通道的横向侧，并且用作将所述表面玻璃排出到外部的通道，所述表面玻璃在沿着所述传送通道流动的熔融玻璃的上侧被撇去以及收集，所述排出单元可以包括：外部出口，所述外部出口用于将被撇去的和收集的表面玻璃排出；溢流入口，所述溢流入口将玻璃从所述传送通道的横向侧传送到所述外部出口；以及排出管道，所述排出管道连接所述溢流入口与所述外部出口。

在这种情况下，必要时，可以将从所述溢流入口至所述外部出口的区段通过模块化来制造，并且在这种情况下，需要注意的是，有这样一个优点，当所述排出单元的位置变化时，或者当设备被替换时，等等，可以根据需要容易地对所述区段进行安装和拆卸。

优选地，排出单元可以包括逆流防止构件、加热装置以及孔口。所述溢流入口为在所述传送通道的横向侧直接形成的入口，被所述撇渣器分离的所述表面玻璃在注入其中。如果通过所述排出单元的所述溢流入口流入到所述排出管道中的玻璃逆流并且流回到所述传送通道，本发明的目的将难以实现。为了防止上述问题，可以安装使用例如，门槛形的防止所述玻璃逆流的所述逆流防止构件。

同时，根据本发明的用于制造玻璃的装置可以进一步包括排出模块，所述排出模块可以被配置为由铂或铂合金构成的管道形式，或者被配置为燃烧室的形式，燃烧装置被安装在所述燃烧室中，但是并不限于此。另外，为了调整被收集并且排出到外部的表面玻璃的量，可以将所述加热装置附接到所述排出模块。

例如，所述排出模块被制造成由铂或铂合金构成的管形管道的情况下，使用电焦耳热的直接加热装置可以被用作所述加热装置。另外，在所述排出模块为燃烧室的形式时，使用在燃烧器中通过燃烧产生的辐射的能量加热所述熔融玻璃的加热装置可以被用作所述加热装置，需要注意的是，所述加热装置的形状不限于此。

所述孔口被安装在所述外部出口的端部，为了调整被收集并排出到外部的表面玻璃的量，可以将所述加热装置安装到所述孔口。作为加热设备，可以存在各种加热设备，例如直接加热设备，其使用电焦耳热加热所述熔融玻璃的流动管道，或者间接加热设备，其使用安装在外部的燃烧器中燃烧的热量来加热所述熔融玻璃。但是，需要注意的是所述加热设备不必限于此。

应注意的是，通过所述排出单元排出的玻璃的量根据沿着所述传送通道流动的熔融玻璃的总量以及所述撇渣器的浸入深度而变化，还根据形成在所述熔融玻璃的上表面的表面玻璃的程度变化。

在这种情况下，应注意的是，优选地，被排出的玻璃的量可以设置为沿着所述传送通道流动的熔融玻璃的总量的约1％至10％，所述加热装置被选择为调整所述排出的玻璃的量。只要所述加热装置可以加热所述表面玻璃使得流动到所述排出单元的表面玻璃可以在熔融状态下流动或排出，对具体构造，例如加热装置的安装位置并没有特别地限制。

同时，根据本发明的用于制造玻璃的所述装置可以被安装在任意一个位置处或从熔融工序至形成玻璃产品工序的整个工序的不同位置处。根据被安装的装置的数量，撇去、收集以及排出所述表面玻璃的步骤可以重复至少一次或几次，但应注意的是本发明并不限于此。

本发明的另一实施例提供一种制造玻璃的方法，包括：使所述熔融玻璃流向传送通道；使用安装在所述传送通道的上侧的撇渣器撇去熔融玻璃的表面玻璃；以及使被撇渣器撇去的表面玻璃溢出并排出到排出单元。

另外，应注意的是通过使用根据本发明的用于制造玻璃的装置制造玻璃的方法可以为，浮法工艺、重新引下(redraw)工艺、狭缝引下工艺，以及溢流引下工艺中的任意一种，但不限于上述方法。

优选地，所述根据本发明的制造玻璃的方法可以进一步包括将没有被撇渣器撇去的熔融玻璃冷却。

优选地，所述根据本发明的制造玻璃的方法可以进一步包括加热由排出单元排出的表面玻璃。

同时，对通过使用根据本发明的用于制造玻璃的装置以及方法制造的玻璃的形状并没有特别地限制，例如，可以为平板形或面板形。通过使用根据本发明的用于制造玻璃的装置以及方法制造的板形玻璃具有优良的平整度。另外，通过使用根据本发明的用于制造玻璃的装置以及方法板形玻璃的优点在于板形玻璃没有光学畸变缺陷(拉引线道)或光学畸变缺陷被减小。原因在于由于在玻璃制造方法的过程中因为表面的暴露而引起的物理和化学成分和特性发生改变的部分被有效地撇去、排出，以及去除。

根据本发明的玻璃可以具有0.01μm至0.07μm的表面波度。在这种情况下，玻璃具有低表面波度，结果，玻璃具有优良的平整度。具体地，玻璃的表面波度可以为0.01μm至0.06μm。

在这种情况下，由于玻璃具有低的表面波度，因此玻璃适合于在基板上层叠微电路和图案，并且适合于用作用于大尺寸的显示设备的玻璃基板。在这种情况下，根据本发明的玻璃可以为硼硅玻璃，并且在这种情况下，降低了由玻璃的表面上的硼酸的挥发所产生的影响。结果，表面波度降低。硼硅玻璃指的是包含硼酸的硅玻璃，硼酸的含量可以是基于硼酸玻璃的总重量的5％至15％，但不限于此。

同时，本发明提供，但并不限于提供，用于显示设备的玻璃。显示设备可以是等离子体显示面板的(PDP)、发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)、液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)，以及阴极射线管(CRT)中的任意一种。

有益效果

本发明可以在表面玻璃被放入成型设施之前有效地去除表面玻璃，从而制造出非常均匀的用于显示器的玻璃基板，在该产品中不存在光学畸变缺陷以及机械表面波度。所述表面玻璃是在制造玻璃时存在燃烧室或自由挥发玻璃表面的情况下，由于低密度的挥发性分子(例如，硼酸)的挥发而产生的。

特别地，通过使用根据本发明的用于制造玻璃的装置和方法制造的板形玻璃具有优良的平整度。另外，通过使用根据本发明的用于制造玻璃的装置和方法制造的板形玻璃的优点在于板形玻璃没有光学畸变缺陷(拉引线道)或光学畸变缺陷被减小。

附图说明

图1是根据本发明的示例性实施例的用于制造玻璃的装置100的透视图；

图2是根据本发明的示例性实施例的用于制造玻璃的装置100的横截面图；

图3是根据本发明的示例性实施例的用于制造玻璃的装置100的俯视图。

具体实施方式

将参照附图以及示例性实施例对本发明进行详细地描述。以下示例性实施例用于说明本发明，本发明的范围包括在所附权利要求书或其变代物中公开的范围，而不限于示例性实施例的范围。

图1是根据本发明的示例性实施例的用于制造玻璃的装置100的透视图。图2是根据本发明的示例性实施例的用于制造玻璃的装置100的横截面图。图3是根据本发明的示例性实施例的用于制造玻璃的装置100的俯视图。以下，将参照图1至图3对根据本发明的示例性实施例的装置100进行描述。

熔融玻璃1沿着传送通道10流动，撇渣器20被安装在传送通道10的上侧，排出单元30设置在传送通道10的横向侧。沿着传送通道10流动的熔融玻璃1的上表面为由挥发性材料的挥发导致的非均匀组合物区，并且熔融玻璃1的上表面由安装的撇渣器20引向排出单元30，然后在排出设备40处向下排出。利用这种结构，在排出单元30之后，即，在撇渣器20之后，传送通道10'中的熔融玻璃的表面的组合物与内部熔融玻璃相同。

撇渣器20在从沿着传送通道10流动的熔融玻璃的上表面朝向其下表面的方向上浸入。参照图2，撇渣器20的浸入深度D1(撇渣器20以该深度从熔融玻璃的表面浸入)为在从熔融玻璃的上表面至下表面的方向上的整个深度D2的5％至50％。例如，在从传送通道10中熔融玻璃的上表面至下表面方向上的垂直深度为500㎜的情况下，5％的深度是指从熔融玻璃的表面垂直深度为25㎜。

也就是，优选地，撇渣器20被配置为定位在深度为从熔融玻璃的表面的整个深度的5％至50％的范围内。

原因是由于浸入深度在小于整个深度的5％的情况下，即使撇渣器20阻止了非均匀玻璃的流动，熔融玻璃的表面上的一部分的非均匀玻璃还是被排出到设置在后端的传送通道10'中，结果，撇渣器20实际上不能用来有效地去除在熔融玻璃的表面上的非均匀玻璃层。另外，在浸入深度等于或大于整个深度的50％的情况下，撇渣器20的形状可能通过由玻璃流引起的压力而变形，这会导致一个缺点，即，会缩短撇渣器20的使用寿命。

同时，根据在熔融玻璃1的表面上的非均匀层的程度来确定浸入深度，并且应当注意在某些情况下可以对浸入深度进行调整。

另外，参照图1以及图2，排出单元30的排出管道33被设置在位于高于撇渣器20的浸入深度D1的部分。也就是，具有预定高度的台阶存在于撇渣器20和排出导管33之间，结果，熔融玻璃1可以通过撇渣器20被引向排出单元30，该撇渣器20被安装在沿着传送通道10流动的熔融玻璃1的上表面(表面玻璃部分)，然后，表面玻璃可以被有效地排出。

撇渣器20的虚拟线2可以相对于虚拟表面3成大于0°小于90°的角度，其中，虚拟线2连接撇渣器20的一端与撇渣器20的另一端，虚拟表面3垂直于熔融玻璃沿着传送通道10流动的方向。具体地，虚拟表面3与虚拟线2之间的角度R更优选地为30°至60°，其中，虚拟表面3垂直于熔融玻璃沿着传送通道10流动的方向，虚拟线2连接撇渣器20的一端与撇渣器20的另一端。

原因是由于角度R在小于30°的情况下，由流动的熔融玻璃向撇渣器20施加的机械负载增加，使得撇渣器20的形状可能会变形，而难以有效地排出表面玻璃，而角度R在等于或大于60°的情况下，不必要地增加撇渣器20的长度，使得撇渣器20的制造成本增加。

同时，撇渣器20的厚度可以为0.5㎜至10㎜。随着厚度变大，撇渣器可以更好地承受流动的熔融玻璃向撇渣器施加的机械负载。具体地，撇渣器20的厚度可以为0.7㎜至2㎜。在这种情况下，撇渣器20可以承受流动的熔融玻璃向撇渣器施加的机械负载，并且可以减少制造撇渣器20所需的成本。

可以根据撇渣器20被安装的温度点来选择撇渣器20的材料，只要所述材料为在温度为1000℃或1000℃以上，具体地，在1300℃至1400℃时具有机械强度金属或难熔材料，对撇渣器20的材料并没有特别地限制。例如，撇渣器的材料可以包括具有1400℃或1400℃以上的熔点的一种或多种金属、金属陶瓷，以及陶瓷。

上述金属可以为金、银、铂、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、铝、镓、锡、铱、铟以及它们的合金中的任意一种，但不限于此。陶瓷可以为通过研磨和使用在自然界中存在的天然的矿物材料制造的陶瓷，或者使用高纯度精制的材料制造的陶瓷，但不限于此。例如，材料可以为硅氮化物、碳氢化合物、硅铝氧氮聚合材料，和氧化锆中的任意一种，但不限于此。只要金属陶瓷为通过将金属的氧化物、碳化物、硅化物、硼化物等等分散到金属基材中来提高耐热性能的硬质材料，对金属陶瓷并没有特别地限制。具体地，撇渣器20优选为由铂、铂合金，以及增强的铂(enhancedplatinum)中的任意一种制造的基于金属的撇渣器，或者为由锆石含量较高的耐火砖制造的撇渣器。

另外，可以使用金属类材料和耐火砖的组合。在这种情况下，耐火砖与玻璃直接接触的表面可以衬有铂、铂合金，以及增强的铂中的任意一种金属类材料。只要撇渣器20可以被安装在传送通道的上侧，并且可以撇去流动的熔融玻璃的上部，对撇渣器20的形状并没有特别地限制。注意的是，撇渣器20的横截面的形状可以是，例如，弯曲形、直线形、弯曲-直线形等等。

排出单元30用来允许被撇渣器20撇去的表面玻璃溢出以及排出。

具体地，排出单元30可以包括将表面玻璃排出到外部的外部出口31，形成在传送通道10的横向侧并且将表面玻璃传送到外部出口31的溢流入口32，以及连接外部出口31与溢流入口32的排出管道33。

在这种情况下，如果一旦流入到排出单元30表面玻璃逆流或者回流到传送通道10，那么将难以实现本发明的目的。为了防止上述问题，可以在排出单元33中设置使用例如门槛形状的防止表面玻璃逆流的逆流防止构件(未示出)。

同时，应注意排出单元30可以进一步包括被安装在外部出口31的一端并且将收集的表面玻璃排出到外部的孔口。孔口为这样一个孔，流体通过其流出，并且该孔口使用公知的技术要素，因此将省略对其的描述。

被引进到排出单元30的玻璃通过排出模块40被排出到外部。排出模块40可以包括加热装置50。

排出模块40可以制造成由铂或铂合金制成的管道的形式，或者可以制造成附接有燃烧器的燃烧装置的燃烧室的形式，但不限于此。在熔融玻璃经过排出模块40的情况下，当温度下降时，粘度会迅速增加，而严重损害流动性。有这样一种担忧，在某种情况下，在排出单元40中玻璃的流动将停止，而该玻璃不会被排出。因此，为了防止上述问题，排出单元40包括合适的加热装置50。在具有加热装置50的情况下，可以调整通过排出模块40排出到外部的玻璃的量，并且加热装置50还可以用来调整通过排出单元30排出的玻璃的量。

必要时，排出单元40可以通过模块化来制造。在这种情况下，有这样一个优点，即，当排出单元30的位置改变时，或者当由于设备故障更换排出单元30时，等等，如有必要可以容易地对排出模块40进行安装和拆卸。

通过使用排出模块40排出的玻璃的量根据沿着传送通道10流动的熔融玻璃的总量、撇渣器20的浸入深度，以及形成在熔融玻璃的上表面的表面玻璃的程度而改变。一般来说，排出模块40优选地被制造为使得排出的熔融玻璃的量可以为沿着传送通道10流动的熔融玻璃的总量的1％至20％。更优选地，排出模块40被制造为使得排出的熔融玻璃的量可以为沿着传送通道10流动的熔融玻璃的总量的1％至10％，优选地，可以选择加热装置使得排出的熔融玻璃的量可以被调整。

在这种情况下，应注意只要加热装置50可以加热熔融玻璃，使得流到排出单元30的熔融玻璃可以在熔融的状态下流动或排出，对具体构造(例如，加热装置50的安装位置)并没有特别地限制。

根据本发明的一种制造玻璃的方法：使熔融玻璃沿着传送通道流动；使用安装在所述传送通道的上侧的撇渣器撇去熔融玻璃的表面玻璃；以及使被撇渣器撇去的表面玻璃溢出并排出到排出单元。

此时，应注意使用根据本发明的用于制造玻璃的装置的制造玻璃的方法可以为，例如，浮法工艺、重新引下工艺、狭缝引下工艺，以及溢流引下工艺中的任意一种，但不限于上述方法。

优选地，所述根据本发明的制造玻璃的方法可以进一步包括将没有被撇渣器撇去的熔融玻璃冷却。

优选地，所述根据本发明的制造玻璃的方法可以进一步包括对由排出单元排出的表面玻璃进行加热。

通过加热被排出的表面玻璃，可以调整被排出到外部的玻璃的量，并且所述加热还用来调整通过排出单元排出的玻璃的量。

同时，对通过使用根据本发明制造玻璃的用于制造玻璃的装置方法制造的玻璃的形状并没有特别地限制，例如，可以为平板形或面板形。通过使用根据本发明制造玻璃的用于制造玻璃的装置方法制造的面板形玻璃具有优良的平整度。另外，通过使用根据本发明制造玻璃的用于制造玻璃的装置方法制造的板形玻璃的优点在于面板形玻璃没有光学畸变缺陷(拉引线道)或光学畸变缺陷被减小。原因在于，在玻璃制造方法的过程中因为表面的暴露而引起的物理和化学成分和特性发生改变的部分被有效地撇去、排出和去除。

根据本发明的玻璃可以具有0.01μm至0.07μm的表面波度。在这种情况下，玻璃具有低表面波度，结果，玻璃具有优良的平整度。具体地，玻璃的表面波度可以为0.01μm至0.06μm。

在这种情况下，由于玻璃具有低的表面波度，因此玻璃适合于在基板上层叠微电路和图案，并且适合于用作用于大尺寸的显示设备的玻璃基板。在这种情况下，根据本发明的玻璃可以为硼硅玻璃，并且在这种情况下，降低了由玻璃的表面上的硼酸的挥发所产生的影响。结果，表面波度降低。硼硅玻璃指的是包含硼酸的硅玻璃，硼酸的含量可以是基于硼酸玻璃的总重量的5％至15％，但不限于此。

同时，本发明提供，但并不限于提供，用于显示设备的玻璃。显示设备可以是等离子体显示面板(PDP)、发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)、液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)，以及阴极射线管(CRT)中的任意一种。

<试验性实例>

一种通过使用具有上述构造的用于制造玻璃的装置100来制造玻璃的方法，通过使用所述制造玻璃的方法，可以从以下试验性实例具体地看出其效果。

首先，对硼硅玻璃材料进行组合。这是指原料的组合，其允许玻璃具有基于SiO₂-Al₂O₃-B₂O₃-RO的组合物。具体地，玻璃包括基于质量百分比的58％～65％的SiO₂、6％～10.5％的B₂O₃、14％～25％的Al₂O₃、0％～3％的MgO、0％～9％的CaO、3％～8％的BaO(这里，8％～18％的MgO+CaO+BaO)，以及0％～2％的ZnO，并且实质上不包括碱。

将组合好的玻璃原材料放入热熔炉中熔融，完全熔融的玻璃被引入到传送通道10。撇渣器20被安装在传送通道10中，浸入深度D1为深度D2的30％，并且撇渣器20的浸入深度约为150㎜。玻璃的上表面4足够高以将玻璃排出到排出单元30，结果，玻璃的一部分，尤其是被撇渣器20撇去的表面玻璃可以被充分地排出。经过撇渣器20之后流经传送通道10'的熔融玻璃流入浮槽(未示出)，然后通过合适的方法在合适的温度形成为用于显示器的玻璃基板。

光学畸变缺陷的水平首先通过检查员的肉眼进行测试，这种测试被称为拉引线道测试。为了达到拉引线道测试的目的，形成的玻璃基板被切成为具有水平长度和垂直长度分别为600㎜的尺寸，然后进行测试。为了达到测试的目的，对20片样品进行测量。为了增加测量的准确性，取样品的位置和时间是随机设置的。拉引线道测试是用于测试在玻璃基板的表面上的光学畸变缺陷的一种定性的方法。拉引线道是指当光投射到玻璃基板上时，是否会出现条纹图案，并且用于显示器的玻璃基板通常需要没有拉引线道。

作为一种测量光学畸变缺陷的定量测试方法，还对表面波度进行测量。为了达到测量表面波度的目的，形成的玻璃基板被切成为具有水平长度和垂直长度分别为100㎜的尺寸，然后进行测量。为了增加测试的准确性，对20片样本进行测量。为了增加测试的精确性，取样品被的位置和时间是随机设置的。该测量使用Surfcom装置。Surfcom装置为这样一种装置，即在玻璃基板的表面的100㎜的区段上进行物理扫描，并且测量表面波度，测量结果显示在以下表1中。

<比较实施例>

本发明的效果通过使用对比实施例来进行验证。硼硅玻璃材料的组合以与以上试验性实例的硼硅玻璃材料的组合相同的方式进行，在玻璃材料完全熔融之后，熔融玻璃被引入到传送通道10中。在这种情况下，提前将撇渣器移除。结果，沿着传送通道10流动的熔融玻璃的上侧的表面玻璃没有通过排出单元30以及排出模块40被排出到外部。熔融玻璃流入到浮槽(未示出)中，并且以与实施例同样的方式通过合适的方法和在合适的温度下形成为用于显示器的玻璃基板。

为了测量通过上述方法制造的玻璃基板的光学畸变缺陷水平，进行拉引线道测试以及表面波度的测量。测量结果显示在以下表1中。

【表1】

	拉引线道测试	表面波度的测量值
			实验性实例	没有产生拉引线道	0.05μm至0.08μm
对比实施例	75％产生拉引线道	0.10μm至0.50μm

如表1所示，可以确认，在通过使用根据本发明的用于制造玻璃的装置以及方法制造的玻璃基板情况下，可以显著地减小由在熔融玻璃的上侧的表面基板的挥发引起的光学畸变缺陷。

也就是，根据本发明，表面玻璃在被放入成型设施之前，被撇渣器移除，从而制造出非常均匀的用于显示器的玻璃基板，在该产品中不存在光学畸变缺陷以及机械表面波度。所述表面玻璃是由低密度的挥发性分子(例如，硼酸)的挥发而在将表面玻璃放入成型设施之前产生的。

Claims (20)

1.一种用于制造玻璃的装置，包括：

传送通道，熔融玻璃被沿着所述传送通道传送；

撇渣器，所述撇渣器撇去在所述传送通道上传送的所述熔融玻璃的表面玻璃；以及

排出单元，被所述撇渣器撇去的所述表面玻璃通过所述排出单元溢出并且被排出。

2.根据权利要求1所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述传送通道为位于前炉、进料器，以及冷却区中的任意一个处的通道。

3.根据权利要求1或2所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述撇渣器被设置在所述传送通道的上侧，所述排出单元被设置在所述传送通道的横向侧。

4.根据权利要求3所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述撇渣器被配置为位于从所述熔融玻璃的表面起的，所述熔融玻璃的整个深度的5％至50％的范围内的深度处。

5.根据权利要求3所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述撇渣器被配置为使得所述撇渣器的一侧倾斜，或者连接所述撇渣器的一端和另一端的线相对于与所述熔融玻璃在所述传送通道中移动的方向垂直的平面保持预定的角度。

6.根据权利要求5所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述预定的角度在大于30°小于60°的范围内。

7.根据权利要求1所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述排出单元包括：

外部出口，所述外部出口将所述表面玻璃排出到外部；

溢流入口，所述溢流入口形成在所述传送通道的横向侧，并且将所述表面玻璃传送到所述外部出口；以及

排出管道，所述排出管道连接所述外部出口与所述溢流入口。

8.根据权利要求7所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述排出单元进一步包括逆流防止构件，所述逆流防止构件位于所述排出管道中，并且防止被撇去的所述表面玻璃逆流回所述传送通道。

9.根据权利要求7所述的用于制造玻璃的装置，进一步包括：

排出模块，所述排出模块被配置为由铂或铂合金制成的管道的形式，或者被配置为其中安装有燃烧设备的燃烧室的形式。

10.根据权利要求7所述的用于制造玻璃的装置，其中，所述排出单元进一步包括孔口，所述孔口被安装在所述外部出口的一端，并且将收集的所述表面玻璃排出到外部。

11.根据权利要求9或10所述的用于制造玻璃的装置，其中，加热装置设置在所述排出模块和所述孔口中的至少一个中，所述加热装置加热位于所述排出模块和所述孔口中的所述至少一个中的所述表面玻璃。

12.根据权利要求1所述的用于制造玻璃的装置，其中，通过所述排出单元排出的所述表面玻璃为在所述传送通道中传送的所述熔融玻璃的1％至10％。

13.一种制造玻璃的方法，包括：

使熔融玻璃移动到传送通道；

使用安装在所述传送通道上侧的撇渣器撇去所述熔融玻璃的表面玻璃；以及

使被所述撇渣器撇去的所述表面玻璃溢出并且被排出到排出单元。

14.根据权利要求13所述的制造玻璃的方法，其中，所述传送通道为位于前炉、进料器，以及冷却区中的任意一个处的通道。

15.根据权利要求13所述的制造玻璃的方法，其中，所述撇渣器被配置为位于从所述熔融玻璃的表面起的，所述熔融玻璃的整个深度的5％至50％的范围内的深度处。

16.根据权利要求13所述的制造玻璃的方法，进一步包括：

将没有被所述撇渣器撇去的所述熔融玻璃冷却。

17.根据权利要求13所述的制造玻璃的方法，进一步包括：

对通过所述排出单元排出的所述表面玻璃进行加热。

18.一种玻璃，所述玻璃通过根据权利要求13至权利要求18中的任意一项所述的制造玻璃的方法制造，所述玻璃的表面波度为0.01μm至0.07μm。

19.根据权利要求18所述的玻璃，其中，所述玻璃的材料为硼硅玻璃。

20.一种显示设备，所述显示设备包含根据权利要求18所述的玻璃。