JP6660792B2 - ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 - Google Patents
ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6660792B2 JP6660792B2 JP2016070119A JP2016070119A JP6660792B2 JP 6660792 B2 JP6660792 B2 JP 6660792B2 JP 2016070119 A JP2016070119 A JP 2016070119A JP 2016070119 A JP2016070119 A JP 2016070119A JP 6660792 B2 JP6660792 B2 JP 6660792B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molten glass
- heating
- glass
- conduit
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 87
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 38
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims description 163
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 134
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 39
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 26
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 63
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 34
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 8
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 3
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007663 fining method Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
前記移送管は、
白金族金属からなり、前記熔融ガラスの流路を構成する導管と、
前記導管の外部に設置され、前記導管が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記導管の外部の場所に設置される複数の発熱体と、を有し、
前記耐熱部材は、前記導管から漏出した熔融ガラスを外部に排出する排出口を有し、
前記排出口近傍に、前記漏出した熔融ガラスを加熱する加熱装置を有し、
前記加熱装置により、前記漏出した熔融ガラスを加熱して前記排出口から排出する、
ことを特徴とする。
前記移送管は、
白金族金属からなり、前記熔融ガラスの流路を構成する導管と、
前記導管の外部に設置され、前記導管が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記導管の外部の場所に設置される複数の発熱体と、を有し、
前記耐熱部材は、前記導管から漏出する熔融ガラスを外部に排出する排出口を有し、
前記排出口近傍に、前記漏出した熔融ガラスを加熱する加熱装置を有し、
前記導管から漏出した熔融ガラスが前記排出口から排出されるよう熔融ガラスを加熱する加熱装置を有する、
ことを特徴とする。
(ガラス基板の製造方法の全体概要)
図1は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。ガラス基板の製造方法は、熔解工程(ST1)、清澄工程(ST2)、均質化工程(ST3)、供給工程(ST4)、成形工程(ST5)、徐冷工程(ST6)、および、切断工程(ST7)を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有してもよい。製造されたガラス基板は、必要に応じて梱包工程で積層され、納入先の業者に搬送される。
清澄工程(ST2)では、熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が発生する。この泡が熔融ガラス中に含まれる清澄剤(酸化スズ等)の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して放出される。その後、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスの温度を制御することにより行われる。
なお、清澄工程は、熔融ガラスに存在する泡を減圧雰囲気で成長させて脱泡させる減圧脱泡方式を用いることもできる。減圧脱泡方式は、清澄剤を用いない点で有効である。しかし、減圧脱泡方式は装置が複雑化及び大型化する。このため、清澄剤を用い、熔融ガラス温度を上昇させる清澄方法を採用することが好ましい。
供給工程(ST4)では、撹拌された熔融ガラスが成形装置に供給される。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形には、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、徐冷後のシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。
図2に示す熔解槽101には、図示されないバーナー等の加熱手段が設けられている。熔解槽には清澄剤が添加されたガラス原料が投入され、熔解工程(ST1)が行われる。熔解槽101で熔融した熔融ガラスは、移送管104を介して清澄管102に供給される。
清澄管102では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスの清澄工程(ST2)が行われる。具体的には、清澄管102内の熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が、清澄剤の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して気相空間に放出される。その後、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄後の熔融ガラスは、移送管105を介して攪拌槽103に供給される。
攪拌槽103では、攪拌機107によって熔融ガラスが攪拌されて均質化工程(ST3)が行われる。攪拌槽103で均質化された熔融ガラスは、ガラス供給管106を介して成形装置200に供給される(供給工程ST4)。
成形装置200では、オーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスからシートガラスSGが成形され(成形工程ST5)、徐冷される(徐冷工程ST6)。
切断装置300では、シートガラスSGから切り出された板状のガラス基板が形成される(切断工程ST7)。
攪拌槽103は、熔融ガラスを攪拌しながら上流側から下流側に流すガラス供給管の一部である。移送管104、105、及び、清澄槽102と同様に、攪拌槽103内を熔融ガラスが流れ、攪拌槽103内において熔融ガラスMGのガラス成分の均質化が行われ、均質化された熔融ガラスMGは、第3配管106を通って成形装置200に供給される。攪拌槽103には、例えば、耐熱性及び高温耐食性の高い白金または白金合金(白金族金属)が用いられる。ここで、白金族金属は、白金族元素からなる金属を意味し、単一の白金族元素からなる金属のみならず白金族元素の合金を含む用語として使用する。白金族元素とは、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)の6元素を指す。ここでは、攪拌槽103の構成を用いて、ガラス供給管の構成を示す。
なお、前述の図2では、攪拌槽103と攪拌機107のみが図示されているが、詳細な構成は図3に示すとおりである。
なお、排出口119を設ける位置、数、及び、径サイズは任意であるが、移送管105と攪拌槽103との接合領域、攪拌槽103と移送管106との接合領域、第1の耐火材料111が設けられてない領域から熔融ガラスMGが漏出することが多いため、これらの領域の下方位置に、排出口119を設けることが好適である。
なお、加熱装置120は、排出口119から排出する熔融ガラスMGの量を制御できればよく、加熱装置120の設置位置、設置数は任意であり、排出口119の周囲、第2の耐火材料113の内部に設けることができる。また、排出口119近傍に設けられた発熱体118を加熱装置120として用いることもできる。
なお、攪拌装置130を構成する攪拌槽103、撹拌機107(回転シャフト108、攪拌翼109)の材料は、白金または白金合金等の白金族金属が用いられるが、保持部材117についても、同様の白金族金属を用いるのが好適である。
攪拌槽103、移送管105、106から漏出した熔融ガラスMGは、加熱空間112内において発熱体118により加熱されるが、攪拌槽103、移送管105、106内を流れたいたときより温度が低下するため粘度が高くなり、加熱空間112の底部領域に溜まる。加熱空間112の底部領域に溜まった熔融ガラスMGの高さ(量)を検出するための液位測定装置(図示せず)が設けられる。液位測定装置、及び、加熱装置120は、制御装置に接続される。制御装置は、主として、CPU、RAM、ROMおよびハードディスク等から構成されるコンピュータである。図4は、制御装置のブロック図である。制御装置は、液位測定装置が測定した加熱空間112内における第2の耐火材料113の底面から熔融ガラスMGの高さ(量)に基づいて、加熱装置120による加熱量を制御する。図5は、排出口119の近傍の拡大図である。制御装置は、液位測定装置を動作させて、加熱空間112の底部領域に溜まった熔融ガラスMGの高さ情報を取得する。熔融ガラスMGの高さが高さA1未満である場合には、制御装置は加熱装置120を動作させず、熔融ガラスMGの高さが高さA1以上である場合に、制御装置は加熱装置120を動作させて熔融ガラスMGを加熱し、熔融ガラスMGの粘度を下げることにより排出口119から熔融ガラスMGを排出する。制御装置は、加熱装置120の加熱量を制御して、加熱空間112の底部領域に熔融ガラスMGが溜まった状態を維持する。攪拌槽103、移送管105、106から漏出した熔融ガラスMGの漏出量と排出口119から排出する熔融ガラスMGの排出量とが一致するように、加熱装置120の加熱量を制御するのが好適である。このような制御により、加熱空間112の底部領域、特に、排出口119に熔融ガラスMGが存在すると、排出口119が熔融ガラスMGに塞がれるため、排出口119から熱が漏れることを抑制でき、加熱空間112の温度を所定の温度に保つことができる。また、加熱装置120の加熱によって第2の耐火材料113が損傷するのを抑制することができる。また、不要な加熱がなくなり、装置の維持費用を抑制することができる。
SiO2:55−80質量%
Al2O3:8−20質量%
B2O3:0−18質量%
RO 0〜17モル%(ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)、
R’2O 0〜2モル%(R’2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量)。
ROのうち、MgOが0〜10質量%、CaOが0〜10質量%、SrOが0〜10質量%、BaOが0〜10質量%であることが好ましい。
さらに、熔融ガラス中で価数変動する金属の酸化物(酸化スズ、酸化鉄)を合計で0.05〜1.5質量%含んでいることが好ましい。
AS2O3、Sb2O3、PbOを実質的に含まないことが好ましいが、これらを任意に含んでいてもよい。
また、ガラス中で価数変動する金属の酸化物(酸化スズ、酸化鉄)を合計で0.05〜1.5質量%含み、As2O3、Sb2O3及びPbOを実質的に含まないということは必須ではなく任意である。
また、本実施形態で製造されるガラス基板は、カバーガラス、磁気ディスク用ガラス、太陽電池用ガラス基板などにも適用することが可能である。
101 熔解槽
102 清澄管
103 撹拌槽
104、105 移送管
106 ガラス供給管
200 成形装置
300 切断装置
MG 熔融ガラス
SG シートガラス
Claims (4)
- ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する熔融槽と、前記熔融ガラスからガラス基板を成形する成形装置と、前記熔融槽から前記成形装置へと移送される熔融ガラスが通過する移送管とを備えるガラス基板の製造方法であって、
前記移送管は、
白金族金属からなり、前記熔融ガラスの流路を構成する導管と、
前記導管の外部に設置され、前記導管が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記導管の外部の場所に設置される複数の発熱体と、を有し、
前記耐熱部材は、前記導管から漏出した熔融ガラスを外部に排出する排出口を有し、
前記排出口近傍に、前記漏出した熔融ガラスを加熱する加熱装置を有し、
前記加熱装置により、前記漏出した熔融ガラスを加熱して前記排出口から排出し、
前記漏出した熔融ガラスと前記発熱体との距離を検出し、前記距離が一定の距離内にあるとき、前記加熱装置による加熱量を増加する、
ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記漏出した熔融ガラスの量を検出し、検出した熔融ガラスの量と、前記排出口から排出する熔融ガラスの量と、が一致するよう前記漏出した熔融ガラスの加熱を制御する、
ことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記漏出した熔融ガラスの量が一定の量に達した後、前記加熱装置による加熱を開始する、
ことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する熔融槽と、前記熔融ガラスからガラス基板を成形する成形装置と、前記熔融槽から前記成形装置へと移送される熔融ガラスが通過する移送管とを備えるガラス基板の製造装置であって、
前記移送管は、
白金族金属からなり、前記熔融ガラスの流路を構成する導管と、
前記導管の外部に設置され、前記導管が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記導管の外部の場所に設置される複数の発熱体と、を有し、
前記耐熱部材は、前記導管から漏出する熔融ガラスを外部に排出する排出口を有し、
前記排出口近傍に、前記導管から漏出した熔融ガラスが前記排出口から排出されるよう熔融ガラスを加熱する加熱装置を有し、
前記漏出した熔融ガラスと前記発熱体との距離を検出し、前記距離が一定の距離内にあるとき、前記加熱装置による加熱量が増加する、
ことを特徴とするガラス基板の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016070119A JP6660792B2 (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016070119A JP6660792B2 (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017178708A JP2017178708A (ja) | 2017-10-05 |
JP6660792B2 true JP6660792B2 (ja) | 2020-03-11 |
Family
ID=60009265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016070119A Active JP6660792B2 (ja) | 2016-03-31 | 2016-03-31 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6660792B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022173604A1 (en) * | 2021-02-09 | 2022-08-18 | Corning Incorporated | Improved glass transport system |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5562363A (en) * | 1994-05-20 | 1996-10-08 | Stir-Melter, Inc. | Apparatus for vitrifying hazardous waste |
JP3513323B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2004-03-31 | キヤノン株式会社 | ガラス溶融方法 |
JP4076578B1 (ja) * | 2007-09-11 | 2008-04-16 | 株式会社フルヤ金属 | 中空管及びそれを用いたガラス溶融装置 |
-
2016
- 2016-03-31 JP JP2016070119A patent/JP6660792B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017178708A (ja) | 2017-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI504574B (zh) | Glass plate manufacturing method | |
CN104944739B (zh) | 玻璃基板的制造方法以及玻璃基板的制造装置 | |
KR101730743B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치 | |
TWI469940B (zh) | Method for manufacturing glass substrates | |
JP5752648B2 (ja) | ガラス基板の製造方法及び製造装置 | |
KR101627484B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 | |
JP6752036B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
CN104302584A (zh) | 玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造装置 | |
TW201714840A (zh) | 玻璃基板之製造方法及玻璃基板之製造裝置 | |
JP2016050149A (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
TWI567037B (zh) | Method for manufacturing glass substrates | |
JP6110448B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、攪拌装置 | |
KR101798288B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 | |
JP5730806B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP6585983B2 (ja) | ガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置 | |
JP6660792B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
KR101653875B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 | |
JP2014069983A (ja) | ガラス基板の製造方法及びガラス基板の製造装置 | |
JP6629920B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置 | |
JP5946206B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板の製造装置、及び攪拌装置 | |
JP2017178725A (ja) | ガラス板の製造方法、およびガラス基板製造装置 | |
JP2017178649A (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
KR101798304B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치 | |
JP6630215B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JP2014009137A (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191107 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200210 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6660792 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |