CN105313391B - 层叠体、导电性层叠体和触控面板 - Google Patents

Abstract

本发明提供层叠体、导电性层叠体和触控面板。该层叠体在将带粘合层的膜贴合至基材膜的透明导电层侧相反侧的面并实施加热处理、然后将带粘合层的膜剥离的情况下，也可适当地防止贴合过带粘合层的膜的面的水接触角增大而导致粘接性下降。一种层叠体，在基材膜的一个面具有一层以上的光学功能层，在上述基材膜的另一个面具有低接触角层，该层叠体是为了在上述光学功能层的与上述基材膜侧相反的一侧的面形成图案化的透明导电层而使用的层叠体，其特征在于，将带粘合层的膜粘贴至上述低接触角层的表面，以150℃、60分钟加热后，将带粘合层的膜剥离时，上述低接触角层表面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力为30mN/m以上。

Description

层叠体、导电性层叠体和触控面板

技术领域

本发明涉及层叠体、导电性层叠体和触控面板。

背景技术

目前，作为具备具有液晶显示面板等显示面板的显示装置的各种装置、例如PDA(Personal Digital Assistants，个人数字助理)、便携信息终端、车载导航系统等中的输入单元，广泛使用触控面板。

触控面板具备透明导电性膜，该透明导电性膜中，在基材膜上设置有含有ITO(铟锡氧化物)、金属纤维、碳纳米管等的透明导电层，通常，触控面板与显示面板分开制造，并被配置于上述显示面板的前面。

此处，含有ITO等的透明导电层、光学调整层的全部或一部分通常经由溅射处理而设置在基材膜上，但该溅射处理是在使用了将基材膜卷起而得到的卷的卷对卷的状态下进行的，此时，基材膜表面因来自于溅射处理时的等离子体的二次电子而被加热到90℃以上。因此，在溅射处理中存在下述问题：输送时的基材膜产生褶皱、扭曲(よれ)。

针对这种问题，例如已知有下述方法：通过在基材膜的与导辊接触的面(与实施溅射处理的面相反的一侧的面)上贴合保护膜来改善输送时所产生的褶皱、扭曲(例如参照专利文献1)。

然后，对于这种形成有透明导电层的透明导电性膜，在将保护膜剥离后，在基材膜的贴合过保护膜的一侧的面上，借助粘合层粘贴其他功能性部件(偏振片等)。

根据需要，为了使通过溅射处理形成的透明导电层低电阻化、透明性提高、耐久性提高，有时在150℃左右的高温下进行加热处理而使其结晶化。

另外，一般公知的是，为了通过省去制造工序中的真空工艺来降低成本、并且为了提高透明导电性膜的弯折性，例如在使用金属纤维、碳纳米管等作为ITO以外的导电性材料的情况下，也在110～150℃左右的条件下进行加热处理，由此使导电材料重叠存在的部分分别熔解密合而导通，从而能够极其良好地低电阻化。

另外，透明导电性膜周边的配线是通过对银浆进行煅烧而制成的，因此在制作透明导电性膜周边的配线时，透明导电性膜在120～140℃左右的条件下被加热。

此外，在透明导电性膜中，为了抑制因图案化后的加热引起的尺寸变化使得配线的间隔偏移，有时在图案化之前在150℃左右的条件下对透明导电性膜进行加热来调整基材的收缩率。

但是，在上述加热时，来源于上述保护膜的粘合层的低分子成分有时会移动至导电性层叠体的贴合有上述保护膜的面上。若产生这种低分子成分的移动，则产生下述问题：将上述保护膜剥离后的面的水接触角增大(即润湿性下降)，在之后与其他光学部件粘贴时，借助粘合部件而得到的粘接性下降；液态粘合剂或液态粘接剂难以涂布展开；等等。

例如，在专利文献2中公开了将在基材膜上对水接触角进行了控制的硬涂膜用于静电容量式触控面板的技术，但对于实施加热处理后的水接触角没有进行任何研究。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-194644号公报

专利文献2：日本特开2011-177938号公报

发明内容

发明所要解决的问题

鉴于上述现状，本发明的目的在于提供一种层叠体、导电性层叠体和触控面板，本发明的层叠体即使在将带粘合层的膜贴合至基材膜的与透明导电层侧相反的一侧的面上并实施加热处理、然后将该带粘合层的膜剥离的情况下，也可适当地防止贴合过该带粘合层的膜的面的水接触角增大而导致粘接性下降。

用于解决问题的手段

本发明涉及一种层叠体，在基材膜的一个面上具有一层以上的光学功能层，在上述基材膜的另一个面上具有低接触角层，该层叠体是为了在上述光学功能层的与上述基材膜侧相反的一侧的面上形成图案化的透明导电层而使用的层叠体，其特征在于，将带粘合层的膜粘贴至上述低接触角层的表面，在150℃、60分钟的条件下加热后，将上述带粘合层的膜剥离时，上述低接触角层的表面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力为30mN/m以上。

本发明的层叠体中，优选：将带粘合层的膜粘贴之前的低接触角层的表面的由JISK6768(1999)规定的润湿张力与在150℃、60分钟的条件下加热后将上述带粘合层的膜剥离后的上述低接触角层的表面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力之差为20mN/m以下。

另外，优选具有选自由硬涂层、高折射率层和低折射率层组成的组中的至少一层作为一层以上的光学功能层。

另外，优选在基材膜上依次层叠有高折射率层和低折射率层作为一层以上的光学功能层。

另外，优选在基材膜上依次层叠有硬涂层、高折射率层和低折射率层作为一层以上的光学功能层。

另外，优选在基材膜上依次层叠有硬涂层、高折射率层和低折射率层作为上述一层以上的光学功能层。

另外，优选上述低接触角层由未固化的(甲基)丙烯酸系树脂单独构成，或者由含有上述未固化的(甲基)丙烯酸系树脂的组合物构成。

另外，优选向上述基材膜的低接触角层侧赋予了硬涂性能。

另外，优选上述低接触角层具有硬涂性能。

另外，优选在上述低接触角层与基材膜之间具有硬涂层。

另外，优选上述透明导电层含有铟锡氧化物或导电性纤维状填料。

另外，本发明涉及一种导电性层叠体，其特征在于，在上述层叠体的光学功能层的与基材膜侧相反的一侧的面上形成有图案化的透明导电层。

另外，本发明还涉及一种触控面板，其特征在于，具备上述导电性层叠体。

以下，对本发明进行详细说明。

本发明人对现有的课题进行了深入研究，结果发现，对于在基材膜的与形成透明导电层侧相反的一侧的面上依次形成有低接触角层和带粘合层的膜的层叠体而言，通过在实施加热处理后将上述带粘合层的膜剥离时，将上述低接触角层的贴合过带粘合层的膜的面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力控制为特定的范围，可以适当地防止粘接性的降低，从而完成了本发明。

需要说明的是，对现有的在基材膜上借助粘合层贴合有带粘合层的膜的层叠体进行加热处理后将带粘合层的膜剥离时，在粘贴过该带粘合层的膜的低接触角层的面产生水接触角的增大，这一课题是通过本申请发明人的研究首次发现的课题。

另外，在本说明书中，“透明导电膜”中的“透明”是指在面内具有透过可见光的区域，也可实质上为半透明。另外，“透明”具体是指例如波长550nm下的透光率为50％以上。

本发明的层叠体在基材膜的一个面上具有低接触角层。

通过具有上述低接触角层，即使在后述的为了使透明导电层结晶化的加热后将带粘合层的膜剥离的情况下，也可以抑制粘贴过该带粘合层的膜的低接触角层的面的水接触角的增大，可以防止该面的粘接性的降低。

即，可以认为：现有的在基材膜上借助粘合层粘贴有带粘合层的膜的层叠体中的水接触角的增大是因上述层叠体的加热处理使上述粘合层的低分子成分移动至基材膜表面而导致的。

与此相对，在本发明的层叠体中，在基材膜的与透明导电层侧相反的一侧的表面上设置低接触角层，在该低接触角层上进一步粘贴有带粘合层的膜。该带粘合层的膜通常借助粘合层粘贴在低接触角层上，本发明人推测：即使像现有的层叠体那样，粘合层的低分子成分移动至低接触角层侧，构成该低接触角层的成分也会覆盖上述低分子成分，或者在上述带粘合层的膜的剥离时上述低接触角层的一部分发生表层剥离，由此可以抑制在将上述带粘合层的膜剥离后的面上产生的水接触角的增大。

上述低接触角层中，将带粘合层的膜粘贴至上述低接触角层的表面，在150℃、60分钟的条件下加热后，将上述带粘合层的膜剥离时，上述低接触角层的表面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力为30mN/m以上。若小于30mN/m，则上述低接触角层的粘贴过带粘合层的膜的面对其他光学部件的粘接性不充分，液态粘合剂或液态粘接剂的涂布展开性也不充分。

上述低接触角层的表面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力优选为35mN/m以上、更优选为40mN/m以上。

需要说明的是，在本发明中，相比于为了使含有金属纤维等的透明导电层实现低电阻化而进行的加热、制作透明导电性膜周边的配线时的加热、以及为了调整基材的收缩率而进行的加热等，为了使含有ITO的透明导电层结晶化而进行的加热的条件(150℃、60分钟)最为苛刻，因此采用了该加热条件(150℃、60分钟)。

上述低接触角层中，优选：后述的将带粘合层的膜粘贴之前的低接触角层的表面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力与在150℃、60分钟的条件下加热后将上述带粘合层的膜剥离后的上述低接触角层的表面的由JIS K6768(1999)规定的润湿张力之差为20mN/m以下。

若上述润湿张力之差为20mN/m以下，则可以适当地抑制将上述带粘合层的膜剥离后的面上产生的水接触角的增大。

上述润湿张力之差更优选为10mN/m以下。

在本发明的层叠体中，作为上述低接触角层，可以举出例如由苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、乙酸乙烯酯系树脂、乙烯基醚系树脂、含卤素的树脂、脂环式烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、纤维素衍生物、有机硅系树脂和橡胶或弹性体等构成的低接触角层。其中，优选：由未固化的(甲基)丙烯酸系树脂单独构成，或者由含有上述未固化的(甲基)丙烯酸系树脂的组合物构成。这种低接触角层可以适当地防止粘接性的下降。

需要说明的是，上述“未固化的”是指，构成上述低接触角层的树脂未进行固化处理、而该低接触角层不具有胶粘感的状态。

另外，“不具有胶粘感的状态”具体是指，在使手指接触低接触角层时，手指以低接触角贴附的状态；或者在使手指在低接触角层上滑动时，不存在不顺畅感的状态。

需要说明的是，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”是指甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯；对于“树脂”而言，如没有特别说明，则为包含单体、低聚物、聚合物等的概念。

构成上述低接触角层的树脂的重均分子量优选为5000～50万。若小于5000，则未固化时的上述低接触角层有时会出现胶粘感；若超过50万，则用于形成低接触角层的组合物的粘度过高，有时无法均匀地涂布。上述重均分子量的更优选的下限为7000、更优选的上限为20万。

需要说明的是，在本发明书中，上述重均分子量是利用凝胶渗透色谱法(GPC)通过聚苯乙烯换算而求出的值。

构成上述低接触角层的树脂的双键当量优选为100以上。若小于100，则难以合成聚合物，玻璃化转变温度(Tg)有可能下降，不仅如此，即使能够合成聚合物，未固化时的上述低接触角层有时也会出现胶粘感。

需要说明的是，构成上述低接触角层的树脂的双键当量是由(化合物的1分子的分子量)/(化合物1分子中所包含的双键的数量)所定义的值。

构成上述低接触角层的树脂优选为溶剂干燥型树脂。

上述溶剂干燥型树脂是指，对含有该树脂和溶剂的组合物进行涂布时仅通过使上述溶剂干燥就可以形成覆膜的树脂。

构成上述低接触角层的树脂优选在1分子中不具有反应性官能团。若构成上述低接触角层的树脂在1分子中具有反应性官能团，则对该含有树脂的组合物进行涂布而形成低接触角层时，有时会出现胶粘感。

需要说明的是，关于上述“在1分子中不具有反应性官能团”，除了在构成上述低接触角层的树脂的分子中完全不包含反应性官能团的情况之外，也可以在能够维持低接触角层不具有胶粘感的状态的范围内在1分子中具有反应性官能团。

上述低接触角层可以通过如下方法形成：将含有构成上述低接触角层的树脂和溶剂的组合物(以下也称为低接触角层用组合物)涂布在上述基材膜的与形成透明导电层侧相反的一侧的面上，并使所形成的涂膜干燥。

作为上述溶剂，可以根据所使用的树脂成分的种类和溶解性来选择使用，可以例示例如酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、双丙酮醇等)、醚类(二氧六环、四氢呋喃、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤代烃类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇类(乙醇、异丙醇、丁醇、环己醇等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等)、乙酸溶纤剂类、亚砜类(二甲基亚砜等)、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等，也可以是它们的混合溶剂。

上述低接触角层可以在不损害本发明的效果的范围内适当添加抗粘连剂、流平剂、抗静电剂等公知的添加剂。

上述低接触角层用组合物的粘度优选为0.5～5.0mPa·s(25℃)。若低于0.5Pa·s(25℃)，则无法形成足够厚度的低接触角层，有时无法实现低接触角层的粘接性改善；若超过5.0mPa·s(25℃)，则有时无法形成均匀的低接触角层。

上述粘度的更优选的下限为0.7mPa·s(25℃)、更优选的上限为3.0mPa·s(25℃)。

上述低接触角层的厚度优选为1～1000nm。若小于1nm，则低接触角层的厚度不充分，有时无法实现低接触角层的粘接性改善；若超过1000nm，则低接触角层容易产生裂缝，在剥离带粘合层的膜时有时会发生面状的剥离。上述低接触角层的厚度的更优选的下限为5nm、更优选的上限为500nm。需要说明的是，在上述低接触角层为如后所述的被赋予了硬涂性能的低接触角层的情况下，该低接触角层也可以具有超过1000nm的厚度。

作为将上述低接触角层用组合物涂布在基材膜上的方法没有特别限定，可以举出例如旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂法、棒涂法、辊涂法、弯月面涂布法、柔性版印刷法、丝网印刷法、液滴涂布法等公知的方法。

另外，在后述的在低接触角层与基材膜之间设置硬涂层的情况下，也可以利用同样的方法在该硬涂层上形成上述低接触角层。

优选在利用上述方法形成的低接触角层的与上述基材膜侧相反的一侧的面上贴合带粘合层的膜。上述带粘合层的膜适合用作保护膜，通过贴合上述带粘合层的膜，在后述的用于形成透明导电层的溅射处理时，可以改善因输送性的问题而产生的褶皱、扭曲。

上述带粘合层的膜优选：至少由基材和粘合层构成，具备平滑性、耐热性，并且硬度和韧性优异。

作为上述基材，没有特别限定，可以举出例如聚酯系树脂、聚丙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中，优选使用聚酯系树脂、聚丙烯系树脂。

另外，作为上述粘合层，为至少包含粘合剂的层，作为该粘合剂，可以举出例如氨基甲酸酯系、橡胶系、有机硅系、丙烯酸系的粘合剂等。其中，从耐热性高、成本低的观点出发，优选丙烯酸系粘合剂。

另外，作为上述丙烯酸系粘合剂，可以举出例如丙烯酸酯与其他单体共聚得到的丙烯酸酯共聚物。

作为上述其他单体，可以举出例如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丙烯酸羟基乙酯、甲基丙烯酸羟基乙酯、丙二醇丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸叔丁基氨基乙酯、甲基丙烯酸正乙基己酯等。其中，优选使用甲基丙烯酸正乙基己酯。

上述其他单体可以单独使用，也可以混合两种以上来使用。

作为上述丙烯酸酯共聚物中含有的丙烯酸酯与其他单体的单元比(丙烯酸酯/其他单体)，只要上述丙烯酸酯共聚物能够发挥所期望的粘合力，则没有特别限定。

作为上述丙烯酸酯共聚物的重均分子量(Mw)，只要上述丙烯酸系粘合剂能够发挥所期望的粘合力，则没有特别限定。

上述粘合剂层可以进一步含有交联剂。

作为上述交联剂没有特别限定，可以举出例如环氧系、异氰酸酯系等的交联剂。

作为上述环氧系交联剂，可以举出例如多官能环氧系化合物。

作为上述多官能环氧系化合物，可以举出例如山梨糖醇聚缩水甘油基醚、聚丙三醇聚缩水甘油基醚、季戊四醇聚缩水甘油基醚、二丙三醇聚缩水甘油基醚、丙三醇聚缩水甘油基醚、三羟甲基丙烷聚缩水甘油基醚、新戊二醇二缩水甘油基醚、1,6-己二醇二缩水甘油基醚、氢化双酚A二缩水甘油基醚、聚乙二醇二缩水甘油基醚、聚丙二醇二缩水甘油基醚、聚丁二烯二缩水甘油基醚等。

作为上述异氰酸酯系交联剂，可以举出例如多异氰酸酯化合物、多异氰酸酯化合物的三聚体、多异氰酸酯化合物与多元醇化合物反应而得到的在末端具有异氰酸酯基氨基甲酸酯预聚物、或这种氨基甲酸酯预聚物的三聚体等。

作为上述多异氰酸酯化合物，没有特别限定，可以举出例如2,4-甲苯二异氰酸酯、2,5-甲苯二异氰酸酯、1,3-苯二亚甲基二异氰酸酯、1,4-苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二异氰酸酯、3-甲基二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二环己基甲烷-4,4'-二异氰酸酯、二环己基甲烷-2,4'-二异氰酸酯、赖氨酸异氰酸酯等。

作为上述交联剂的含量，因上述交联剂的种类而异，例如，相对于上述粘合剂100质量份，可以设定在0.5～10.0质量份的范围内。

上述粘合剂层可以进一步含有金属螯合剂。

作为上述粘合剂层中使用的金属螯合剂，其为具有金属元素和盐形成部位的物质，在与上述粘合剂一同使用的情况下，上述金属元素与粘合剂所具有的羧基等螯合键合，由此能够进行交联。

作为这种金属螯合剂的具体例，可以举出例如异丙酸铝、丁酸铝、乙酸铝、乙酰乙酸乙酯铝、乙酰丙酮铝、乙酰丙酮双(乙酰乙酸乙酯)铝、乙酰乙酸烷基酯铝等铝螯合物；二丙氧基双(乙酰丙酮)合钛、二丁氧基双(亚辛基乙醇酸)钛、二丙氧基双(乙酰乙酸乙酯)钛、二丙氧基双(乳酸)钛、二丙氧基双(三乙醇胺)合钛、二正丁氧基双(三乙醇胺)合钛、三正丁氧基单硬脂酸钛、钛酸丁酯二聚物、聚(乙酰丙酮钛)等钛螯合物；四乙酰丙酮锆、单乙酰丙酮锆、双乙酰丙酮锆、乙酰丙酮双(乙酰乙酸乙酯)锆、乙酸锆等锆螯合物；辛酸锌、月桂酸锌、硬脂酸锌、辛酸锡等有机羧酸金属盐；乙酰丙酮锌螯合物、苯甲酰丙酮锌螯合物、二苯甲酰甲烷锌螯合物、乙酰乙酸乙酯锌螯合物等锌螯合物。其中，优选使用异丙酸铝、丁酸铝、乙酸铝、乙酰乙酸乙酯铝、乙酰丙酮铝、乙酰丙酮双(乙酰乙酸乙酯)铝、乙酰乙酸烷基酯铝等铝螯合物。其理由在于，对上述粘合剂进行交联的交联速度容易调整。

作为上述金属螯合剂的含量，因上述金属螯合剂的种类而异，但相对于上述粘合剂100质量份，优选在0.06～0.50质量份的范围内。若比上述范围少，则形成上述粘合剂层时的交联速度慢，生产性有可能下降；另一方面，即使在比上述范围多的情况下，效果也没有变化，材料费的成本上升。

上述粘合剂层可以含有其他添加剂。

作为上述其他添加剂，可以举出例如抗氧化剂、紫外线吸收剂等。

另外，上述粘合剂为使构成丙烯酸系粘合剂的丙烯酸酯和其他单体这样的、通过光照射而固化的感光性单体成分聚合而形成的感光性粘合剂，涂布上述含有感光性单体成分的粘合剂后，在通过紫外线或可见光的照射使其聚合、固化而形成粘合剂层的情况下，在上述粘合剂中添加光聚合引发剂。

作为上述粘合剂层的膜厚，通常为3～200μm的范围内，其中，优选为4～100μm的范围内、特别优选为5～50μm的范围内。

作为上述粘合剂层的形成方法，例如可以使用将粘合剂层形成材料涂布至基材上的方法、将粘合剂层转印至基材上的方法、对粘合剂层的构成材料和基板的构成材料进行熔融共挤出而进行成形的方法、通过挤出等将粘合剂层的构成材料和基板的构成材料分别成形为膜状后进行粘接的方法；等等。其中，从能够平滑性良好地形成粘合剂层的观点出发，优选使用将粘合剂层形成材料涂布至基材上的方法。

另外，上述带粘合层的膜在形成后述的图案化的透明导电层之后被剥离，其剥离强度优选为10～500mN/25mm。若小于10mN/25mm，则在本发明的层叠体的制造过程中带粘合层的膜有时会剥离；若超过500mN/25mm，则有时无法从低接触角层剥离。需要说明的是，在上述透明导电层为如后所述在溅射处理后实施加热处理而结晶化的透明导电层的情况下，上述带粘合层的膜优选在实施上述加热处理而使导电层结晶化后、或在之后的工序中结束加热处理后等任意一个后工序中被剥离。

另外，对于后述的含有导电性纤维状填料等的透明导电层也同样，上述带粘合层的膜优选在为了实现低电阻化而进行的加热、作为后工序的对银浆进行煅烧后的任意一个工序中被剥离。

上述带粘合层的膜向上述低接触角层的粘贴优选借助上述带粘合层的膜的粘合层来进行。由于本发明的层叠体具有上述的低接触角层，因此在上述带粘合层的膜剥离后不会产生低接触角层的表面的粘接性下降。

本发明的层叠体在基材膜的一个面上具有一层以上的光学功能层。

作为上述一层以上的光学功能层，可以举出现有公知的任意的光学功能层，具体而言，可以举出例如硬涂层、低折射率层、高折射率层、防污层、抗静电层和防眩层等。

其中，优选具有选自由硬涂层、高折射率层和低折射率层组成的组中的至少一层。

在本发明的层叠体中，关于上述一层以上的光学功能层，从可以实现如后所述图案化的透明导电层的不可视化的观点出发，更优选在基材膜上依次层叠有高折射率层、低折射率层。

另外，关于上述一层以上的光学功能层，进一步优选在上述基材膜上依次形成有硬涂层、高折射率层和低折射率层。通过具有这种构成的光学功能层，可以实现透明导电层的不可视化，并且可以对本发明的层叠体赋予硬涂性。

上述硬涂层中，由基于JIS K5600-5-4(1999)的铅笔硬度试验(负荷4.9N)得到的铅笔硬度优选为F以上、更优选为H以上。

上述硬涂层为确保本发明的层叠体的硬涂性的层，优选为例如使用含有作为利用紫外线进行固化的树脂的电离放射线固化型树脂和光聚合引发剂的硬涂层用组合物而形成的硬涂层。

作为上述电离放射线固化型树脂，可以举出例如具有丙烯酸酯系官能团的化合物等具有1个或2个以上不饱和键的化合物。作为具有1个不饱和键的化合物，可以举出例如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作为具有2个以上不饱和键的化合物，可以举出例如聚羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等；以及上述化合物经环氧乙烷(EO)等改性而得到的多官能化合物，或者上述多官能化合物与(甲基)丙烯酸酯等的反应产物(例如多元醇的多(甲基)丙烯酸酯)；等等。

除了上述化合物以外，还可以使用具有不饱和双键的分子量比较低(数均分子量300～8万、优选为400～5000)的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸系树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、多硫醇-多烯树脂等作为上述电离放射线固化型树脂。需要说明的是，这种情况下的树脂包含单体之外的所有二聚物、低聚物、聚合物。

作为本发明中的优选的化合物，可以举出具有三个以上的不饱和键的化合物。若使用这种化合物，则可以提高所形成的硬涂层的交联密度，可以使涂膜硬度良好。

具体而言，在本发明中，优选适当地组合使用季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、聚酯多官能丙烯酸酯低聚物(3～15官能)、氨基甲酸酯多官能丙烯酸酯低聚物(3～15官能)等。

上述电离放射线固化型树脂也可以与溶剂干燥型树脂一同使用。通过合用溶剂干燥型树脂，能够有效地防止涂布面的覆膜缺陷。需要说明的是，上述溶剂干燥型树脂是指热塑性树脂等、仅通过使在涂布时为了调整固体成分而添加的溶剂干燥就能够形成覆膜的树脂。

作为能够与上述电离放射线固化型树脂合用的溶剂干燥型树脂没有特别限定，通常可以使用热塑性树脂。

作为上述热塑性树脂没有特别限定，可以举出例如苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、乙酸乙烯酯系树脂、乙烯基醚系树脂、含卤素的树脂、脂环式烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、纤维素衍生物、有机硅系树脂和橡胶或弹性体等。上述热塑性树脂优选为非结晶性且可溶于有机溶剂(特别是能够溶解两种以上的聚合物和固化性化合物的通用溶剂)。特别是从成膜性、透明性和耐候性的观点出发，优选苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、脂环式烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素衍生物(纤维素酯类等)等。

另外，上述硬涂层用组合物可以含有热固性树脂。

作为上述热固性树脂没有特别限定，可以举出例如酚树脂、脲树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、三聚氰胺树脂、胍胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氨基醇酸树脂、三聚氰胺-脲醛共缩合树脂、硅树脂、聚硅氧烷树脂等。

作为上述光聚合引发剂没有特别限定，可以使用公知的光聚合引发剂，作为具体例，可以举出苯乙酮类、二苯甲酮类、米氏苯甲酰苯甲酸酯、α-戊肟酯、噻吨酮类、苯丙酮类、联苯酰类、苯偶姻类、酰基氧化膦类。另外，优选混合使用光敏剂，作为其具体例，可以举出例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。

作为上述光聚合引发剂，在上述电离放射线固化型树脂为具有自由基聚合性不饱和基的树脂系的情况下，优选单独使用或混合使用苯乙酮类、二苯甲酮类、噻吨酮类、苯偶姻、苯偶姻甲醚等。另外，在上述电离放射线固化型树脂为具有阳离子聚合性官能团的树脂系的情况下，作为上述光聚合引发剂，优选单独或以混合物的形式使用芳香族重氮盐、芳香族锍盐、芳香族碘鎓盐、茂金属化合物、苯偶姻磺酸酯等。

在具有自由基聚合性不饱和基的电离放射线固化型树脂的情况下，作为本发明中使用的引发剂，基于与电离放射线固化型树脂的相容性以及黄变少的理由，优选1-羟基-环己基-苯基-酮。

关于上述硬涂层用组合物中的上述光聚合引发剂的含量，相对于上述电离放射线固化型树脂100质量份，优选为1～10质量份。其原因在于，若少于1质量份，则有时无法使第1本发明的层叠体中的硬涂层的硬度为上述范围；若超过10质量份，则电离放射线无法到达所涂设的膜的深部，无法促进内部固化，有可能无法得到作为目标的硬涂层表面的铅笔硬度F以上的硬度。

上述光聚合引发剂的含量的更优选的下限为2质量份、更优选的上限为8质量份。通过使上述光聚合引发剂的含量在该范围内，在厚度方向上不会产生硬度分布，容易形成均匀的硬度。

上述硬涂层用组合物可以含有与上述的低接触角层形成用组合物同样的溶剂。

特别是在本发明中，基于与树脂的相容性、涂布性优异的理由，优选至少含有上述溶剂中作为酮系溶剂的甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮中的任一种或它们的混合物。

作为上述硬涂层用组合物中的原料的含有比例(固体成分)没有特别限定，通常为5～70质量％、特别优选为15～60质量％。

上述硬涂层用组合物中，可以根据提高硬涂层的硬度、抑制固化收缩、防止粘连、控制折射率、赋予防眩性、改变颗粒或硬涂层表面的性质等目的而添加现有公知的有机/无机微粒、分散剂、表面活性剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、增稠剂、防着色剂、着色剂(颜料、染料)、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、赋粘剂、阻聚剂、抗氧化剂、表面改性剂等。

另外，上述硬涂层用组合物可以混合使用光敏剂，作为其具体例，可以举出例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。

作为上述硬涂层用组合物的制备方法，只要能够将各成分均匀混合则没有特别限定，例如可以使用涂料振荡机、珠磨机、捏合机、混合机等公知的装置。

另外，作为将上述硬涂层用组合物涂布在上述基材膜上的方法没有特别限定，可以举出例如旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂法、棒涂法、辊涂法、弯月面涂布法、柔性版印刷法、丝网印刷法、液滴涂布法等公知的方法。

在上述基材膜上涂布上述硬涂层用组合物而形成的涂膜优选根据需要进行加热和/或干燥，通过活性能量射线照射等使其固化。

作为上述活性能量射线照射，可以举出利用紫外线或电子射线的照射。作为上述紫外线源的具体例，可以举出例如超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、黑光荧光灯、金属卤化物灯等光源。另外，作为紫外线的波长，可以使用190～380nm的波长范围。作为电子射线源的具体例，可以举出考克罗夫特-瓦尔顿(Cockcroft-Walton)型、范德格拉夫型、共振变压器型、绝缘芯变压器型、或者直线型、地那米(Dynamitron)型、高频型等的各种电子射线加速器。

需要说明的是，上述硬涂层的优选的厚度(固化时)为0.5～15μm、更优选为0.8～10μm；由于防翘曲性和防裂纹性特别优异，因此最优选1.5～8μm的范围。上述硬涂层的厚度是利用电子显微镜(SEM、TEM、STEM)对截面进行观察、并测定任意10点而得到的平均值(μm)。关于硬涂层的厚度，作为其他方法，也可以使用作为厚度测定装置的三丰公司制造的数显千分表IDF-130测定任意10个点，并求出平均值。

本发明的层叠体具有如后所述图案化的透明导电层，其为用于静电容量式的触控面板的部件，因此对于上述图案化的透明导电层有不可视化等的要求。作为上述图案化的透明导电层的不可视化的手段，可以举出依次层叠高折射率层、低折射率层作为上述光学功能层的方法，但为了适应该透明导电层和触控面板，要求严密的光学特性，并且要求厚度和折射率的严密的控制。具体而言，上述高折射率层优选厚度为10～100nm、屈折率为1.55～1.75；上述低折射率层优选厚度为10～100nm、折射率为1.35～1.55。上述高折射率层和上述低折射率层的厚度更优选为10～70nm。

作为形成上述高折射率层的方法，可大致分为湿法和干法。湿法在生产效率方面优异。

作为湿法，可以举出使用金属醇盐等利用溶胶凝胶法来形成的方法、涂布在粘合剂树脂中含有高折射率颗粒的组合物来形成的方法。作为干法，可以举出下述方法：从后述的高折射率颗粒中选择具有所期望的折射率的材料，利用物理气相生长法或化学气相生长法来形成。

作为形成上述低折射率层的方法，可大致分为湿法和干法。湿法在生产效率方面优异。

作为湿法，与高折射率层同样，可以举出使用金属醇盐等利用溶胶凝胶法来形成的方法、涂布氟树脂这样的低折射率的粘合剂来形成的方法、涂布使粘结剂树脂含有低折射率颗粒而得到的组合物来形成的方法。作为干法，可以举出下述方法：从后述的低折射率颗粒中选择具有所期望的折射率的颗粒，利用物理气相生长法或化学气相生长法来形成。

本发明的层叠体中，上述硬涂层、高折射率层和低折射率层各自的折射率优选满足下述式(1)的关系。通过满足下述式(1)，可以适当地实现形成于上述低折射率层上的透明导电层的不可视化。

高折射率层的折射率＞硬涂层的折射率＞低折射率层的折射率 (1)

作为上述高折射率层没有特别限定，可以举出现有公知的高折射率层，例如可以使用在上述硬涂层中所说明的树脂和溶剂中含有高折射率微粒的组合物来形成。

作为上述高折射率微粒，例如优选使用折射率为1.50～2.80的金属氧化物微粒等。作为上述金属氧化物微粒，具体地说，可以举出例如二氧化钛(TiO₂、折射率：2.71)、氧化锆(ZrO₂、折射率：2.10)、氧化铈(CeO₂、折射率：2.20)、氧化锡(SnO₂、折射率：2.00)、锑锡氧化物(ATO、折射率：1.75～1.95)、铟锡氧化物(ITO、折射率：1.95～2.00)、磷锡氧化物(PTO、折射率：1.75～1.85)、氧化锑(Sb₂O₅、折射率：2.04)、铝锌氧化物(AZO、折射率：1.90～2.00)、镓锌氧化物(GZO、折射率：1.90～2.00)和锑酸锌(ZnSb₂O₆、折射率：1.90～2.00)等。其中，氧化锡(SnO₂)、锑锡氧化物(ATO)、铟锡氧化物(ITO)、磷锡氧化物(PTO)、氧化锑(Sb₂O₅)、铝锌氧化物(AZO)、镓锌氧化物(GZO)和锑酸锌(ZnSb₂O₆)为导电性金属氧化物，具有下述优点：通过控制微粒的扩散状态、形成导电通路，可以赋予抗静电性。

另外，从耐光性等耐久稳定性的观点出发，优选氧化锆(ZrO₂)。

作为上述低折射率层，优选由1)含有二氧化硅或氟化镁的树脂、2)作为低折射率树脂的氟系树脂、3)含有二氧化硅或氟化镁的氟系树脂、4)二氧化硅或氟化镁的薄膜等中的任一者构成。关于氟系树脂以外的树脂，可以使用与上述硬涂层中使用的树脂相同的树脂。

另外，上述二氧化硅优选为实心二氧化硅微粒或中空二氧化硅微粒。

作为上述氟系树脂，可以使用至少在分子中含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作为聚合性化合物没有特别限定，例如优选具有利用电离放射线进行固化的官能团、进行热固化的极性基团等固化反应性基团的聚合性化合物。另外，也可以为同时具有这些反应性基团的化合物。与该聚合性化合物相对，聚合物是指完全不具有上述反应性基团的物质。

作为上述具有利用电离放射线进行固化的官能团的聚合性化合物，可以广泛地使用具有烯键式不饱和键的含氟单体。更具体而言，可以例示氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-间二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的含氟单体，还有：在分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物，如2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯之类；含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，其在分子中含有至少具有3个氟原子的碳原子数为1～14的氟代烷基、氟代环烷基或氟代亚烷基和至少2个(甲基)丙烯酰氧基；等等。

作为上述进行热固化的极性基团，优选例如为羟基、羧基、氨基、环氧基等氢键形成基团。这些基团不仅与涂膜的密合性优异，而且与二氧化硅等无机超微粒的亲和性也优异。作为具有热固化性极性基团的聚合性化合物，可以举出例如4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烃系乙烯基醚共聚物；环氧树脂、聚氨酯树脂、纤维素树脂、酚树脂、聚酰亚胺树脂等各树脂的氟改性物等。

作为上述同时具有利用电离放射线进行固化的官能团和进行热固化的极性基团的聚合性化合物，可以例示丙烯酸或甲基丙烯酸的部分和完全氟代烷基酯类、链烯基酯类、芳基酯类、完全或部分氟化乙烯基醚类、完全或部分氟化乙烯基酯类、完全或部分氟化乙烯基酮类等。

另外，作为氟系树脂，可以举出例如下述物质。

包含至少一种上述具有电离放射线固化性基团的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的单体或单体混合物的聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少一种与在分子中不含有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物(如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基已酯之类)的共聚物；含氟单体(如氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之类)的均聚物或共聚物；等等。还可以使用在这些共聚物中含有硅氧烷成分的含硅氧烷偏二氟乙烯共聚物。作为这种情况下的硅氧烷成分，可以例示：(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基的(聚)二甲基硅氧烷、二甲基硅氧烷、苯基甲基硅氧烷、烷基/芳烷基改性硅氧烷、氟硅氧烷、聚醚改性硅氧烷、脂肪酸酯改性硅氧烷、含氢甲基硅氧烷、含硅烷醇基硅氧烷、含烷氧基硅氧烷、含苯酚基硅氧烷、甲基丙烯酸改性硅氧烷、丙烯酸改性硅氧烷、氨基改性硅氧烷、羧酸改性硅氧烷、甲醇改性硅氧烷、环氧改性硅氧烷、巯基改性硅氧烷、氟改性硅氧烷、聚醚改性硅氧烷等。其中优选具有二甲基硅氧烷结构的硅氧烷成分。

此外，还可以使用由如下化合物构成的非聚合物或聚合物作为氟系树脂。即，使在分子中具有至少1个异氰酸酯基的含氟化合物与在分子中具有至少1个与异氰酸酯基反应的官能团(如氨基、羟基、羧基之类)的化合物发生反应而得到的化合物；使含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己内酯改性多元醇之类的含氟多元醇与具有异氰酸酯基的化合物发生反应而得到的化合物等。

另外，还可以将如上所述的各树脂与上述的具有氟原子的聚合性化合物或聚合物一同混合使用。此外，还可以适当地使用用于使反应性基团等固化的固化剂；用于提高涂布性、赋予防污性的各种添加剂、溶剂。

在上述低折射率层的形成中，优选使添加低折射率剂和树脂等而得到的低折射率层用组合物的粘度为可得到优选的涂布性的0.5～5mPa·s(25℃)、优选为0.7～3mPa·s(25℃)的范围。能够实现可见光线优异的防反射性层，能够均匀地形成无涂布不均的薄膜，并且能够形成密合性特别优异的低折射率层。

构成上述低折射率层的树脂的固化手段可以与上述硬涂层中的固化手段相同。在为了进行固化处理而利用加热手段的情况下，优选向氟系树脂组合物中添加热聚合引发剂，该热聚合引发剂通过加热产生例如自由基，从而引发聚合性化合物的聚合。

作为上述基材膜没有特别限定，可以举出例如聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂、芳香族聚醚酮系树脂等。其中优选使用聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚烯烃系树脂。

作为用于上述基材膜的聚烯烃系树脂，可以举出例如以聚乙烯、聚丙烯、环状烯烃等中的至少一种作为构成成分的基材。作为上述环状聚烯烃，可以举出例如具有降冰片烯骨架的环状聚烯烃。

作为上述聚碳酸酯系树脂，可以举出例如以双酚类(双酚A等)为基础的芳香族聚碳酸酯、二乙二醇双烯丙基碳酸酯等脂肪族聚碳酸酯等。

作为上述(甲基)丙烯酸系树脂，可以举出例如聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物等。

作为上述聚酯系树脂，可以举出例如以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)中的至少一种作为构成成分的基材。

作为上述芳香族聚醚酮系树脂，可以举出例如聚醚醚酮(PEEK)等。

在本发明中，上述基材膜的厚度没有特别限定，可以为5～300μm，从处理性、防止产生于上述层叠体的褶皱或扭曲等观点出发，厚度优选为10μm以上，从薄膜化的观点出发，优选为200μm以下。

上述基材膜的厚度的更优选的下限为15μm、更优选的上限为125μm。

上述基材膜可以预先对表面实施了溅射、电晕放电、紫外线照射、电子射线照射、化学合成、氧化等蚀刻处理或底涂处理。通过预先实施这些处理，能够提高上述基材膜与形成于其上的硬涂层、单官能单体的固化层的密合性。另外，在形成硬涂层、固化层之前，可以根据需要通过溶剂清洗、超声波清洗等将基材膜表面进行了除尘、清洁化。

本发明的层叠体为下述构成：在基材膜的一个面上具有一层以上的光学功能层，在该基材膜的另一个面上具有低接触角层；从赋予制造时的防翘曲性、防裂纹性、防损伤性的观点出发，优选在上述低接触角层侧赋予有硬涂性能。

作为赋予上述硬涂性能的方法，可以适当举出例如向上述低接触角层赋予硬涂性能的方法、或在上述低接触角层与基材膜之间形成硬涂层的方法。

作为上述向低接触角层赋予硬涂性能的方法，可以举出例如下述方法：在低接触角层用组合物中添加与上述硬涂用组合物同样的电离放射线固化型树脂和光聚合引发剂，在上述基材膜上涂布、干燥后，进行紫外线等活性能量射线照射，从而形成上述低接触角层。

作为上述在低接触角层与基材膜之间形成硬涂层的方法，可以举出例如下述方法：利用与形成作为上述光学功能层的硬涂层的方法同样的方法，在上述基材膜的面上形成硬涂层，进一步在该硬涂层的与基材膜相反的一侧的面上形成上述低接触角层。

从可以适当赋予防翘曲性的观点出发，上述形成于低接触角层与基材膜之间的硬涂层的厚度优选为与上述作为光学功能层的硬涂层相同程度的厚度。

需要说明的是，“相同程度的厚度”是指下述情况：上述低接触角层与基材膜之间的硬涂层的厚度与上述作为光学功能层的硬涂层的厚度之差为1.0μm以下。

本发明的层叠体是为了在上述光学功能层的与上述基材膜侧相反的一侧的面上形成图案化的透明导电层而使用的。

作为上述透明导电层没有特别限定，可以举出例如含有金属氧化物的透明导电层、含有导电性纤维状填料的透明导电层等。

作为上述含有金属氧化物的透明导电层，可以举出例如含有铟锡氧化物(ITO)、氧化锌(ZnO)、铝锌氧化物(AZO)、镓锌氧化物(GZO)、氧化锡(SnO₂)、氧化铟(In₂O₃)、氧化钨(WO₃)等的膜，其中，优选铟锡氧化物(ITO)。

上述含有金属氧化物的透明导电层的厚度没有特别限制，为了形成使其表面电阻为200Ω/□以下的具有良好导电性的连续覆膜，需要一定程度的厚度，但若厚度过厚，则会导致透明性下降等，因此，上述厚度的优选的下限为15nm、优选的上限为45nm，更优选的下限为20nm、更优选的上限为40nm。若厚度小于15nm，则表面电阻变高，并且难以形成连续覆膜。另外，若超过45nm，则有时会导致透明性下降等。

上述含有金属氧化物的透明导电层可以通过溅射处理来形成，在该溅射处理后，优选在150℃、60分钟的条件下实施加热处理而使透明导电层结晶化。

通过使上述透明导电层结晶化，可以使透明导电层低电阻化，除此之外，还可提高透明性和耐久性。

需要说明的是，作为对通过上述溅射处理而形成的透明导电层进行图案化的方法，可以举出公知的蚀刻法等。上述透明导电层的加热处理可以在透明导电层的图案化之前，也可以在透明导电层的图案化之后。

在上述层叠体的光学功能层的与基材膜侧相反的一侧的面上形成有图案化的透明导电层的导电性层叠体也是本发明之一。

在上述含有导电性纤维状填料的透明导电层中，其厚度只要能够得到导电性能则没有特别限定，但在考虑到导通的情况下，优选导电性纤维状填料局部存在于层内的任意一处。通过使上述导电性纤维状填料在层内局部存在，不仅导通变得良好，而且纤维含量为最低限度即可，能够提高全光线透射率、降低雾度。

本发明的层叠体的雾度值的优选的上限为5％、更优选的上限为1.5％、进一步优选的上限为1％，全光线透射率的优选的下限为80％、更优选的下限为90％。

需要说明的是，上述雾度值为内部雾度值与表面雾度值的合计，为根据JIS K-7136测定得到的值。作为测定中使用的仪器，可以举出反射透射率计HM-150(村上色彩技术研究所)。

另外，上述全光线透射率为根据JIS K-7361测定得到的值。作为测定中使用的仪器，可以举出反射透射率计HM-150(村上色彩技术研究所)。

另外，从能够进一步降低导电性层叠体的电阻值的观点出发，更优选上述导电性纤维状填料局部存在于层的表面附近。

在上述含有导电性纤维状填料的透明导电层中，其厚度优选小于导电性纤维状填料的纤维径。若上述透明导电层的厚度为导电性纤维状填料的纤维径以上，则粘合剂树脂进入导电性纤维状填料的接点的量变多，导通劣化，有时无法得到目标电阻值。

作为上述含有导电性纤维状填料的透明导电层的厚度，具体而言，优选为10～200nm左右。若上述透明导电层的厚度小于10nm，则在该透明导电层形成时在涂布透明导电层用组合物时会产生未涂布的区域，在利用后述的转印法形成上述透明导电层的情况下，有时无法转印上述透明导电层。另一方面，若超过200nm，则需要使导电性纤维状填料的纤维径变粗而超过后述的优选范围，因此导电性层叠体的雾度上升，全光线透射率有时会下降，在光学方面是不适当的。

上述含有导电性纤维状填料的透明导电层的厚度更优选为50nm以下、进一步优选为30nm以下。

需要说明的是，上述透明导电层的厚度例如可以如下求出：使用SEM、STEM、TEM等电子显微镜，以1000～50万倍对上述透明导电层的截面进行观察，并测定厚度，以10个部位的平均值的形式求出上述透明导电层的厚度。

上述导电性纤维状填料优选纤维径为200nm以下、纤维长为1μm以上。

若上述纤维径超过200nm，则有时导电性层叠体的雾度值会变高或者透光性能不充分。从透明导电层的导电性的观点出发，上述导电性纤维状填料的纤维径的优选的下限为10nm，上述纤维径的更优选的范围为15～180nm。

另外，若上述导电性纤维状填料的纤维长小于1μm，则有时无法形成具有充分的导电性能的透明导电层，有可能产生聚集而导致雾度值的上升或透光性能的下降，因此上述纤维长的优选的上限为500μm，上述纤维长的更优选的范围为3～300μm、进一步优选的范围为10～30μm。

需要说明的是，上述导电性纤维状填料的纤维径、纤维长例如可以如下求出：使用SEM、STEM、TEM等电子显微镜，以1000～50万倍对上述导电性纤维状填料的纤维径和纤维长进行测定，以10个部位的平均值的形式求出上述导电性纤维状填料的纤维径、纤维长。

作为这样的导电性纤维状填料，优选为选自由导电性碳纤维、金属纤维和金属被覆合成纤维组成的组中的至少一种。

作为上述导电性碳纤维，可以举出例如气相生长法碳纤维(VGCF)、碳纳米管、杯型丝轮(ワイヤーカップ)、丝绒(ワイヤーウォール)等。这些导电性碳纤维可以使用一种或两种以上。

作为上述金属纤维，可以使用例如通过将不锈钢、铁、金、银、铝、镍、钛等拉细、拉长的拉丝法或切削法等制作的纤维。这样的金属纤维可以使用一种或两种以上。这些金属纤维中，从导电性优异的观点出发，优选使用了银的金属纤维。

作为上述使用了银的金属纤维的制造方法，可以举出例如在溶液中对硝酸银、硫酸银等银化合物进行还原的方法等，作为在溶液中对硫酸银进行还原的方法，可以举出在Y.Sun、B.Gates、B.Mayers、&Y.Xia,“Crystalline silver nanowires by soft solutionprocessing”、Nanoletters、(2002)、2(2)165～168中记载的“多元醇”法之后、在聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)的存在下通过溶解于乙二醇中的硫酸银的还原来进行合成的方法等。

作为上述金属被覆合成纤维，可以举出例如在丙烯酸系纤维上被覆金、银、铝、镍、钛等而得到的纤维等。这样的金属被覆合成纤维可以使用一种或两种以上。这些金属被覆合成纤维中，从导电性优异的观点出发，优选使用了银的金属被覆合成纤维。

作为上述导电性纤维状填料的含量，例如相对于构成透明导电层的树脂成分100质量份，优选为20～3000质量份。若小于20质量份，则有时无法形成具有充分的导电性能的透明导电层；若超过3000质量份，则有时导电性层叠体的雾度升高或者透光性能变得不充分。另外，粘合剂树脂进入导电性纤维状填料的接点的量变多，由此使透明导电层的导通劣化，本发明的导电性层叠体有时无法得到目标电阻值。上述导电性纤维状填料的含量的更优选的下限为50质量份、更优选的上限为1000质量份。

上述导电性纤维状填料的一部分优选从上述透明导电层的表面突出。

在通过使用了转印膜的转印法来制造本发明的导电性层叠体的情况下，以使上述透明导电层侧的一面与被转印物相对的方式层叠并施加按压；由于上述导电性纤维状填料从透明导电层的与基材膜侧相反的一侧的表面(即透明导电层的按压到被转印物上的面)突出，该突出的导电性纤维状填料以埋入被转印物的状态被转印，结果，所得到的导电性层叠体的耐溶剂性提高，可以利用蚀刻法等适当地进行导电图案的形成等。另外，导电性层叠体的耐擦伤性也优异。

上述导电性纤维状填料的一部分优选从上述透明导电层的表面以5～600nm的范围突出。在本发明中，从上述透明导电层的表面的未突出有导电性纤维状填料的平坦部位到突出的导电性纤维状填料的前端为止的垂直距离的范围优选为5～600nm。若上述垂直距离小于5nm，则导电性层叠体的耐溶剂性有时不会提高；若超过600nm，则导电性纤维状填料有时会从透明导电层脱落。上述垂直距离的更优选的下限为10nm、更优选的上限为200nm。

需要说明的是，从上述透明导电层的表面突出的导电性纤维状填料的垂直距离例如可以如下求出：使用SEM、STEM、TEM等电子显微镜，以1000～50万倍进行上述透明导电层的表面的观察，测定从上述透明导电层的表面的平坦部位到突出的导电性纤维状填料的前端为止的垂直距离，以10个部位的平均值的形式求出上述垂直距离。

在本发明的导电性层叠体中，上述透明导电层的上述表面中的构成上述导电性纤维状填料的导电材料元素的比例以原子组成百分率计为0.15～5.00at％。若低于0.15at％，则会产生下述不良情况：本发明的导电性层叠体的导电性不充分，或者蚀刻速度变慢。若超过5.00at％，则本发明的导电性层叠体的透光率下降，并且耐擦伤性变差。存在于上述透明导电层表面的构成导电性纤维状填料的导电材料元素的比例的优选的下限为0.20at％、优选的上限为2.00at％，更优选的下限为0.30at％、更优选的上限为1.00at％。

需要说明的是，存在于上述透明导电层表面的构成导电性纤维状填料的导电材料元素的比例可以使用X射线光电子分光分析法，基于以下条件测定。

加速电压：15kV

发射电流：10mA

X射线源：Al双阳极

测定面积：

测定自表面起深度10nm

n＝3次的平均值

需要说明的是，具有这种表面的透明导电层优选在该表面形成有凹凸形状，该凹凸形状起因于导电性纤维状填料，并且为可以实现耐溶剂性、耐擦伤性、低雾度值以及高透光率的程度的凹凸形状。

作为本发明的导电性层叠体的制造方法，可以举出例如：通过通常的涂布法在基材膜上层叠透明导电性层的方法；进一步在其上以形成目标电阻值的水平层叠外涂层的方法；具有转印工序的方法，该转印工序中，使用在基材膜上至少具有上述导电性层的转印膜，将上述导电性层转印至被转印物；等等。在进一步降低导电性层叠体的电阻值的情况下，优选通过具有将上述导电性层转印至被转印物的转印工序的方法来制造。

在上述转印工序中，使用在基材膜上至少具有导电性层的转印膜。

作为上述被转印物，只要为能够设置导电性层的部件则没有特别限定，可以举出例如由玻璃、树脂、金属、陶瓷等任意材料构成的基材；在这些基材上形成的树脂层、粘合层等被转印层；等等。

本发明的层叠体可以用于电视机、计算机等的显示器显示。特别是能够适合用于LCD、有机/无机LED、PDP、电子纸等高精细图像用显示器或触控面板的表面。

其中，在上述层叠体的光学功能层的与基材膜侧相反的一侧的面上形成有图案化的透明导电层的本发明的导电性层叠体能够适合用于静电容量式的触控面板。这种使用了本发明的导电性层叠体的触控面板也是本发明之一。本发明的触控面板优选为静电容量式的触控面板。

发明效果

本发明的层叠体包含上述构成，因此，即使在将带粘合层的膜贴合至基材膜的与透明导电层侧相反的一侧的面并实施加热处理、然后将该带粘合层的膜剥离的情况下，也可适当地防止贴合过该带粘合层的膜的面的水接触角增大而导致粘接性下降。

具体实施方式

通过下述实施例对本发明的内容进行说明，但本发明的内容并不限定于这些实施方式来进行解释。需要说明的是，只要没有特別声明，在本实施例中，“份”和“％”分别表示“质量份”和“质量％”。

(实施例1)

在厚度为100μm的双轴拉伸聚酯膜(东洋纺公司制、A4300；带底涂层)的一个面上(底涂层上)，使用下述配方的硬涂层组合物，按照干燥后的厚度为2.0μm的方式进行涂布，形成硬涂层。

接着，使用下述配方的高折射率层用组合物以及低折射率层用组合物，在双轴拉伸聚酯膜的硬涂层上依次形成高折射率层(厚度50nm、折射率1.68)以及低折射率层(厚度30nm、折射率1.48)。

需要说明的是，由硬涂层、高折射率层和低折射率层构成的光学功能层的干燥条件均为70℃、60秒。另外，将硬涂层用组合物的涂膜、高折射率层用组合物的涂膜和低折射率层用组合物的涂膜分别干燥后，分别进行紫外线照射(150mJ/cm²)。

另外，在上述双轴拉伸聚酯膜的另一个面上，涂布下述配方的低接触角层用组合物1而形成涂膜，在70℃、60秒的条件下进行干燥，由此得到了在双轴拉伸聚酯膜的另一个面上设置有厚度为20nm的低接触角层的层叠体。

<硬涂层用组合物>

二季戊四醇六丙烯酸酯(重均分子量580、双键当量100) 50份

光聚合引发剂(BASF公司制、Irgacure184) 2份

甲基异丁基酮 200份

＜高折射率层用组合物＞

＜低折射率层用组合物＞

＜低接触角层用组合物1＞

丙烯酸系聚合物溶液(重均分子量16万、双键当量1000、固体成分25％)

16份

甲基异丁基酮 1000份

(实施例2)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物2，涂布该低接触角层用组合物2，按照干燥后的厚度为2.0μm的方式形成涂膜后，在70℃、60秒的条件下进行干燥，进行紫外线照射(150mJ/cm²)，形成低接触角层，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物2>

丙烯酸系聚合物溶液(重均分子量16万、双键当量1000、固体成分25％) 16份

二季戊四醇六丙烯酸酯(重均分子量580、双键当量100) 4份

光聚合引发剂(BASF公司制、Irgacure127) 0.8份

甲基异丁基酮 30份

(实施例3)

与实施例1同样地形成光学功能层后，在上述双轴拉伸聚酯膜的另一个面上涂布上述硬涂层用组合物，按照干燥后的厚度为2.0μm的方式形成涂膜后，进行该涂膜的干燥和紫外线照射，形成硬涂层(折射率1.52)。需要说明的是，涂膜的干燥条件为70℃、60秒，紫外线的照射量设定为150mJ/cm²。接着，使用低接触角层用组合物1，在形成于双轴拉伸聚酯膜的另一个面上的硬涂层上，按照厚度为20nm的方式形成低接触角层。在70℃、60秒的条件下对涂布低接触角层用组合物1而形成的涂膜进行干燥，得到层叠体。

(实施例4)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物3，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

＜低接触角层用组合物3＞

丙烯酸系聚合物(重均分子量9100、双键当量1000) 16份

甲基异丁基酮 1000份

(实施例5)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物4，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物4>

丙烯酸系聚合物(重均分子量59400、双键当量425) 16份

甲基异丁基酮 1000份

(实施例6)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物5，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物5>

丙烯酸系聚合物(重均分子量15400、双键当量265) 16份

甲基异丁基酮 1000份

(实施例7)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物6，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物6>

丙烯酸系聚合物(重均分子量75800、双键当量230) 16份

甲基异丁基酮 1000份

(实施例8)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物7，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物7>

丙烯酸系聚合物(重均分子量63000、双键当量200) 16份

甲基异丁基酮 1000份

(实施例9)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物8，在与实施例1同样的条件下进行涂膜的干燥后，对该干燥后的涂膜进行紫外线照射(150mJ/cm²)，形成低接触角层，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物8>

二季戊四醇六丙烯酸酯(重均分子量580、双键当量100) 50份

光聚合引发剂(BASF公司制、Irgacure184) 2份

甲基异丁基酮 3000份

(比较例1)

将实施例1的低接触角层用组合物1变更为下述配方的低接触角层用组合物9，涂布该低接触角层用组合物9，按照干燥后的厚度为20nm的方式形成涂膜后，在70℃、60秒的条件下进行干燥，进行紫外线照射(150mJ/cm²)，形成低接触角层，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物9>

(比较例2)

将实施例2的低接触角层用组合物2变更为下述配方的低接触角层用组合物10，除此之外，与实施例2同样地得到层叠体。

<低接触角层用组合物10>

(比较例3)

将低接触角层用组合物1变更为上述低接触角层用组合物9，除此之外，与实施例3同样地得到层叠体。

(参考例1)

将低接触角层用组合物1变更为上述低接触角层用组合物9，除此之外，与实施例1同样地得到层叠体。

如下进行实施例、比较例和参考例中得到的层叠体的物性测定和评价。将各自的结果示于表1。

(润湿张力)

在厚度为125μm的上述双轴拉伸聚酯膜上形成粘合层，得到带粘合层的膜。

作为形成上述粘合层的粘合剂，使用下述粘合剂溶剂：使用丙烯酸系粘合剂(综研化学公司制：SKDyne1811L(固体成分23％))和异氰酸酯系交联剂(综研化学公司制：TD75(固体成分75％))，按照丙烯酸系粘合剂:异氰酸酯系交联剂＝100:1(质量比)进行混合，按照固体成分为20％(质量基准)的方式溶解在溶剂(乙酸乙酯)中，得到上述粘合剂溶剂。将该粘合剂溶液涂布在上述双轴拉伸聚酯膜上，在100℃下干燥1分钟，形成粘合层(厚度15μm)。进一步，在粘合层的面上贴合能够再剥离的脱模膜进行保护。

上述带粘合层的膜在将上述脱模膜剥离后使用。

对于实施例和比较例中得到的层叠体，基于JIS K 6768(1999)测定了粘贴上述带粘合层的膜之前的低接触角层的表面的润湿张力(初期)和在150℃、60分钟的条件下加热后将上述带粘合层的膜剥离后的润湿张力(加热后)。

需要说明的是，作为试验用混合液，准备了润湿张力为22.6～73.0mN/m的混合液。

(粘贴性)

对于实施例和比较例中得到的层叠体，利用下述方法测定了在150℃、60分钟的条件下加热后将上述带粘合层的膜剥离后的低接触角层的表面的粘贴性，按照以下基准进行了评价。

在双面胶带(VHB双面胶带Y-4920、住友3M公司制)的一个粘合面上粘贴1mm厚的不锈钢板(宽度25mm以上)，在上述双面胶带的另一个粘合面上，使2kg的辊往返两次来贴合切割为宽25mm、长150mm尺寸的实施例和比较例中得到的层叠体，制成了测定试样。

将测定试样在室温环境下放置72小时后，使用剥离试验机(装置名：小型台式试验机“EZ-LX”、岛津制作所公司制)，基于JIS Z 0237，在拉伸速度300mm/分钟、剥离角度180度的条件下测定剥离强度(N/25mm宽)。

◎：剥离强度为10N/25mm以上

○：剥离强度为5N/25mm以上且小于10N/25mm

×：剥离强度小于5N/25mm

(耐钢丝绒性(耐SW性))

对于实施例和比较例中得到的层叠体，使用#0000号的钢丝绒在规定的摩擦负荷(150g/cm²)下对粘贴上述带粘合层的膜之前的低接触角层的表面进行10次往复摩擦，目视观察之后的涂膜的损伤状态，按照下述基准进行了评价。

◎：无损伤(伤痕为0条)

◎：几乎无损伤(伤痕约为1～9条)

×：明显损伤(伤痕为10条以上或处于有无数带状伤痕的状态)或者涂膜被剥离

(胶粘性)

关于实施例和比较例中的层叠体的粘贴上述带粘合层的膜之前的低接触角层表面的胶粘性(胶粘感)，通过指触按照以下基准进行了评价。

○：无胶粘感(即使使手指接触，手指也不会粘上，即使使手指滑动，也没有不顺畅感的状态)

×：有胶粘感(在指触状态下无法移动，或者即使移动也会有不顺畅感)

如表1所示，关于加热后的粘贴性，在实施例1～5的层叠体中，剥离强度为10N/25mm以上，为良好的结果，在实施例6～9的层叠体中，剥离强度为5N/25mm以上且小于10N/25mm，为稍良好的结果，与此相对，比较例1～3的层叠体的剥离强度小于5N/25mm，与双面胶带的粘贴性劣化。

另外，实施例的层叠体中，关于耐SW性，向低接触角层赋予了硬涂性能的实施例2、以及在基材膜与低接触角层之间设置了硬涂层的实施例3的层叠体没有损伤、特别良好，实施例1、4～9的层叠体几乎没有损伤。

另外，胶粘性在所有实施例的层叠体中均优异。

另外，实施例1～8的层叠体在加热前后的润湿张力之差小、为6mN/m以下。在如此润湿张力之差小的实施例1～8的层叠体中，粘合层的成分向低接触角层的移动少，粘合层的粘合剂成分向低接触角层的移动得到抑制，不仅抑制了粘贴性的下降，还能够抑制给作为光学膜的透光性等光学特性带来不利影响。另外，与实施例1～8的层叠体相比，实施例9的层叠体的润湿张力之差为较大的值，但加热后的润湿张力为30mN/m以上，润湿张力之差为20mN/m以下，因此可以确保所期望的粘贴性能。

需要说明的是，实施例的层叠体的雾度值均为5％以下，全光线透射率均为80％以上。

另一方面，参考例1的层叠体的加热后的润湿张力为30mN/m以上，因此粘贴性的评价良好，但加热前的低接触角层的发粘感大，无法准确测定润湿张力。另外，润湿张力之差为超过20mN/m的较大的值，因此，不仅粘合层的粘合剂成分向低接触角层的移动大，而且初期的润湿张力大，因此其结果是，产生了低接触角层的耐SW性和胶粘性差这样的不良情况，实用上不优选。

另外，对于实施例的层叠体，通过溅射处理形成了含有ITO的透明导电层(厚度20～30μm)，使图案化的透明导电层不可视化，确认了在光学特性方面没有问题。

进一步，将作为光学功能层的硬涂层、和基材膜与低接触角层之间的硬涂层具有相同厚度的实施例3裁切为100mm×100mm，通过溅射处理形成透明导电层后，放置于平面台上，测定4个角中距台最远的距离，结果为5mm以内，防翘曲性也优异。

另一方面，比较例1～3的层叠体中，润湿张力小于30mN/m，无法赋予充分的粘贴性。

另外，参考例1的层叠体中，在进行用于形成透明导电层的溅射处理时，层叠体的卷存在胶粘感，因此发生粘连，无法将层叠体卷起，无法形成透明导电层。

另外，通过实施例9的层叠体与比较例1的层叠体的比较，在低接触角层中不含有流平剂的层叠体粘贴性更优异。

另外，通过与实施例1同样的方法，使用硬涂层用组合物在厚度100μm的双轴拉伸聚酯膜的一个面上形成涂膜，半固化后，利用转印法形成使用了银纳米丝的透明导电层。然后，进行硬涂层的固化，通过与实施例1同样的方法，在上述双轴拉伸聚酯膜的另一个面上形成低接触角层，得到导电性层叠体。对该导电性层叠体进行用于实现透明导电层的低电阻化的加热，结果加热后的润湿张力为30N/m以上、润湿张力之差为20mN/m以下，可以确保所期望的粘贴性能。另外，光学特性也没有问题。

产业实用性

本发明可以提供一种层叠体，该层叠体即使在将带粘合层的膜贴合至基材膜的与透明导电层侧相反的一侧的面并实施加热处理、然后将该带粘合层的膜剥离的情况下，也可适当地防止贴合过该带粘合层的膜的面的水接触角增大而导致粘接性下降。

Claims (12)

1.一种层叠体，该层叠体在基材膜的一个面上具有一层以上的光学功能层，在所述基材膜的另一个面上具有低接触角层，该层叠体是为了在所述光学功能层的与所述基材膜侧相反的一侧的面上形成图案化的透明导电层而使用的层叠体，其特征在于，

将带粘合层的膜粘贴至所述低接触角层的表面，在150℃、60分钟的条件下加热后，将所述带粘合层的膜剥离时，所述低接触角层的表面的由JIS K6768-1999规定的润湿张力为30mN/m以上。

2.如权利要求1所述的层叠体，其中，将带粘合层的膜粘贴之前的低接触角层的表面的由JIS K6768-1999规定的润湿张力与在150℃、60分钟的条件下加热后将所述带粘合层的膜剥离后的所述低接触角层的表面的由JIS K6768-1999规定的润湿张力之差为20mN/m以下。

3.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，具有选自由硬涂层、高折射率层和低折射率层组成的组中的至少一层作为一层以上的光学功能层。

4.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，在基材膜上依次层叠有高折射率层和低折射率层作为一层以上的光学功能层。

5.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，在基材膜上依次层叠有硬涂层、高折射率层和低折射率层作为一层以上的光学功能层。

6.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，低接触角层由未固化的(甲基)丙烯酸系树脂单独构成，或者由含有所述未固化的(甲基)丙烯酸系树脂的组合物构成。

7.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，向基材膜的低接触角层侧赋予了硬涂性能。

8.如权利要求7所述的层叠体，其中，低接触角层具有硬涂性能。

9.如权利要求7所述的层叠体，其中，在低接触角层与基材膜之间具有硬涂层。

10.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，透明导电层含有铟锡氧化物或导电性纤维状填料。

11.一种导电性层叠体，其特征在于，在权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9或10所述的层叠体的光学功能层的与基材膜侧相反的一侧的面上形成有图案化的透明导电层。

12.一种触控面板，其特征在于，具备权利要求11所述的导电性层叠体。