CN105307429A - 一种电子产品外壳及其表面处理工艺 - Google Patents

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本发明涉及一种电子产品外壳及其表面处理工艺,尤其是一种在同一壳体(单一零件)表面呈现两种光泽的电子产品外壳及其表面处理工艺。所述工艺包括:在外壳上喷涂底漆;通过真空镀膜,在所述底漆上镀出镀膜层;在所述镀膜层上喷涂中漆;在所述中漆上喷涂亮光面漆;在所述亮光面漆的局部区域进行遮蔽处理,对经遮蔽处理的亮光面漆进行喷砂处理,在亮光面漆上形成哑光区域。所述外壳应用了所述工艺。本发明可实现一个外壳同时具有亮光区域和哑光区域,从而具有两种光泽。

Description

一种电子产品外壳及其表面处理工艺
技术领域
本发明涉及一种电子产品外壳及其表面处理工艺,尤其是一种在同一壳体(单一零件)表面呈现两种光泽的电子产品外壳及其表面处理工艺。
背景技术
随着消费类电子产品的日新月异,各品牌的产品竞争激烈,消费者对于消费类电子产品的要求也越来越高,除了电子产品的硬件规格(例如处理器、屏幕尺寸与像素、网络制式、相机像素等)外,消费者也非常看重电子产品的外观设计。
以目前的彩色真空镀技术处理工艺为例,一个壳体(塑胶或五金)只能做到一种表面触感(全光面,哑光面),同时壳体只能有单一的外观颜色表现,无法在同一壳体(塑胶或五金)上同时实现全光面和哑光面的金属质感效果。通常要满足这种设计需求,只能将一个壳体(零件)分拆成两个或多个壳体(零件),再将分拆后的壳体(零件)单独进行表面处理,最后组装成整体。
因此,现有制作方式要么效果单一、满足不了市场需求,要么导致产品壳体复杂、增加制造难度、增加模具及物料成本。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种低成本的电子产品外壳的表面处理工艺,该工艺可实现一个外壳同时具有亮光区域和哑光区域,从而具有两种光泽。
为实现上述目的,本发明本发明实施例提供了一种电子产品外壳的表面处理工艺,该工艺包括:
在外壳上喷涂底漆;
通过真空镀膜,在所述底漆上镀出镀膜层;
在所述镀膜层上喷涂中漆;
在所述中漆上喷涂亮光面漆;
在所述亮光面漆的局部区域进行遮蔽处理,对经遮蔽处理的亮光面漆进行喷砂处理,在亮光面漆上形成哑光区域。
本发明实施例还提供一种电子产品外壳,其表面设有喷涂层,该喷涂层包括喷涂在外壳上的底漆、通过真空镀膜盖覆在底漆上的镀膜层、喷涂在镀膜层上的中漆以及喷涂在中漆上的亮光面漆,该亮光面漆的局部区域经喷砂处理而形成哑光区域。
本发明具有以下有益效果:本工艺能实现特定ID效果需求,在一个壳体部件上同时实现光面与哑面金属质感外观效果,同时光哑的分界线清晰明确,光面与哑面无断差衔接,配合造型设计使得产品棱线更加分明。在实现如上效果的同时,此真空镀工艺颜色不受限制,并且能达到行业可靠性验证标准。
附图说明
下面结合附图对本发明作详细的说明:
图1是本发明的具体实施结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。有必要在此指出的是以下实施方式只用于对本发明进行进一步说明,不能理解为对本发明保护范围的限制,该领域的普通技术人员可以根据本发明的实质对以下实施方式作出一些非本质的改进和调整。此外,下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼征之间未构成冲突就可以相互组合。
如图1所示,一种电子产品外壳的表面处理工艺,该工艺包括:
在外壳1上喷涂底漆2;
通过真空镀膜,在所述底漆2上镀出镀膜层3;
在所述镀膜层3上喷涂中漆4;
在所述中漆4上喷涂亮光面漆5;
在所述亮光面漆的局部区域进行遮蔽处理,对经遮蔽处理的亮光面漆进行喷砂处理,在亮光面漆上形成哑光区域51。被遮蔽区域为亮光区域52。
所述底漆2为紫外光固化(UltravioletCuring,UV)漆或聚氨酯(Polyurethane,PU)漆,所述中漆4为UV漆,所述亮光面漆5为紫外光固化漆。
所述真空镀膜采用不连续镀膜技术(NonConductiveVacuumMetalization,NCVM)工艺。
所述底漆2是透明的,所述中漆4是彩色的。
所述底漆2厚度为15-30um,烘烤温度为50±5°,UV能量为600-800mj/cm2
真空镀膜是在真空条件下,将欲镀靶材通过直接加热或间接加热,使之溶解,然后蒸发,或者直接由固体升华为气体,获得足够能量的原子或分子飞向并沉积在底漆2表面,沉积一定厚度的镀膜层3。
所述中漆4厚度为8-10um,烘烤温度为55±5°,紫外光固化能量为500-700mj/cm2
所述亮光面漆5厚度为20-35um,烘烤温度为55±5°,紫外光固化能量为800-1000mj/cm2
在喷砂处理中,所述砂型:锆砂/220#;风力:33磅;时间:12S;距离:10cm。
本发明实施例还提供了一种电子产品外壳,其表面设有喷涂层,该喷涂层包括喷涂在外壳上的底漆、通过真空镀膜盖覆在底漆上的镀膜层、喷涂在镀膜层上的中漆以及喷涂在中漆上的亮光面漆,该亮光面漆的局部区域经喷砂处理而形成哑光区域。本发明实施例提供的电子产品外壳,按上述方法实施例的加工工艺得到。
本发明实施例提供的电子产品可以为手机,平台电脑,以及其他提供具有外壳的移动电子设备。
本工艺能实现特定ID效果需求,在一个壳体部件上同时实现光面与哑面金属质感外观效果,同时光哑的分界线清晰明确,光面与哑面无断差衔接,配合造型设计使得产品棱线更加分明。在实现如上效果的同时,此真空镀工艺颜色不受限制,并且能达到行业可靠性验证标准。

Claims (10)

1.一种电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,该工艺包括:
在外壳上喷涂底漆;
通过真空镀膜,在所述底漆上镀出镀膜层;
在所述镀膜层上喷涂中漆;
在所述中漆上喷涂亮光面漆;
在所述亮光面漆的局部区域进行遮蔽处理,对经遮蔽处理的亮光面漆进行喷砂处理,在亮光面漆上形成哑光区域。
2.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,所述底漆为紫外光固化漆或聚氨酯漆,所述中漆为紫外光固化漆,所述亮光面漆为紫外光固化漆。
3.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,所述真空镀膜采用不导电真空电镀工艺。
4.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,所述底漆是透明的,所述中漆是彩色的。
5.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,所述底漆厚度为15-30um,烘烤温度为50±5°,紫外光固化能量为600-800mj/cm2
6.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,真空镀膜是在真空条件下,将欲镀靶材通过直接加热或间接加热,使之溶解,然后蒸发,或者直接由固体升华为气体,获得足够能量的原子或分子飞向并沉积在底漆表面,沉积一定厚度的镀膜层。
7.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,所述中漆厚度为8-10um,烘烤温度为55±5°,紫外光固化能量为500-700mj/cm2
8.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,所述亮光面漆厚度为20-35um,烘烤温度为55±5°,紫外光固化能量为800-1000mj/cm2
9.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺,其特征在于,在喷砂处理中,所述砂型:锆砂/220#;风力:33磅;时间:12S;距离:10cm。
10.一种电子产品外壳,其表面设有喷涂层,其特征在于,该喷涂层包括喷涂在外壳上的底漆、通过真空镀膜盖覆在底漆上的镀膜层、喷涂在镀膜层上的中漆以及喷涂在中漆上的亮光面漆,该亮光面漆的局部区域经喷砂处理而形成哑光区域。
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