CN105292762A - 一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶，包括密封的内、外两层，外层为带有接口的光刻胶瓶身，内层为软性内囊，用于容纳光刻胶，一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间，一光刻胶导管从接口处插入内囊中，瓶身内底部固设有一凹槽形凸起结构，内囊下端具有一与凸起结构的凹槽侧壁对应的开口，并通过其开口与凹槽侧壁密封连接，光刻胶导管下端伸入凸起结构的凹槽内，当内囊受压时，无法接触到导管下端的光刻胶出口造成其堵塞，从而避免了因此问题而导致的气泡和涂布异常现象。

Description

一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶
技术领域
本发明涉及半导体集成电路制造技术领域，更具体地，涉及一种可改善涂布覆盖不良的新型光刻胶瓶。
背景技术
在半导体制造技术中，光刻的本质是把临时电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。光刻使用光敏光刻胶材料和可控制的曝光，在硅片表面形成三维图形。光刻技术要应用到光敏光刻胶或光刻胶，它们作为一种聚合可溶解物被涂在衬底表面并图形化，然后经过刻蚀或离子注入后被去掉。硅片上光刻胶的厚度和均匀性是非常关键的质量参数。
在半导体制造产业中，造成光刻胶涂布异常有很多因素，大部分是因机台发生故障导致，而其中一种因素却是因光刻胶瓶构造问题所导致，并经常发生，且不能通过机台维护解决。
请参阅图1，图1是现有的一种光刻胶瓶结构示意图。如图1所示，目前光刻胶瓶的结构大都使用NOWPak包装方式，即分为内、外两层。其中，外层是带有接口5的光刻胶瓶身1，内层为软性内囊2形式，囊内装着光刻胶3，光刻胶3与外界空气和瓶身1不接触。一氮气管6从接口5处通入瓶身1和内囊2之间，一光刻胶导管4从接口5处插入内囊2中至其底部，光刻胶导管4上端接有软管7。瓶内密封，通过氮气管6通入高压的氮气挤压内囊2，使光刻胶3从光刻胶导管4中挤出，经软管7导入机台。请参阅图2，图2是图1中光刻胶导管的局部结构放大示意图。如图2所示，光刻胶导管4的下端呈锥形8，在其锥形侧面设有光刻胶出口9。
在光刻胶使用过程中，内囊2在囊外氮气的压迫及囊内光刻胶导管出口9的抽吸作用下，经常会堵塞光刻胶导管4下端的光刻胶出口9，这将影响后续光刻胶管路的压力，造成管路中大量气泡开始产生，严重时会造成涂布过程中因光刻胶的喷涂量不足而形成涂布异常。这种情况在光刻胶快用完时，更容易发生。如图3所示，在光刻胶快用完时，内囊2逐渐贴紧光刻胶导管4，不但囊内上方的光刻胶3难以顺畅地向光刻胶导管4下端的光刻胶出口9流动，而且更容易堵塞光刻胶出口9。
因此，有必要对现有的光刻胶瓶结构进行优化改进，以便改善容易发生涂布覆盖不良的问题。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶，可解决光刻胶瓶中内囊堵塞光刻胶出口问题，从而解决因此问题而导致的气泡和涂布异常现象。
为实现上述目的，本发明的技术方案如下：
一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶，包括密封的内、外两层，外层为带有接口的光刻胶瓶身，内层为软性内囊，用于容纳光刻胶，一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间，一光刻胶导管从接口处插入内囊中，所述瓶身内底部固设有一凹槽形凸起结构，所述内囊下端具有一与所述凸起结构的凹槽侧壁对应的开口，并通过所述开口与凹槽侧壁密封连接，所述光刻胶导管下端伸入所述凸起结构的凹槽内。
优选地，所述光刻胶导管下端设有内凹的光刻胶出口。
优选地，所述光刻胶导管下端侧壁设有若干光刻胶进口，并在侧壁内略高于所述光刻胶进口位置设有光刻胶出口。
优选地，所述光刻胶进口为孔形或向下开口的槽形。
优选地，所述光刻胶进口环绕所述光刻胶导管下端侧壁均匀设置。
优选地，所述光刻胶进口的数量为4～8个，环绕所述光刻胶导管下端侧壁对称设置。
优选地，所述光刻胶导管下端与瓶身内底部凸起结构的凹槽底部靠近或相接触。
优选地，所述光刻胶进口的位置低于瓶身内底部凸起结构的凹槽上端。
优选地，所述内囊下端开口与瓶身内底部凸起结构的凹槽外侧壁密封连接。
优选地，所述光刻胶导管下端设有支脚。
从上述技术方案可以看出，本发明通过在光刻胶瓶身内底部设置凹槽形凸起结构，将内囊下端与凸起结构的凹槽侧壁密封连接，并将光刻胶导管下端伸入凹槽内，使内囊在受压时，无法接触到导管下端的光刻胶出口造成其堵塞，从而避免了因此问题而导致的气泡和涂布异常现象。
附图说明
图1是现有的一种光刻胶瓶结构示意图；
图2是图1中光刻胶导管的局部结构放大示意图；
图3是图1中的光刻胶瓶在光刻胶快用完时的使用状态示意图；
图4是本发明一较佳实施例的一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶结构示意图；
图5是图4中光刻胶导管下端的第一种局部结构放大示意图；
图6是图4中光刻胶导管下端的第二种局部结构放大示意图；
图7是图4中光刻胶导管下端的第三种局部结构放大示意图；
图8是图4中凸起结构的放大示意图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明的具体实施方式作进一步的详细说明。
需要说明的是，在下述的具体实施方式中，在详述本发明的实施方式时，为了清楚地表示本发明的结构以便于说明，特对附图中的结构不依照一般比例绘图，并进行了局部放大、变形及简化处理，因此，应避免以此作为对本发明的限定来加以理解。
在以下本发明的具体实施方式中，请参阅图4，图4是本发明一较佳实施例的一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶结构示意图。如图4所示，本发明的一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶，包括密封的内、外两层；其中，外层为带有接口的光刻胶瓶身，内层为软性内囊，用于容纳光刻胶，光刻胶与外界空气和瓶身1不接触。一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间，一光刻胶导管从接口处插入内囊中至其下方。
请参阅图4。在所述瓶身11内底部中央固设有一凹槽形凸起结构19，所述内囊12下端具有一与所述凸起结构19的凹槽侧壁对应的开口18，并通过所述开口18与凹槽侧壁密封连接，所述光刻胶导管14的下端伸入到所述凸起结构19的凹槽内部。光刻胶瓶内部处于密封状态，在使用时，通过氮气管16通入高压的氮气挤压内囊12，使光刻胶13进入光刻胶导管14下端的出口20并从光刻胶导管14的上端挤出，经连接软管17导入机台进行涂布工艺。
作为可选的实施方式，所述凸起结构19可以加工成圆形、矩形或多边形，还可以是碗形，所述内囊12下端的开口18也与所述凸起结构19的凹槽侧壁对应，并进行密封连接。所述内囊12和瓶身11可采用现有的适用材料制作，本发明不作限制。作为优选的实施方式，所述内囊12下端开口18可密封连接在凸起结构19的凹槽外侧壁。也可以将所述内囊下端开口密封连接在凸起结构的凹槽内侧壁，但这时其相互之间的连接位置应到达凹槽内侧壁的上端，以避免所述内囊受压后仍会紧贴导管的光刻胶出口。由于内囊12下端与具有一定开口度的凹槽相连，当内囊12受压时就难以接触到导管14下端的光刻胶出口20，从而可避免其将光刻胶出口20堵塞。
请参阅图8，图8是图4中凸起结构的放大示意图。如图8所示，在一具体实例中，以圆形凹槽为例，所述凸起结构19各部位的加工尺寸可满足：直径a＝3.8～4.2cm；高度b＝1.8～2.2cm；凹槽壁厚c＝0.4～0.6cm；底厚d＝0.4～0.6cm；例如：直径a＝4cm；高度b＝2cm；凹槽壁厚c＝0.5cm；底厚d＝0.5cm。根据不同光刻胶瓶的规格，可加工适用的凸起结构尺寸。
作为一可选的实施方式，光刻胶出口20可设置在导管的下端面。这时，光刻胶导管14在插入内囊12后，应与凸起结构19的凹槽底部接近但须保持一定距离，以保证光刻胶能够顺利进入。
请参阅图5，图5是图4中光刻胶导管下端的第一种局部结构放大示意图。如图5所示，作为一优选的实施方式，所述光刻胶导管14下端可设有内凹的光刻胶出口20，即光刻胶出口20高于导管14的下端面。在这种情况下，当内囊12受压向光刻胶导管14收缩时，由于有导管下端面的阻挡，内囊12即使高度收缩变形，也不容易将光刻胶出口20堵塞。此时的光刻胶导管14在插入内囊12后，也应与凸起结构19的凹槽底部接近但须保持一定距离，以保证光刻胶13能够顺利进入。
请参阅图6，图6是图4中光刻胶导管下端的第二种局部结构放大示意图。如图6所示，作为一优选的实施方式，所述光刻胶导管14下端侧壁可设有若干光刻胶进口21，并在侧壁内略高于所述光刻胶进口21位置设有光刻胶出口20。光刻胶进口21可围绕光刻胶导管14下端侧壁一圈设置。在这种情况下，当内囊12受压向光刻胶导管14收缩时，由于光刻胶导管14下端侧壁一圈都设有光刻胶进口21，内囊12即使高度收缩变形，也难以将光刻胶进口21全数堵塞，因而也就无法使光刻胶出口20受堵。此时的光刻胶导管14在插入内囊12后，可直接接触到凸起结构19的凹槽底部。
作为可选的实施方式，所述光刻胶进口21可为孔形或向下开口的槽形，或者是采用具有锯齿形下端的导管形式等。在图6的本实施例中，采用了圆孔形的光刻胶进口21。优选地，所述光刻胶进口21可环绕所述光刻胶导管14下端侧壁均匀设置。进一步地，所述光刻胶进口21的数量可为4～8个，并可环绕所述光刻胶导管14下端侧壁对称设置。
在上述具有光刻胶进口21的导管结构中，所述光刻胶进口21的位置应按尽量低于瓶身11内底部凸起结构19的凹槽上端方式设置，这样，即使在光刻胶13快用完时，内囊12受压后因不容易陷入凹槽内，故其难以接触到光刻胶进口21。
请参阅图6。在一具体实例中，以具有圆孔形光刻胶进口21结构为例，图中导管14下端各部位的加工尺寸可满足：出口至下端面高度e＝0.9～1.1cm；导管壁厚f＝0.25～0.35cm；导管内径g＝1.3～1.5cm；光刻胶出口20直径h＝0.6～0.8cm；光刻胶进口21直径i＝0.4～0.6cm；例如：出口至下端面高度e＝1cm；导管壁厚f＝0.3cm；导管内径g＝1.4cm；光刻胶出口直径h＝0.7cm；光刻胶进口直径i＝0.5cm。根据不同光刻胶瓶的规格，可加工适用的导管下端尺寸。
请参阅图7，图7是图4中光刻胶导管下端的第三种局部结构放大示意图。如图7所示，作为一其他优选的实施方式，所述光刻胶导管14下端还可设有支脚22，所述支脚22的数量可环绕导管14下端设置一至若干个。所述支脚22可起到替代图6中光刻胶进口的类似作用。本例不再赘述。
综上所述，本发明通过在光刻胶瓶身内底部设置凹槽形凸起结构，将内囊下端与凸起结构的凹槽侧壁密封连接，并将光刻胶导管下端伸入凹槽内，使内囊在受压时，无法接触到导管下端的光刻胶出口造成其堵塞，从而避免了因此问题而导致的气泡和涂布异常现象。本发明的光刻胶瓶结构可适用于装入各种不同的光刻胶(例如G-line，I-line，Krf或Arf)、抗反射涂层、填充材料、隔水涂层等等；且可适用于各种尺寸的光刻机台：例如5英寸、6英寸、8英寸、12英寸以及更加大尺寸的光刻机台。
以上所述的仅为本发明的优选实施例，所述实施例并非用以限制本发明的专利保护范围，因此凡是运用本发明的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶，包括密封的内、外两层，外层为带有接口的光刻胶瓶身，内层为软性内囊，用于容纳光刻胶，一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间，一光刻胶导管从接口处插入内囊中，其特征在于，所述瓶身内底部固设有一凹槽形凸起结构，所述内囊下端具有一与所述凸起结构的凹槽侧壁对应的开口，并通过所述开口与凹槽侧壁密封连接，所述光刻胶导管下端伸入所述凸起结构的凹槽内。
2.根据权利要求1所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶导管下端设有内凹的光刻胶出口。
3.根据权利要求1所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶导管下端侧壁设有若干光刻胶进口，并在侧壁内略高于所述光刻胶进口位置设有光刻胶出口。
4.根据权利要求3所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶进口为孔形或向下开口的槽形。
5.根据权利要求3或4所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶进口环绕所述光刻胶导管下端侧壁均匀设置。
6.根据权利要求3或4所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶进口的数量为4～8个，环绕所述光刻胶导管下端侧壁对称设置。
7.根据权利要求3所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶导管下端与瓶身内底部凸起结构的凹槽底部靠近或相接触。
8.根据权利要求3或7所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶进口的位置低于瓶身内底部凸起结构的凹槽上端。
9.根据权利要求1所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述内囊下端开口与瓶身内底部凸起结构的凹槽外侧壁密封连接。
10.根据权利要求1所述的光刻胶瓶，其特征在于，所述光刻胶导管下端设有支脚。
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