CN105121294B - 用于容器的键控盖以及与其相关的装置和系统 - Google Patents

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Abstract

在一些方面中，本发明提供一种用于容器的键控盖。此外，在一些方面中，也提供包括容器和用于所述容器的键控盖的键控容器装置。更进一步，在一些方面中，键控容纳系统包括容器、用于所述容器的键控盖、和具有键控元件的电子装置，所述键控元件被适配以便在键控盖上与特定键控元件配对或以其它方式配合。如果键控盖具有不正确地对应于电子装置上的特定键控元件的键控元件，那么键控盖将与电子装置上的键控元件不适当地配对。例如，不匹配的两个键控元件可能不足够充分彼此配合以便准许所述电子装置上的穿刺构件到达盖上的隔膜。

Description

用于容器的键控盖以及与其相关的装置和系统
交叉引用
本申请主张2013年3月13日提交的美国临时专利申请号61/780,355的权益，所述临时专利申请以引用的方式整体并入本文。
背景技术
包含试剂的容器通常被装载至电子装置的装载端口中，以便用所述试剂来执行各种测试、分析、处理等。当被装载至所述端口中时，使用针或一个穿刺构件来穿刺容器盖以便抽出流体用于测试。然而将具有特定试剂的容器插入至错误的装载端口中，可导致浪费试剂、以及潜在的交叉污染。如果发生交叉污染，那么可需要附加的步骤，如冲洗系统或以其它方式净化所述系统，这导致浪费时间和用户不便。
发明内容
在本公开的一些方面中，提供一种键控盖。所述盖包括盖主体和设置在所述盖主体中的隔膜。盖主体具有第一侧面和第二侧面。盖主体的第一侧面与盖主体的第二侧面相对。隔膜具有第一侧面和第二侧面。隔膜的第一侧面与隔膜的第二侧面相对。另外，隔膜的第一侧面和第二侧面分别面向与盖主体的第一侧面和第二侧面相同的方向。盖主体的第一侧面包括隔膜的第一侧面和用于连接至容器的连接元件。盖主体的第二侧面包括隔膜的第二侧面和键控元件。键控元件包括至少一个环形环，所述至少一个环形环从盖主体的第二侧面突起，并且围绕所述隔膜同心设置。
在本公开的一些方面中，提供一种键控容纳装置。键控容纳装置包括容器和盖。所述容器包括开口和围绕所述开口设置的第一连接元件。所述盖包括盖主体和设置在所述盖主体中的隔膜。盖主体具有第一侧面和第二侧面。盖主体的第一侧面与盖主体的第二侧面相对。隔膜具有第一侧面和第二侧面。隔膜的第一侧面与隔膜的第二侧面相对。另外，隔膜的第一侧面和第二侧面分别面向与盖主体的第一侧面和第二侧面相同的方向。盖主体的第一侧面包括隔膜的第一侧面和被适配以便与容器的第一连接元件连接的第二连接元件。盖主体的第二侧面包括隔膜的第二侧面和键控元件。键控元件包括至少一个环形环，所述至少一个环形环从盖主体的第二侧面突起，并且围绕所述隔膜同心设置。
在本公开的一些方面中，提供包括容器、盖、和电子装置的键控容纳系统。所述容器包括开口和围绕所述开口设置的第一连接元件。所述盖包括盖主体和设置在所述盖主体中的隔膜。盖主体具有第一侧面和第二侧面。盖主体的第一侧面与盖主体的第二侧面相对。隔膜具有第一侧面和第二侧面。隔膜的第一侧面与隔膜的第二侧面相对。另外，隔膜的第一侧面和第二侧面分别面向与盖主体的第一侧面和第二侧面相同的方向。盖主体的第一侧面包括隔膜的第一侧面和被适配以便与容器的第一连接元件连接的第二连接元件。盖主体的第二侧面包括隔膜的第二侧面和第一键控元件。第一键控元件包括至少一个环形环，所述至少一个环形环从盖主体的第二侧面突起，并且围绕所述隔膜同心设置。电子装置包括被适配以便与盖的第一键控元件配对的第二键控元件，以及相对于所述第二键控元件定位的穿刺构件，以使得当电子装置的第二键控元件与盖的第一键控元件配对时，所述穿刺构件穿刺盖的隔膜。
附图说明
图1A示出根据一个实施方案的包括键控盖和容器的容器装置的透视图。
图1B和1C分别示出图1A所示的键控盖的近距离透视图和俯视图；
图2示出根据另一实施方案的键控盖的俯视图；
图3示出根据又一实施方案的键控盖的俯视图；
图4A和4B分别示出根据又一实施方案的键控盖的透视图和俯视图；
图5A示出根据一个实施方案的包括键控盖和容器的容器装置的透视图。
图5B和5C分别示出图5A所示的键控盖的近距离透视图和俯视图；以及
图6示出根据一个实施方案的键控容纳系统。
具体实施方式
在本公开的一些方面中，提供一种用于容器的键控盖。此外，在一些方面中，也提供包括容器和用于所述容器的键控盖的键控容器装置。更进一步，在一些方面中，键控容纳系统包括容器、用于所述容器的键控盖、和具有键控元件的电子装置，所述键控元件被适配以便与键控盖上的特定键控元件配对或以其它方式配合。如果键控盖具有不正确地对应于电子装置上的特定键控元件的键控元件，那么键控盖将与电子装置上的键控元件不适当地配对。例如，电子装置可包括穿刺构件，所述穿刺构件在键控元件合适配对时穿刺键控盖以便抽出流体(例如，试剂)，但当键控元件不适当地配对时不穿刺键控盖。例如，不匹配的两个键控元件可能不足够充分彼此配合以便准许穿刺构件到达盖上的隔膜。
术语“隔膜”在本文中广泛用于大体指分割元件。可在不同实施方案中实施各种隔膜类型中的任一者。例如，隔膜可由(但不限于)薄膜、纤维、筛网或网格、瓣膜等形成。在某些实施方案中，隔膜对流体是不可透的，并且能够被穿刺构件(例如，空心针)穿刺，以使得可从容器提取所述流体。在一些情况下，当穿刺构件从隔膜提取时，所述隔膜为可再密封的，以使得在穿刺构件已被移除后，流体不能通过所述隔膜漏出容器。
容器可在尺寸和形状上变化，并且可包括例如用于保持例如试剂的已知试剂瓶。键控盖可用于防止将试剂安装在错误装载端口中，例如其可潜在导致交叉污染。如以上总结的，如果发生交叉污染，可需要附加的步骤，如冲洗所述系统或以其它方式净化所述系统，这导致浪费时间和用户不便。
键控盖包括具有至少一个环形环突出的键控元件。一个或多个环形环提供特定的环配置和由所述环限定的间隔。由所述一个或多个环形环产生的特定配置起到“键”的功能，所述“键”需要在接收装置(例如，电子装置)上的对应配置，以便使得在盖上的键控元件能够被接收。例如，在接收装置上的对应键控元件将被设置形状和尺寸，以便适当地对齐和接收键控盖的一个或多个环形环。例如，在接收装置上的键控元件可包括合适地定位以便与键控盖上的一个或多个环形环对齐的一个或多个环形凹槽或井。此外，在接收装置上的键控元件可包括一个或多个环形环，所述一个或多个环形环被合适地定位以便与由键控盖上的一个或多个环形环限定的键控盖上的键控元件上的一个或多个间隔对齐。
可在不同实施方案中实施许多环形环配置。因此，大量的键控配置可被实施用于键控容器，所述键控容器保持由接收装置使用的不同试剂，以便防止在接收装置内和之间的意外试剂混合。所述接收装置可包括电子仪器，所述电子仪器例如测试、分析、处理或以其它方式使用键控容器内的试剂。示例性电子仪器可包括，但不限于，与血液分析相关的仪器。应理解电子仪器也包括例如，用于执行试剂的测试、分析、处理等的光学部件。
本公开的键控盖使得单个共同容器能够被制造用于多种试剂。尽管不需要使用共同容器，但具有共同容器可改善容器的可制造性并且可降低成本。
在一些情况下，键控盖可被设计具有识别特性或特征，如具有在键控盖上印刷或以其它方式包括的用以编码和识别盖的数字、符号、颜色等。例如，在接收装置上的装载区域可包括匹配的颜色、数字、或符号以便作为对用户的附加帮助。
在某些实施方案中，键控盖可移除地连接至容器。例如，键控盖可包括与容器开口上的螺纹配对的螺纹。这种螺纹机制，或其它已知的连接机制可被实施以便可移除地连接盖和容器。在某些实施方案中，键控盖可被整合在容器内或固定地附接至容器。例如，键控盖和容器可在制造期间与内部试剂附接在一起，或者，键控盖和容器可包括已知的锁定机制以便当连接时将两个部件锁定在一起。
在某些方面，键控盖上的环形环提供不需要盖被旋转(例如，“时钟式”)定向以便与接收装置正确配对的附加益处。例如，其它形状(如多边形(例如，六边形、正方形、八边形等))需要盖正确地旋转或“时钟式”定向，以便使得盖能够与接收装置适当配对。不围绕盖轴线居中的形状(包括环形环)也可需要锁定以便适当地对齐。此外，不是通常限定的形状的不规则形状(如多边形)也可需要锁定。应理解在替代性实施方案中，可实施需要锁定的其它形状。
在本公开的某些方面中，形成包括键控盖和容器的容器装置，其配合在接收装置上的接收端口以便使得容器装置能够插入所述端口内或“插入”至所述端口。接收端口包括穿刺构件，以便当容器装置插入在端口内时，穿刺键控盖的隔膜。
通过将端口中的键控元件与合适的键控盖匹配，特定端口可被适配用于与特定试剂使用。因此，如果接收端口和键控盖不具有匹配的键控元件，那么防止穿刺构件穿刺键控盖的隔膜，并且避免交叉污染。这提供具有特定试剂的容器装置安装在正确的端口中的附加保险水平。
盖和容器可由任何合适的材料来制造。示例性材料可包括但不限于聚合材料(例如，塑料)、金属、金属合金、或其组合。隔膜可由流体不可透但使得穿刺构件能够穿刺隔膜用于流体抽出的任何合适的材料来制造。例如，可实施任何已知的隔膜。
为进一步描述本公开的各方面，下文描述附加实施方案。应理解所述实施方案为示例性的，并且描述的特征可适用于其它实施方案。
图1A示出根据一个实施方案的容器装置的透视图。如图1A所示，容器装置100包括盖101和容器102。图1B和1C分别示出图1A所示的盖101的近距离透视图和俯视图，并且结合图1A描述。
盖101可移除地连接至容器102的开口。例如，盖101和容器102两者可包括使得能够将两个部件连接在一起的连接元件(未示出)，如螺纹。在替代性实施方案中，盖101和容器102可整合或以其它方式彼此固定地附接。
容器102可由任何合适的材料来制造，但应对流体是不可透的。示例性材料可包括但不限于聚合材料(例如，塑料)、金属、金属合金、或其组合。
容器102可包括连接至盖101上的对应连接元件的连接元件(未示出)。例如，连接元件可包括准许从容器102拧上或拧下盖101的螺纹。任何类型的连接元件可用于将盖101连接至容器102。盖101的连接元件也可包括垫圈，例如以便当连接时提供空气紧密密封和/或液体紧密密封。
盖101被示出包括盖主体103、隔膜104和环形环105。盖101的相对侧面106、107为参考目的在本文中提及。当盖101连接至容器102时，侧面106(例如，盖101的顶部侧面)背向所述容器。类似地，当盖101连接至所述容器时，侧面107(例如，盖101的底部侧面)面朝向所述容器。
隔膜104设置在盖主体103中，隔膜104的一个侧面在侧面106上，并且隔膜104的相对侧面在侧面107上。例如，当连接至容器102时，隔膜104的侧面107和盖主体103面向容器102。类似地，当连接至容器102时，隔膜104的侧面106和盖主体103背向容器102。
在所示的实施方案中，隔膜对流体是不可透的，但对装置的穿刺构件是可透的，所述穿刺构件从容器抽出流体，例如通过穿刺构件的内腔。应理解在其它实施方案中，隔膜的尺寸和/或形状可变化。
盖101包括从盖主体103的侧面106突起的环形环105。在所示的实施方案中，隔膜104设置在盖主体103的中心中，环形环105围绕隔膜104同心设置。环形环105限定环形环105与隔膜104之间的间隔108，以及环形环105与外周盖主体103之间的间隔109。
在不同实施方案中，环形环105的厚度可变化。此外，间隔108和109也在不同实施方案中变化。例如，如图1C所示，环形环105的厚度表示为t1，间隔108和109分别具有宽度d1和d2。图2示出类似于图1A-1C所示的盖201，除环形环205以及间隔208和209不同于图1A-1C所示的实施方案中示出的环形环105以及间隔108和109之外。图2中的环形环205具有一个厚度，所述厚度表示大于示出用于图1A-1C中的环形环105的厚度的厚度。此外，间隔208和209分别具有不同于宽度108和109的宽度。本文中提及的这些厚度和宽度从对应环或间隔的内半径向外半径来测量，例如，如在俯视图中最佳可见。例如，间隔208的宽度小于宽度108。还应注意间隔的径向定位也可独立于宽度而变化。术语“径向定位”在本文中广泛用于表示从盖中心至环形环(例如，205)或由环形环限定的间隔(例如，208和209)的中心的大体距离。
图3示出根据另一实施方案的盖的俯视图。盖301包括盖主体303、隔膜304和环形环305。当盖301连接至容器102时，隔膜304的一个侧面暴露并且面朝向容器102。当盖301连接至容器102时，隔膜304的相对侧面暴露并且背向容器102，例如俯视图中示出的侧面。当盖301连接至容器102时，环形环305从盖主体303的背向容器102的侧面突起，例如俯视图中示出的侧面。环形环305围绕隔膜404同心设置在盖主体303的外周处，限定环形环305与隔膜304之间的间隔308。
应理解，键控盖以及所述键控盖内的部件(例如，环形环、由所述环形环限定的间隔、隔膜等)的尺寸可在不同的实施方案中变化。键控盖及其部件的尺寸可变化，但应使得能够与接收装置的合适地设置尺寸的键控元件适当配对。在某些实施方案中，盖的尺寸的范围可从(但不限于)3英寸或更少(如2英寸或更少)以及包括1英寸或更少。在某些实施方案中，环形环的尺寸的范围可从(但不限于)2厘米或更少(如1厘米或更少)以及包括半厘米或更少。在某些实施方案中，环形环的厚度的范围可取决于使用的键控盖的尺寸。这些实例尺寸为示例性目的而被提供，并且不应解释成限制性的。
在某些实施方案中，盖可包括多于一个的环形环。例如，图4A和4B分别示出盖401的透视图和俯视图。当连接至容器102时盖401的侧面406背向容器102，并且当连接至容器102时侧面407面朝向容器102。盖401包括盖主体403、暴露在两个侧面406和407上的隔膜404、以及从盖主体403的侧面406突起的环形环405a、405b。
环形环405a围绕隔膜404同心设置，限定环形环405a与隔膜404之间的间隔408。环形环405b围绕环形环405a和隔膜404同心设置。在所示的实施方案中，环形环405b设置在盖主体403的外周处，并且在环形环405a与环形环405b之间限定间隔409。
图5A示出根据一个实施方案的容器装置的透视图。如图5A所示，容器装置500包括盖501和容器502。图5B和5C分别示出图5A所示的盖501的近距离透视图和俯视图，并且结合图5A描述。
当连接至容器102时盖501的侧面506背向容器102，并且当连接至容器102时侧面507面朝向容器102。盖501包括盖主体503、暴露在两个侧面506和507上的隔膜504、以及从盖主体503的侧面506突起的环形环505a、505b。
当盖501连接至容器102时，环形环505a、505b从盖主体503的背向容器102的侧面突起，例如俯视图中示出的侧面。
环形环505a围绕隔膜504同心设置，限定环形环505a与隔膜504之间的间隔508。环形环505b围绕环形环505a和隔膜504同心设置，在环形环505a与环形环505b之间限定间隔409。环形环505b也在环形环505b与盖主体503的外周之间限定间隔510。
应理解所示的实施方案为示例性的，并且其它实施方案可包括多于两个的环形环。还应理解每个环形环的高度可在不同的实施方案中变化。在某些实施方案中，每个环形环具有相同的高度。在其它实施方案中，两个或更多的环形环具有不同的高度。例如，在图4A所示的实施方案中，环形环405a在高度上大于环形环405b。在其它实施方案中，如图5B所示的实施方案，环形环具有相同的高度。
应理解由环形环限定的每个间隔的深度可在不同实施方案中变化。在本文中每个间隔的“深度”用于大体指从盖主体至环形环的远侧高度的间隔中的距离。还应理解一些间隔可由两个不同高度的环形环围绕。在这种情况下，间隔的“深度”可基于一个或两个环形环的高度来限定，例如间隔的深度可大体指从盖主体至任一环形环的远侧高度，或两个环形环的组合(如两个环形环的中部)等的距离。在一些情况下，两个间隔内的盖主体可在高度上彼此不同。
在某些实施方案中，由环形环限定的每个间隔具有相同的深度。在其它实施方案中，两个或更多的间隔具有不同的深度。应理解两个间隔的基础表面可在不同的高度水平，或可替代性地在相同的高度水平。
隔膜的高度也可在不同的实施方案中变化。例如，在图4A所示的实施方案中，盖主体403包括在其中设置隔膜的凸起的中心部分，并且隔膜104凸起至与环形环405b相同的高度。在图5B所示的实施方案中，隔膜104低于环形环505a、505b中任一个的高度。例如，隔膜的高度可设置在其中环形环505a、505b遇到盖主体503的顶部表面的高度水平。
应理解以下参数可在不同的实施方案中变化：环形环的厚度和高度；由所述环形环限定的间隔的宽度和深度；以及所述环形环和由所述环形环限定的间隔的径向定位。
还应理解在某个实施方案中，第一环形环可在不同于第二环形环的高度，并且进一步可邻接第二环形环。在这种情况下，在两个环形环之间不形成间隔，然而在接收装置上的键控元件仍可包括在对应高度的匹配突起以便实现“键控”配合。还应理解第一环形环和第二环形环可相应地由两个分离件或由单件模制或塑形材料来制造。
图6示出根据一个实施方案的容器系统。容器系统600包括容器102，容器102具有连接至其的盖501。对于所示的实施方案，盖501为与如图5A-5C所示的相同盖501。容器可包括流体，如试剂。容器系统也包括具有两个端口601、603的电子装置600。端口601包括键控元件602，以便与在其中它被“键控”至的对应盖的特定环形环配置配对。类似地，端口603包括与对应于不同盖的不同特定环形环配置配对的键控元件604。
键控元件604被设置尺寸和形状以便与盖501配对。盖501的环形环和间隔形成被设置形状和尺寸以便与键控元件604配对的键控元件。例如，键控元件604包括在盖501的间隔508内对齐的第一环形环609；在盖501的间隔509内对齐的第二环形环607；以及与盖50的间隔510对齐的表面605的一部分；以及当盖501与键控元件604配对时，穿刺盖501的隔膜504的中心穿刺构件611。类似地，键控元件604包括与盖501的环形环505a对齐的间隔608；以及与盖501的环形环505b对齐的间隔606。因此，当包括容器102和盖501的容纳装置被带向端口603时，键控元件604与盖501的突起和间隔对齐，使得盖501能够配合在键控元件604内，并且用中心穿刺构件611来穿刺隔膜504。
应理解穿刺构件611被定位在适当的高度，以便准许所述穿刺构件穿刺所述隔膜。因此，例如，不匹配接收元件的键控元件的键控盖不被准许插入足够远以便允许穿刺构件穿刺隔膜。
端口601的键控元件602被设置尺寸和形状以便与不同于501的盖配对。例如，键控元件602被设置尺寸和形状以便与图3所示的盖301配对。例如，键控元件602包括穿刺盖301的隔膜304的中心穿刺构件616；以及在盖301的间隔308内对齐的第一环形环614。类似地，键控元件604包括与盖301的环形环305对齐的间隔613。
在图6中，盖501包括形成盖501的键控元件的环形环505a、505b和间隔508、509、510。因为环形环505a、505b和间隔508、509、510与键控元件602的环形环614和间隔613、615不适当地对齐，所以盖501的键控元件不适当地配对端口601的键控元件602。例如，环形环505a、505b将接触键控元件602，但将与键控元件602不适当地对齐和配对。因为不适当的对齐，所以防止盖501充分插入以便使得穿刺构件616穿刺隔膜504。这提供一个安全机制，以便确保容器不插入错误端口内，冒试剂交叉污染的风险。如果发生交叉污染，可需要附加的步骤，如冲洗所述系统或以其它方式净化所述系统，这导致浪费时间和试剂。
附加示例性实施方案
在本公开的一些方面，提供一种键控盖。所述盖包括盖主体和设置在所述盖主体中的隔膜。盖主体具有第一侧面和第二侧面。盖主体的第一侧面与盖主体的第二侧面相对。隔膜具有第一侧面和第二侧面。隔膜的第一侧面与隔膜的第二侧面相对。另外，隔膜的第一侧面和第二侧面分别面向与盖主体的第一侧面和第二侧面相同的方向。盖主体的第一侧面包括隔膜的第一侧面和用于连接至容器的连接元件。盖主体的第二侧面包括隔膜的第二侧面和键控元件。键控元件包括至少一个环形环，所述至少一个环形环从盖主体的第二侧面突起，并且围绕所述隔膜同心设置。
在某些实施方案中，键控元件包括设置在隔膜与盖主体的外周之间的第一环形环。
在某些实施方案中，键控元件包括第二环形环。在一些情况下，第二环形环设置在隔膜与盖主体的外周之间。在一些情况下，键控元件包括设置在盖主体的外周处的第二环形环。在一些情况下，第一环形环和第二环形环具有不同的高度。在一些情况下，第一环形环和第二环形环具有不同的厚度。
在某些实施方案中，键控元件包括第三环形环。在一些情况下，第三环形环设置在隔膜与盖主体的外周之间。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的高度。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的高度。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的厚度。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的厚度。
在本公开的一些方面中，提供一种键控容纳装置。键控容纳装置包括容器和盖。所述容器包括开口和围绕所述开口设置的第一连接元件。所述盖包括盖主体和设置在所述盖主体中的隔膜。盖主体具有第一侧面和第二侧面。盖主体的第一侧面与盖主体的第二侧面相对。隔膜具有第一侧面和第二侧面。隔膜的第一侧面与隔膜的第二侧面相对。另外，隔膜的第一侧面和第二侧面分别面向与盖主体的第一侧面和第二侧面相同的方向。盖主体的第一侧面包括隔膜的第一侧面和被适配以便与容器的第一连接元件连接的第二连接元件。盖主体的第二侧面包括隔膜的第二侧面和键控元件。键控元件包括至少一个环形环，所述至少一个环形环从盖主体的第二侧面突起，并且围绕所述隔膜同心设置。
在某些实施方案中，键控元件包括设置在隔膜与盖主体的外周之间的第一环形环。
在某些实施方案中，键控元件包括第二环形环。在一些情况下，第二环形环设置在隔膜与盖主体的外周之间。在一些情况下，键控元件包括设置在盖主体的外周处的第二环形环。在一些情况下，第一环形环和第二环形环具有不同的高度。在一些情况下，第一环形环和第二环形环具有不同的厚度。
在某些实施方案中，键控元件包括第三环形环。在一些情况下，第三环形环设置在隔膜与盖主体的外周之间。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的高度。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的高度。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的厚度。在一些情况下，第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的厚度。
在本公开的一些方面中，提供包括容器、盖和电子装置的键控容纳系统。所述容器包括开口和围绕所述开口设置的第一连接元件。所述盖包括盖主体和设置在所述盖主体中的隔膜。盖主体具有第一侧面和第二侧面。盖主体的第一侧面与盖主体的第二侧面相对。隔膜具有第一侧面和第二侧面。隔膜的第一侧面与隔膜的第二侧面相对。另外，隔膜的第一侧面和第二侧面分别面向与盖主体的第一侧面和第二侧面相同的方向。盖主体的第一侧面包括隔膜的第一侧面和被适配以便与容器的第一连接元件连接的第二连接元件。盖主体的第二侧面包括隔膜的第二侧面和第一键控元件。第一键控元件包括至少一个环形环，所述至少一个环形环从盖主体的第二侧面突起，并且围绕所述隔膜同心设置。电子装置包括被适配以便与盖的第一键控元件配对的第二键控元件，以及相对于所述第二键控元件定位的穿刺构件，以使得当电子装置的第二键控元件与盖的第一键控元件配对时，所述穿刺构件穿刺盖的隔膜。
在某些实施方案中，第二键控元件包括被定位以便与由第一键控元件的至少一个环形环限定的间隔对齐的至少一个环形环。
在某些实施方案中，第二键控元件包括至少一个由环形环限定的间隔，所述第二键控元件的至少一个间隔被定位以便与第一键控元件的至少一个环形环对齐。
在某些实施方案中，第一键控元件包括设置在隔膜与盖主体的外周之间的第一环形环。
在某些实施方案中，第一键控元件包括第二环形环。在一些情况下，第一键控元件的第二环形环设置在隔膜与盖主体的外周之间。在一些情况下，第一键控元件包括设置在盖主体的外周处的第二环形环。在一些情况下，第一键控元件的第一环形环和第二环形环具有不同的高度。在一些情况下，第一键控元件的第一环形环和第二环形环具有不同的厚度。
在某些实施方案中，第一键控元件包括第三环形环。在一些情况下，第一键控元件的第三环形环设置在隔膜与盖主体的外周之间。在一些情况下，第一键控元件的第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的高度。在一些情况下，第一键控元件的第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的高度。在一些情况下，第一键控元件的第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的厚度。在一些情况下，第一键控元件的第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的厚度。
在本公开的一些方面中，提供一种电子装置，所述电子装置包括根据本公开被适配以便与键控盖的另一键控元件配对的键控元件。所述电子装置包括相对于所述电子装置的键控元件定位的穿刺构件，以使得当所述电子装置的键控元件与盖的第一键控元件配对时，所述穿刺构件穿刺键控盖的隔膜。
在某些实施方案中，所述电子装置的键控元件包括被定位以便与由键控盖的键控元件的至少一个环形环限定的间隔对齐的至少一个环形环。
在某些实施方案中，所述电子装置的键控元件包括由环形环限定的至少一个间隔，所述电子装置的键控元件的至少一个间隔被定位以便与键控盖的键控元件的至少一个环形环对齐。
虽然出于清晰理解的目的已经通过说明和实施方案详细地描述了以上实施方案，但本领域的普通技术人员根据本公开的教义显而易见的是，在不脱离所附权利要求书的精神或范围的情况下可以对以上实施方案做出某些变化和修改。还将理解，本文所使用的术语仅是用于描述特定实施方案的目的，并且不意图具有限制性。
在提供数值范围时，应该理解在所述范围的上下限之间的每个中间值(除非上下文另外清楚地指出，否则所述中间值达到下限单位的十分之一)和任何其它说明的或在所述说明范围中的中间值涵盖在本发明内。这些较小范围的上限和下限可独立地包括在这些较小范围内并且也涵盖于本发明内，从属于所述范围内的任何特定排除的极限值。在所说明范围包括所述限值中的一或两者时，超出那些包括的限值的任一个或两者的范围也包括在本发明中。
本说明书中引用的所有公布和专利以引用的方式并入本文，如同每个单独的公布或专利均确切地和单独地指出以引用的方式并入一样，并且以引用的方式并入本文以公开和描述与公布所引用的相关的方法和/或材料。任何公布的引用为其公开在申请日之前，并且不应该解释为承认本发明由于现有发明而无权先于这种公布。此外，所提供的公布日期可与实际公布日期不同，这可能需要独立证实。
应注意，如本文中和所附权利要求书中所用的，除非上下文另外清楚指示，否则单数形式“一”、“一个”和“所述”包括多个提及物。进一步指出，权利要求可起草成排除任何可选元件。因此，此说明旨在用作使用与权利要求元件引用相关的如“仅有”、“仅仅”等此类排他术语或使用“否定”限制的前提基础。
本领域技术人员在阅读本公开时将显而易见的是，本文所描述且说明的各个个别实施方案具有离散的部件和特征，这些部件和特征可容易地与任何其它若干实施方案的特征分离或组合而不偏离本发明的范围或精神。任何所陈述方法均可以所陈述事件的顺序或以逻辑上可能的任何其它顺序进行。
因此，以上仅仅说明本发明的原理。应了解，本领域的技术人员将能够设想各种安排，虽然这些安排未在本文中明确地描述或展示，但是它们体现了本发明的原理并且包括在其精神和范围内。此外，本文所引用的所有实施例和条件语言主要意图帮助读者理解本发明的原理和由发明人提供的促进技术的构想，并且应解释为不对此类特别引用的实施例和条件构成限制。此外，本文中引述本发明的原理、方面和实施方案以及其特定实施例的所有陈述均意图涵盖其结构等效物和功能等效物。此外，希望此类等效物包括目前已知的等效物和未来待开发的等效物，即不管结构如何，所开发的执行相同功能的任何元件。因此，本发明的范围不意图限于本文所展示和描述的示例性实施方案。

Claims (20)

1.一种键控容纳系统，所述键控容纳系统包括：
容器，所述容器包括：
开口；以及
设置在所述开口周围的第一连接元件；以及
盖，所述盖包括：
具有第一侧面和第二侧面的盖主体，其中所述盖主体的所述第一侧面与所述盖主体的所述第二侧面相对，即所述盖主体的第一表面与第二表面相对；以及
设置在所述盖主体中的隔膜，其中所述隔膜具有第一侧面和第二侧面，其中所述隔膜的所述第一侧面与所述隔膜的所述第二侧面相对，并且其中所述隔膜的所述第一侧面和第二侧面分别面向与所述盖主体的所述第一侧面和第二侧面相同的方向；
其中，所述盖主体的第一侧面包括：
所述隔膜的所述第一侧面；以及
第二连接元件，该第二连接元件被适配以便连接所述容器的所述第一连接元件；
其中，所述盖主体的所述第二侧面包括：
所述隔膜的所述第二侧面；以及
第一键控元件，其中所述第一键控元件包括从所述盖主体的所述第二侧面突起的第一环形环，并且在所述第二表面上在所述第一环形环与所述隔膜之间限定第一间隔而在所述第一环形环与所述盖主体的外周之间限定第二间隔，其中所述第一环形环在所述隔膜与所述盖主体的外周之间围绕所述隔膜同心设置；以及
电子装置，所述电子装置包括：
被适配以便与所述盖的所述第一键控元件配对的第二键控元件；以及
相对于所述第二键控元件定位的穿刺构件，以使得当所述电子装置的所述第二键控元件与所述盖的所述第一键控元件配对时，所述穿刺构件穿刺所述盖的所述隔膜。
2.如权利要求1所述的键控容纳系统，其中所述第二键控元件包括被定位以便与由所述第一键控元件的至少一个环形环限定的间隔对齐的至少一个环形环。
3.如权利要求2所述的键控容纳系统，其中所述第二键控元件包括由环形环限定的至少一个间隔，所述第二键控元件的所述至少一个间隔被定位以便与所述第一键控元件的至少一个环形环对齐。
4.如权利要求1至3中任一项所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件包括第二环形环。
5.如权利要求4所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第二环形环设置在所述隔膜与所述盖主体的外周之间。
6.如权利要求4所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件包括设置在所述盖主体的外周处的第二环形环。
7.如权利要求5或6所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环和所述第二环形环具有不同的高度。
8.如权利要求5或6所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环和所述第二环形环具有不同的厚度。
9.如权利要求5或6所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件包括第三环形环。
10.如权利要求9所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第三环形环设置在所述隔膜与所述盖主体的所述外周之间。
11.如权利要求9所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的高度。
12.如权利要求10所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的高度。
13.如权利要求9所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的高度。
14.如权利要求10所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的高度。
15.如权利要求9所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的厚度。
16.如权利要求10至14中任一项所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的每一个具有不同的厚度。
17.如权利要求9所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的厚度。
18.如权利要求10至14中任一项所述的键控容纳系统，其中所述第一键控元件的所述第一环形环、第二环形环和第三环形环中的至少两个具有相等的厚度。
19.如权利要求1所述的键控容纳系统，其中所述第一环形环从所述第二表面垂直地突起。
20.如权利要求1所述的键控容纳系统，其中键控的所述盖能够移除地连接至所述容器。
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