CN105045451A - 触控显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种触控显示面板及其制造方法，所述触控显示面板包括：面板结构、触控器件层、保护层和一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层；所述触控器件层形成于所述面板结构上，所述保护层形成于所述触控器件层上，所述无机二氧化硅复合膜层形成于所述保护层上。本发明采用具有单疏水、单疏油或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层作为触控显示面板的外表面，能够有效抵抗触控体带来的油污或水汽，有利于长期保持良好的触控及显示效果。

Description

触控显示面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及显示器技术领域，特别涉及一种触控显示面板及其制造方法。

背景技术

近年来，随着信息技术、无线移动通讯和信息家电的快速发展与应用，人们对电子产品的依赖性与日俱增，更带来各种显示技术及显示装置的蓬勃发展。触控显示面板是一种将触控功能与显示功能结合形成的显示装置，其具有人机互动的特性，已被广泛应用于各种产品上，包括行动电话(mobilephone)、卫星导航系统(GPSnavigatorsystem)、平板电脑(tabletPC)、个人数字助理(PDA)、笔记型计算机(laptopPC)以及医疗设备等。

现今触控显示技术的发展非常多样化，触控显示面板的种类也多种多样。常见的触控显示面板包括电阻式触控显示面板、电容式触控显示面板、光学式触控显示面板等。其中电容式触控显示面板具有高准确率、多点触控(Multi-Touch)、高耐用性以及高触控分辨率等特点，已成为目前中高阶消费电子产品使用的主流产品。

图1为现有技术的电容式触控显示面板的结构示意图。如图1所示，现有的电容式触控显示面板100包括：显示基板110、外盖基板120、触控器件层130和保护层140；所述显示基板110和外盖基板120相对设置，所述触控器件层130设置于所述显示基板110与外盖基板120之间，所述保护层140设置于所述触控器件层130与外盖基板120之间，用以防止所述触控器件层130发生物理性或化学性的损坏。

对所述电容式触控显示面板100进行触控操作时，人的手指或其它触控体与所述外盖基板120直接接触。经过触碰后，所述外盖基板120的表面会沾染人的手指或其它触控体携带的油污或水汽。发明人发现，所述外盖基板120的表面沾染上油污或水汽后会影响图像显示效果，并造成触控功能的劣化。

基此，如何解决现有的触控显示面板由于表面污染而影响触控及显示效果的问题成为当前亟需解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种触控显示面板及其制造方法，以解决现有的触控显示面板由于表面污染而影响触控及显示效果的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种触控显示面板，所述触控显示面板包括：

面板结构、触控器件层、保护层和一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层；所述触控器件层形成于所述面板结构上，所述保护层形成于所述触控器件层上，所述无机二氧化硅复合膜层形成于所述保护层上。

可选的，在所述的触控显示面板中，所述无机二氧化硅复合膜层由聚硅氮烷固化而成，所述聚硅氮烷的部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代；

所述弱极性基团包括卤素基团、烷烃基团、环烷烃基团、芳香烃基团、醚基团或酯基团，所述极性基团包括环氧基团、聚四氟乙烯基团或聚丙烯酸酯共聚物基团。

可选的，在所述的触控显示面板中，所述触控显示面板为电容式触控显示面板；所述触控器件层包括多个第一透明电极、多个第二透明电极、金属桥和绝缘层；所述金属桥设置于所述面板结构上，所述绝缘层设置于所述金属桥上，所述多个第一透明电极沿第一方向设置于所述金属桥和绝缘层上，所述多个第二透明电极沿第二方向设置于所述金属桥和绝缘层上。

可选的，在所述的触控显示面板中，所述面板结构包括相对设置的第一基板和第二基板以及设置于所述第一基板和第二基板之间的显示器件；所述显示器件包括有机发光显示器件或薄膜晶体管液晶显示器件。

本发明还提供一种触控显示面板的制造方法，所述触控显示面板的制造方法包括：

提供一面板结构；

在所述面板结构上依次形成触控器件层和保护层；以及

在所述保护层上形成一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层。

可选的，在所述的触控显示面板的制造方法中，在所述保护层上形成无机二氧化硅复合膜层的过程包括：

提供全氢聚硅氮烷，并利用弱极性基团和/或极性基团取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子，以形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

采用液相涂覆工艺在所述保护层上均匀涂布部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；以及

对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化，以形成无机二氧化硅复合膜层

本发明还提供一种触控显示面板，所述触控显示面板包括：面板结构、外盖基板、粘结层、触控器件层、保护层和一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层；

所述触控器件层形成于所述外盖基板的一侧，所述保护层形成于所述触控器件层上，所述无机二氧化硅复合膜层形成于所述外盖基板的另一侧，所述面板结构通过所述粘结层与所述外盖基板中形成有触控器件层的一侧固定。

可选的，在所述的触控显示面板中，所述无机二氧化硅复合膜层由聚硅氮烷固化而成，所述聚硅氮烷的部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代；

所述弱极性基团包括卤素基团、烷烃基团、环烷烃基团、芳香烃基团、醚基团或酯基团，所述极性基团包括环氧基团、聚四氟乙烯基团或聚丙烯酸酯共聚物基团。

可选的，在所述的触控显示面板中，所述触控显示面板为电容式触控显示面板；所述触控器件层包括多个第一透明电极、多个第二透明电极、金属桥和绝缘层；所述金属桥设置于所述外盖基板上，所述绝缘层设置于所述金属桥上，所述多个第一透明电极沿第一方向设置于所述金属桥绝缘层上，所述多个第二透明电极沿第二方向设置于所述金属桥和绝缘层上。

本发明还提供一种触控显示面板的制造方法，所述触控显示面板的制造方法包括：

提供一外盖基板；

在所述外盖基板的一侧依次形成触控器件层和保护层；

在所述外盖基板的另一侧形成一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层；

提供一面板结构，并在所述面板结构的一侧形成粘结层；以及

将所述外盖基板中形成有无机二氧化硅复合膜层的一侧背对所述面板结构，并通过所述粘结层将所述面板结构与外盖基板结合形成触控显示面板。

可选的，在所述的触控显示面板的制造方法中，在所述外盖基板的另一侧形成无机二氧化硅复合膜层的过程包括：

提供全氢聚硅氮烷，并利用弱极性基团和/或极性基团取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子，以形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

采用液相涂覆工艺在所述外盖基板上均匀涂布部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；以及

对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化，以形成无机二氧化硅复合膜层。

在本发明提供的触控显示面板及其制造方法中，采用具有单疏水、单疏油或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层作为触控显示面板的外表面，能够有效抵抗触控体带来的油污或水汽，有利于长期保持良好的触控及显示效果。

附图说明

图1是现有技术的电容式触控显示面板的结构示意图；

图2a至图2d是本发明实施例一的触控显示面板的制造过程的结构示意图；

图3a至图3f是本发明实施例二的触控显示面板的制造过程的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的触控显示面板及其制造方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

【实施例一】

请参考图2d，其为本发明实施例一的触控显示面板的结构示意图。如图2d所示，所述触控显示面板200包括：面板结构210、触控器件层230、保护层240和无机二氧化硅复合膜层250；所述触控器件层230形成于所述面板结构210上，所述保护层240形成于所述触控器件层230上，所述无机二氧化硅复合膜层250形成于所述保护层240上；其中，所述无机二氧化硅复合膜层250具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性。

具体的，所述面板结构210通常包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板之间设置有显示器件，所述显示器件可以是有机发光显示器件OLED、薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)或其他现有的显示器件。相应的，所述触控显示面板200可为薄膜晶体管液晶显示面板、有机发光显示面板或其他现有的显示面板。

如图2d所示，所述触控器件层230形成于所述面板结构210上，用以实现触控功能；所述保护层240形成于所述触控器件层230上，用以防止所述触控器件层230发生物理性或化学性的损坏；所述无机二氧化硅复合膜层250形成于所述保护层240上，用作所述触控显示面板200的外表面。

所述无机二氧化硅复合膜层250由聚硅氮烷固化而成，所述聚硅氮烷的部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代。

在所述触控显示面板200上设置一具有单疏水、单疏油或既疏水又疏油的无机二氧化硅复合膜层250作为外表面，能够有效抵抗触控体带来的油污或水汽，长期保持良好的触控及显示效果。

本实施例中，所述触控显示面板200为电容式触控显示面板，在所述触控器件层230中形成的是电容式触控元件。具体请继续参考图2d，所述触控器件层230包括多个第一透明电极231、多个第二透明电极232、金属桥233和绝缘层234，所述金属桥233设置于所述面板结构210上，所述绝缘层234设置于所述金属桥233上，所述多个第一透明电极231沿第一方向(例如X方向)设置于所述金属桥233和绝缘层234上，所述多个第二透明电极232沿第二方向(例如Y方向)设置于所述金属桥233和绝缘层234上。

在其他实施例中，在所述触控器件层230中形成的触控元件可以是电阻式触控元件、光学式触控元件或其他公知类型的触控元件，具体选用何种类型的触控元件由所述触控显示面板200的类型所决定。

相应的，本实施例还提供了一种触控显示面板的制造方法。请继续参考图2d，所述触控显示面板的制造方法包括：

步骤一：提供一面板结构210；

步骤二：在所述面板结构210上依次形成触控器件层230和保护层240；

步骤三：在所述保护层240上形成无机二氧化硅复合膜层250，所述无机二氧化硅复合膜层250具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性。

具体的，首先，如图2a所示，提供一面板结构210，所述面板结构210包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板的材质均是透明的，例如透明玻璃基板或透明塑料基板，所述第一基板和第二基板之间设置有显示器件，为简洁，图2a中仅以空白面板表示面板结构210。

接着，如图2b所示，在所述面板结构210上形成触控器件层230。本实施例中，在所述面板结构210上形成触控器件层230的具体过程如下：首先，通过气相沉积工艺或液相沉积工艺在所述面板结构210上形成金属层，并对所述金属层进行图形化以形成金属桥233；接着，通过气相沉积工艺或液相沉积工艺在所述金属桥233上形成绝缘层234；然后，通过气相沉积工艺在所述金属桥233和绝缘层234上形成透明导电层，并对所述透明导电层进行图形化以形成多个第一透明电极231和多个第二透明电极232。

其中，所述金属桥233采用的材料可为单一金属、复合金属、合金或金属化合物，例如铝、钼、钛、铜、氮化钼或其它适合金属或合金材料。所述金属桥233的结构可为单层结构或复合层结构。本实施例中，所述金属桥233采用的材料为钼、钼铝钼、钛或钛铝钛。

所述多个第一透明电极231和多个第二透明电极232采用的材料可为氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟锌锡(ZITO)、氧化镓铟锡(GITO)、氧化铟(InO)、氧化锌(ZnO)、氧化镓铟锌(GIZO)、氧化镓锌(GZO)掺氟的氧化锡(fluorine-dopedtinoxide，FTO)、石墨烯、纳米炭管、掺铝的氧化锌(aluminum-dopedzincoxide，AZO)或其它适合的透明导电材料。本实施例中，所述多个第一透明电极231和多个第二透明电极232采用的材料为氧化铟锡(ITO)或铟镓锌氧化物(indiumgalliumzincoxide，简称IGZO)。

所述绝缘层234的材料可为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化石墨烯、氮化石墨烯、氮氧化石墨烯或其它无机或有机绝缘材料。本实施例中，所述绝缘层334的材料采用氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)与氮化硅(SiNx)的组合物等。

如图2c所示，形成触控器件层230之后，在所述触控器件层230上形成保护层240。所述保护层240可以采用现有的材料，例如树脂材料。形成所述保护层240的工艺可以采用现有工艺，本发明不做详细说明。

然后，如图2d所示，在所述保护层240上形成无机二氧化硅复合膜层250。在所述保护层240上形成无机二氧化硅复合膜层250的过程包括：

首先，提供全氢聚硅氮烷，并利用弱极性基团和/或极性基团取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子，以形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

接着，采用液相涂覆工艺在所述保护层240上均匀涂布所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

然后，对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化，以形成无机二氧化硅复合膜层250。

其中，所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷是由全氢聚硅氮烷(英文名称为perhydropolysilazane，简称PHPS)制备的。所述全氢聚硅氮烷是一种基本骨架由Si-N、Si-H、N-H键构成的聚合物，由于其结构中的Si-H键活泼，易与水、氧气反应，在较为温和的条件下Si-N键就被Si-O键所取代，从而转化为高硬度透明的硅质膜。

利用弱极性基团和/或极性基团取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子后，形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷。所述弱极性基团包括卤素基团、烷烃基团、环烷烃基团、芳香烃基团、醚基团、酯基团等，所述极性基团包括环氧基团、聚四氟乙烯基团、聚丙烯酸酯共聚物基团等。所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷的分子结构式为：[—(SiH₂—NH)_n—R]。其中，基团R可以是CH3、F或环氧基，也可根据功能需要修饰为其它基团。

形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷之后，通过液相涂覆工艺将所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷涂布于所述保护层240上。所述液相涂覆工艺包括擦涂、旋涂、滴涂、浸涂等工艺方式。从涂布均匀性的观点出发，特别优选旋涂方式。

涂布完成之后，对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化，将所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷转化为无机二氧化硅复合膜层250。

对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化的工艺方法包括水氧固化工艺和UV固化工艺。其中，所述水氧固化工艺是将器件放置于一含水蒸气的不活泼气氛或氧气氛保护的反应容器中，使得器件表面涂布的部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷与水气或氧气发生反应，从而转化为无机二氧化硅复合膜层250。所述水氧固化工艺过程中主要涉及的反应为：

其中，水氧固化工艺的温度通常在1000°以下，水氧固化工艺的时间在1小时以上。优选的，水氧固化工艺的温度在20～450°之间，水氧固化工艺的时间在2～240小时之间。利用不活泼气体作为氛围气体时，可以采用氮气、氩气、氦气等。根据实际需要，也可以阶段性地改变固化温度或固化气氛的组成。

所述UV固化工艺是将器件放置于氧气氛围保护的反应容器中，并利用UV灯对其进行照射，使得器件表面涂布的部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷转化为无机二氧化硅复合膜层250。所述UV固化工艺过程中主要涉及的反应为：

本实施例中，所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子被弱极性基团和极性基团共同取代，形成了部分氢原子被弱极性基团和极性基团共同取代的聚硅氮烷，由所述部分氢原子被弱极性基团和极性基团共同取代的聚硅氮烷固化之后形成的无机二氧化硅复合膜层250不但耐磨，具有高透光率，而且膜层中既含有憎水基团(如-F)，又含有憎油基团(如-环氧基)，因此所述无机二氧化硅复合膜层250表面具有双疏特性(既疏水又疏油)。

在其他实施例中，所述聚硅氮烷的部分氢原子可以被弱极性基团或极性基团取代。若所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子被弱极性基团取代，形成部分氢原子被弱极性基团取代的聚硅氮烷，由于所述部分氢原子被弱极性基团取代的聚硅氮烷固化之后形成的无机二氧化硅复合膜层250中只含有憎水基团，因此所述无机二氧化硅复合膜层250具有单疏水特性。若所述聚硅氮烷的部分氢原子被极性基团取代，形成部分氢原子被极性基团取代的聚硅氮烷，由于所述部分氢原子被极性基团取代的聚硅氮烷固化之后形成的无机二氧化硅复合膜层250中只含有憎油基团，因此所述无机二氧化硅复合膜层250具有单疏油特性。

由此可见，通过调整取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子的基团，可以改变所述无机二氧化硅复合膜层250的表面特性，使其具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性。

至此，形成所述触控显示面板200。所述触控显示面板200系属于外挂式触控面板(On-CellTouchPanel)，即直接在显示面板的表面上形成电容式触控器件。

【实施例二】

请参考图3f，其为本发明实施例二的触控显示面板的结构示意图。如图3f所示，所述触控显示面板300包括：面板结构310、外盖基板320、触控器件层330、保护层340、无机二氧化硅复合膜层350和粘结层360；所述触控器件层330形成于所述外盖基板320的一侧，所述保护层340形成于所述触控器件层330上，所述无机二氧化硅复合膜层350形成于所述外盖基板320的另一侧，所述面板结构310通过所述粘结层360与所述外盖基板320中形成有触控器件层330的一侧固定；其中，所述无机二氧化硅复合膜层350具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性。

具体的，所述面板结构310通常包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板之间设置有显示器件，所述显示器件可以是有机发光显示器件OLED、薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)或其他现有的显示器件。相应的，所述触控显示面板300可为薄膜晶体管液晶显示面板、有机发光显示面板或其他现有的显示面板。

所述面板结构310和外盖基板320相对设置，所述外盖基板320中形成有触控器件层330的一侧靠近所述面板结构310。本实施例中，所述外盖基板320的材质也是透明的，包括透明玻璃基板、彩色滤光片基板(CF基板)或其他合适的基板。

如图3f所示，所述触控器件层330设置于所述面板结构310与外盖基板320之间，所述保护层340形成于所述触控器件层330上，用以防止所述触控器件层330发生物理性或化学性的损坏，所述无机二氧化硅复合膜层350设置于所述外盖基板320远离所述触控器件层330的一侧，用作所述触控显示面板300的外表面。

在所述触控显示面板300上设置一具有单疏水、单疏油或既疏水又疏油的无机二氧化硅复合膜层350作为外表面，能够有效抵抗触控体带来的油污或水汽，长期保持良好的触控及显示效果。

本实施例中，所述触控显示面板300为电容式触控显示面板，在所述触控器件层330中形成的是电容式触控元件。请继续参考图3f，所述触控器件层330包括多个第一透明电极331、多个第二透明电极332、金属桥333和绝缘层334，所述金属桥333设置于所述外盖基板320上，所述绝缘层334设置于所述金属桥333上，所述多个第一透明电极331沿第一方向X设置于所述金属桥333和绝缘层334上，所述多个第二透明电极332沿第二方向Y设置于所述金属桥333和绝缘层334上。

相应的，本实施例还提供了一种触控显示面板的制造方法。请继续参考图3f，所述触控显示面板的制造方法包括：

步骤一：提供一外盖基板320；

步骤二：在所述外盖基板320的一侧依次形成触控器件层330和保护层340；

步骤三：在所述外盖基板320的另一侧形成无机二氧化硅复合膜层350，所述无机二氧化硅复合膜层350具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性；

步骤四：提供一面板结构310，并在所述面板结构310的一侧形成粘结层360；

步骤五：将所述外盖基板320中形成有触控器件层330的一侧面对所述面板结构310，并通过所述粘结层360将所述面板结构310与外盖基板320结合形成触控显示面板300。

具体的，首先，如图3a所示，提供外盖基板320。所述外盖基板320的材质是透明的，例如透明玻璃基板或透明塑料基板或其他合适的透明基板。

接着，如图3b所示，在所述外盖基板320的一侧形成触控器件层330。形成触控器件层330的具体过程如下：首先，通过气相沉积工艺或液相沉积工艺在所述外盖基板320上形成金属层，并对所述金属层进行图形化以形成金属桥333；接着，通过气相沉积工艺或液相沉积工艺在所述金属桥333上形成绝缘层334；然后，通过气相沉积工艺在所述缘层334上形成透明导电层，并对所述透明导电层进行图形化以形成多个第一透明电极331和多个第二透明电极332。

如图3c所示，形成触控器件层330之后，在所述触控器件层330上形成保护层340。所述保护层340可以采用现有的材料，例如树脂材料。形成所述保护层340的工艺可以采用现有工艺，本发明不做详细说明。

然后，如图3d所示，在所述外盖基板320的另一侧形成无机二氧化硅复合膜层350。形成无机二氧化硅复合膜层350的过程包括：

首先，提供全氢聚硅氮烷，并利用弱极性基团和/或极性基团取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子，以形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

接着，采用液相涂覆工艺在所述外盖基板320的另一侧均匀涂布所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

然后，对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化。

其中，所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷作为涂料涂布于所述外盖基板320形成有所述触控器件层330和保护层340的表面相对的一表面上。所述弱极性基团包括卤素基团、烷烃基团、环烷烃基团、芳香烃基团、醚基团、酯基团等，所述极性基团包括环氧基团、聚四氟乙烯基团、聚丙烯酸酯共聚物基团等。

然后，如图3e所示，提供一面板结构310。所述面板结构310包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板的材质均是透明的，例如透明玻璃基板或透明塑料基板，所述第一基板和第二基板之间设置有显示器件，为简洁，图3e中仅以空白面板表示面板结构310。

之后，如图3e所示，在所述面板结构310的一侧形成粘结层360。

最后，如图3f所示，将所述外盖基板320中形成有触控器件层330的一侧面对所述面板结构310，即将形成有无机二氧化硅复合膜层350的一侧背对所述面板结构310，并通过所述粘结层360将所述面板结构310与外盖基板320粘合固定形成触控显示面板300。

至此，形成所述触控显示面板300。所述触控显示面板300系属于外加式触控面板(Out-CellTouchPanel)，即先在所述外盖基板320上形成电容式触控器件，再藉由粘结层360将所述外盖基板320与面板结构310结合形成触控显示面板300。

在本实施例中，由于所述触控器件层330直接制作于外盖基板320上，因此其制作过程不会影响所述面板结构310的光学特性。

需要说明的是，本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

综上，在本发明实施例提供的触控显示面板及其制造方法中，通过设置具有单疏水、单疏油或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层作为触控显示面板的外表面，能够有效抵抗触控体带来的油污或水汽，长期保持良好的触控及显示效果。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (10)

1.一种触控显示面板，其特征在于，包括：面板结构、触控器件层、保护层和一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层；

所述触控器件层形成于所述面板结构上，所述保护层形成于所述触控器件层上，所述无机二氧化硅复合膜层形成于所述保护层上。

2.如权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述无机二氧化硅复合膜层由聚硅氮烷固化而成，所述聚硅氮烷的部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代；

所述弱极性基团包括卤素基团、烷烃基团、环烷烃基团、芳香烃基团、醚基团或酯基团，所述极性基团包括环氧基团、聚四氟乙烯基团或聚丙烯酸酯共聚物基团。

3.如权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板为电容式触控显示面板；所述触控器件层包括多个第一透明电极、多个第二透明电极、金属桥和绝缘层；所述金属桥设置于所述面板结构上，所述绝缘层设置于所述金属桥上，所述多个第一透明电极沿第一方向设置于所述金属桥和绝缘层上，所述多个第二透明电极沿第二方向设置于所述金属桥和绝缘层上。

4.一种触控显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供一面板结构；

在所述面板结构上依次形成触控器件层和保护层；以及

在所述保护层上形成一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性无机二氧化硅复合膜层。

5.如权利要求4所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在所述保护层上形成无机二氧化硅复合膜层的过程包括：

提供全氢聚硅氮烷，并利用弱极性基团和/或极性基团取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子，以形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

采用液相涂覆工艺在所述保护层上均匀涂布部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；以及

对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化，以形成无机二氧化硅复合膜层。

6.一种触控显示面板，其特征在于，包括：面板结构、外盖基板、触控器件层、保护层和一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层和粘结层；

所述触控器件层形成于所述外盖基板的一侧，所述保护层形成于所述触控器件层上，所述无机二氧化硅复合膜层形成于所述外盖基板的另一侧，所述面板结构通过所述粘结层与所述外盖基板中形成有触控器件层的一侧固定。

7.如权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，所述无机二氧化硅复合膜层由聚硅氮烷固化而成，所述聚硅氮烷的部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代；

所述弱极性基团包括卤素基团、烷烃基团、环烷烃基团、芳香烃基团、醚基团或酯基团，所述极性基团包括环氧基团、聚四氟乙烯基团或聚丙烯酸酯共聚物基团。

8.如权利要求7所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板为电容式触控显示面板；所述触控器件层包括多个第一透明电极、多个第二透明电极、金属桥和绝缘层；所述金属桥设置于所述外盖基板上，所述绝缘层设置于所述金属桥上，所述多个第一透明电极沿第一方向设置于所述金属桥绝缘层上，所述多个第二透明电极沿第二方向设置于所述金属桥和绝缘层上。

9.一种触控显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供一外盖基板；

在所述外盖基板的一侧依次形成触控器件层和保护层；

在所述外盖基板的另一侧形成一具有单疏水特性、单疏油特性或既疏水又疏油特性的无机二氧化硅复合膜层；

提供一面板结构，并在所述面板结构的一侧形成粘结层；以及

将所述外盖基板中形成有触控器件层的一侧面对所述面板结构，并通过所述粘结层将所述面板结构与外盖基板结合形成触控显示面板。

10.如权利要求9所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在所述外盖基板的另一侧形成无机二氧化硅复合膜层的过程包括：

提供全氢聚硅氮烷，并利用弱极性基团和/或极性基团取代所述全氢聚硅氮烷的部分氢原子，以形成部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；

采用液相涂覆工艺在所述外盖基板上均匀涂布部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷；以及

对所述部分氢原子被弱极性基团和/或极性基团取代的聚硅氮烷进行固化，以形成无机二氧化硅复合膜层。