CN105044943B - 蚀刻装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种蚀刻装置，其包括存储腔及与存储腔相邻的蚀刻腔，所述存储腔与蚀刻腔之间通过挡板分隔，所述蚀刻腔内设置蚀刻喷口，所述挡板上设有入口，位于蚀刻腔内相对入口设有风帘，所述蚀刻装置还包括清洗组件，所述清洗组件包括罩体、喷淋管及分流管，所述罩体可旋转的装于所述挡板上与挡板形成清洗室，所述入口位于所述清洗室内，所述喷淋管位于入口两侧并朝向入口，所述分流管位于罩体上与蚀刻喷口相对的方向并连通清洗室与外界。
Description
技术领域
本发明涉及蚀刻制造领域，尤其涉及一种蚀刻装置。
背景技术
现有技术中，在液晶面板制造过程中，需要进行蚀刻来在玻璃基板上形成不同图案的膜层，特别是使用湿蚀刻，通过在蚀刻腔内对玻璃板上的某一层进行图案形成。由于蚀刻时喷洒溶液，为了防止容溶液进入液晶面板存储腔，会在蚀刻腔入口设置风帘，但是当玻璃基板进入蚀刻腔的过程中，风帘上存在在蚀刻时残留的粉尘等杂质，会污染下一个进入蚀刻腔的玻璃基板，如造成玻璃基板上光阻层的损坏，而影响后续工序的良率。
发明内容
本发明提供一种蚀刻装置，解决蚀刻腔内污染玻璃基板的技术问题，保证基板的良率。
为了实现上述目的，本发明实施方式提供如下技术方案：
本发明提供一种蚀刻装置，其包括存储腔及与存储腔相邻的蚀刻腔，所述存储腔与蚀刻腔之间通过挡板分隔，所述蚀刻腔内设置蚀刻喷口，所述挡板上设有入口，位于蚀刻腔内相对入口设有风帘，所述蚀刻装置还包括清洗组件，所述清洗组件包括罩体、喷淋管及分流管，所述罩体可旋转的装于所述风帘上与挡板形成清洗室，所述入口位于所述清洗室内，所述喷淋管位于入口两侧并朝向入口，所述分流管位于罩体上与蚀刻喷口相对的方向并连通清洗室与外界连通。
其中，所述风帘位于所述入口相对两侧，所述罩体包括第一罩体及与第一罩体闭合的形成清洗室的第二罩体，所述第一罩体及第二罩体分别可旋转的装于所述入口两侧的挡板上。
其中，所述第一罩体位于所述第二罩体下方，所述第一罩体设有底壁，所述分流管装于底壁上，用于引流清洗室内的清洗液。
其中，所述第一罩体与第二罩体通过转轴转动的装于挡板上。
其中，所述风帘与所述挡板之间具有流道，所述喷淋管位于蚀刻腔内并与流道贯通，所述流道的端口位于所述清洗室内并朝向所述入口。
其中，所述喷淋管位于所述清洗室内并朝向所述风帘位置。
其中，所述蚀刻装置还包括传动室，所述传动室内设有传动齿轮，所述分流管一端连通所述清洗室，另一端连通所述传动室。
其中，所述挡板上位于入口一侧设有盖体，所述盖体滑动装于挡板上以遮蔽入口。
其中，所述蚀刻装置使用离子水经喷淋管进入清洗室清洗。
其中，所述蚀刻装置还包括控制单元，用于启动及控制所述蚀刻装置作业。
本发明所述的蚀刻装置，在入口两侧设置罩体，将风帘及入口收容于清洗室内，通过喷淋管进行清洗，可以避免代加工的基板进入蚀刻腔时，风帘上的颗粒污染基板，避免破坏基板的性能，保证了基板后续加工的品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。
图1是本发明较佳实施方式中的蚀刻装置结构示意图。
图2是本发明的蚀刻装置示意图，其中罩体处于闭合状态。
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。
本发明的较佳实施例提供了一种蚀刻装置及蚀刻装置。所述蚀刻装置用于在浸泡喷式蚀刻机对液晶显示器玻璃基板进行蚀刻时，为蚀刻液体提供气压。
请参阅图1与图2，本发明提供一种蚀刻装置，其用于对液晶面板制造过程中的蚀刻作业，比如液晶面板的阵列基板的膜层的图案化。所述蚀刻装置包括存储腔10及与存储腔10相邻的蚀刻腔20。所述存储腔10与蚀刻腔20之间通过挡板30分隔。所述蚀刻腔20内设置蚀刻喷口21。所述挡板30上设有入口31，位于蚀刻腔20内相对入口31设有风帘35。所述蚀刻装置还包括清洗组件(图未标)。本实施例中，所述清洗组件包括罩体41、喷淋管42及分流管43。所述罩体41可旋转的装于所述挡板30上与挡板30之间形成清洗室44。所述入口31位于所述清洗室44内，所述喷淋管42位于入口31两侧并朝向入口31，所述分流管43位于罩体41上与蚀刻喷口21相对的方向并连通清洗室44与外界连通。
在本发明的较佳实施例中，所述风帘35与所述挡板30之间具有流道36，所述喷淋管42位于蚀刻腔20内并与流道36贯通，所述流道36的端口位于所述清洗室44内并朝向所述入口31。
具体的，所述存储腔10与蚀刻腔20为两个通过挡板30分割而成的腔室。所述存储腔10用于阵列基板在进入蚀刻腔前的安放及运送空间。所述入口31开设于挡板30中部位置，连通存储腔10与蚀刻腔20，用于存储腔10内的基板进入蚀刻腔20内。所述蚀刻腔20包括顶壁22及底壁23。所述蚀刻喷口21为多个，并且间隔设于所述顶壁22上。当所述阵列基板从入口31进入所述蚀刻腔20后，所述蚀刻喷口21对所述阵列基板进行蚀刻喷淋作业。所述风帘35用于保护所述挡板30，防止挡板30被蚀刻液体破坏。
进一步的，所述风帘35位于所述入口31相对两侧。所述罩体41包括第一罩体411及与第一罩体411闭合的形成清洗室44的第二罩体412。所述第一罩体411及第二罩体412分别可旋转的装于所述入口31两侧的挡板30上。具体的，所述风帘35位于所述入口31两侧并将所述挡板30遮蔽。所述罩体41为矩形罩状。本实施例中，为了更方便入口31进入带蚀刻的基板，通过所述第一罩体411与第二罩体412闭合形成所述罩体41。所述第一罩体411与第二罩体412的边缘通过旋转机构装于挡板30的边缘并将部分风帘35及入口31遮蔽，所述第一罩体411与第二罩体与挡板形成所述与蚀刻腔20隔离的清洗室44；部分风帘35及入口31位于清洗室44内。
本实施例中，所述流道36的端口朝向入口31位置。所述喷淋管42固定于所述蚀刻腔20顶壁22及底壁23并连通所述流道36。当对入口31进入的基板进行清洗时，所述顶壁22及底壁23上的喷淋管42向入口31方向喷入清洗液，清洗液从流道36喷洒入所述基板上，实现对基板的清洗。本发明中，所述蚀刻装置使用离子水经喷淋管进入清洗室44多基板进行清洗。
进一步的，所述第一罩体411位于所述第二罩体412下方，所述第一罩体411设有底壁413，所述分流管43装于底壁413上，用于引流清洗室44内的清洗液。所述蚀刻装置还包括传动室(图未示)，所述传动室内设有传动齿轮，所述分流管一端连通所述清洗室，另一端连通所述传动室。本实施例中，当对所述基板进行清洗后，清洗液会通过分流管43流出清洗室，避免污染蚀刻腔20。然后使第一罩体411及第二罩体412向蚀刻腔20内翻转打开，所述基板被送入蚀刻腔20内进行蚀刻作业。而流出清洗室的清洗液会进入传动室内，直接对传动齿轮进行润滑，充分利用了资源。
进一步的，所述第一罩体411与第二罩体412通过转轴转动的装于挡板30上。本实施例中，所述第一罩体411与第二罩体412为三端封闭一端开口的槽体，第一罩体411与第二罩体412闭合形成矩形槽体。所述第一罩体411与第二罩体412通过转轴装于所述风帘35侧边的挡板30上。所述第一罩体411与第二罩体412也可以选择其他旋转方式进行旋转，不限于本实施方式，比如铰链结构，可以助推罩体41打开。
进一步的，所述蚀刻装置还包括控制单元，用于启动及控制所述蚀刻装置作业。所述控制单元可以控制罩体的打开与关闭，喷淋管的作业与停止，基板的传送与停止以及蚀刻作业与停止等。所述控制单元通过终端进行控制。
进一步的，所述挡板30上位于入口31一侧设有盖体33，所述盖体33滑动装于挡板30上以遮蔽入口31。所述盖板33通过滑轨、弹性体等方式装于挡板30上并可平行于挡板30滑动，一遮蔽所述入口31，防止外界杂质进入蚀刻腔20。
当使用所述蚀刻装置对基板进行蚀刻时，通过传送装置将基板送入存储腔，经存储腔通过入口进入蚀刻腔，与此同时，罩体41相对闭合形成所述清洗室，当基板进入清洗时进行清洗，然后开启罩体41使基板进入蚀刻腔20内蚀刻喷口下方进行蚀刻。
本发明所述的蚀刻装置，在入口两侧设置罩体，将风帘及入口收容于清洗室内，通过喷淋管进行清洗，可以避免的基板进入蚀刻腔20时，风帘上的颗粒污染基板，避免破坏基板的性能，保证了基板后续加工的品质。
在本发明的另一实施例中。所述喷淋管42位于所述清洗室内并朝向所述风帘35位置。本实施例中，在基板即将进入所述入口31时，先对所述风帘35进行清洗，待风帘清洗干净后打开入口将基板送入蚀刻腔。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种蚀刻装置，其包括存储腔及与存储腔相邻的蚀刻腔，其特征在于，所述存储腔与蚀刻腔之间通过挡板分隔，所述蚀刻腔内设置蚀刻喷口，所述挡板上设有入口，位于蚀刻腔内相对入口设有风帘，所述风帘位于所述入口相对两侧；所述蚀刻装置还包括清洗组件，所述清洗组件包括罩体、喷淋管及分流管，所述罩体包括第一罩体及第二罩体，所述第一罩体及第二罩体分别可旋转的装于所述入口两侧的挡板上，第一罩体、第二罩体及所述挡板形成清洗室，所述入口位于所述清洗室内，所述喷淋管位于入口两侧并朝向入口，所述分流管位于罩体上与蚀刻喷口相对的方向并连通清洗室与外界。
2.如权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述第一罩体位于所述第二罩体下方，所述第一罩体设有底壁，所述分流管装于底壁上，用于引流清洗室内的清洗液。
3.如权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述第一罩体与第二罩体通过转轴转动的装于挡板上。
4.如权利要求2所述的蚀刻装置，其特征在于，所述风帘与所述挡板之间具有流道，所述喷淋管位于蚀刻腔内并与流道贯通，所述流道的端口位于所述清洗室内并朝向所述入口。
5.如权利要求2所述的蚀刻装置，其特征在于，所述喷淋管位于所述清洗室内并朝向所述风帘位置。
6.如权利要求4所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括传动室，所述传动室内设有传动齿轮，所述分流管一端连通所述清洗室，另一端连通所述传动室。
7.如权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述挡板上位于入口一侧设有盖体，所述盖体滑动装于挡板上以遮蔽入口。
8.如权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置使用离子水经喷淋管进入清洗室清洗。
9.如权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括控制单元，用于启动及控制所述蚀刻装置作业。
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