CN201520802U

CN201520802U - 一种湿蚀刻设备

Info

Publication number: CN201520802U
Application number: CN2009202042234U
Authority: CN
Inventors: 欧阳志升; 陈建同; 姚洋羽; 廖钦盛
Original assignee: CPT Display Technology Shenzheng Ltd; Chunghwa Picture Tubes Ltd
Current assignee: Cpt Display Technology (shenzhen)co Ltd; Chunghwa Picture Tubes Ltd
Priority date: 2009-08-21
Filing date: 2009-08-21
Publication date: 2010-07-07
Anticipated expiration: 2019-08-21

Abstract

本实用新型提供了一种湿蚀刻设备。所述湿蚀刻设备包括：一蚀刻槽，具有一用以供一基板进入所述蚀刻槽内的开口，所述开口位于所述蚀刻槽的一侧壁；一闸门，设于所述开口处，所述闸门具有一用于遮蔽及暴露出所述开口的门板，且所述门板设置成与水平面之间具有一不为零的夹角；一提供液体的液滴装置，所述液滴装置设置成使液体顺着所述门板，由高处向低处流动；以及一用以防止液体流入所述蚀刻槽内的导流片，所述导流片设置于所述开口的下缘。本实用新型利用湿蚀刻设备可除去蚀刻液在基板入口通道处形成的结晶物，解决基板被刮伤或结晶物掉落在基板上的问题。

Description

一种湿蚀刻设备

技术领域

本实用新型属于湿蚀刻设备，尤其涉及一种具有可除去结晶物功能的湿蚀刻设备。

背景技术

习知利用喷洒蚀刻液以进行湿蚀刻制程的蚀刻机台，喷洒的蚀刻液容易在玻璃基板的入口通道处形成结晶，所形成的结晶物易因机台振动而掉落在玻璃基板上，造成玻璃基板上的芯片组件或半导体组件的刮伤，进而导致组件中缺角欠损及断线。此种情况更常发生在增加制程温度时，增加制程温度可以加快蚀刻速率，使产能提升，然而高温会使得蚀刻液中的水分以较快的速度蒸发，而形成更多结晶，所形成的结晶物若掉落在玻璃基板上，对于产品的良率是一大威胁。

请参阅图1，是现有的湿蚀刻设备1的结构示意图。在湿蚀刻设备1中，蚀刻制程是在蚀刻槽11内进行。需注意的是，图1中仅显示蚀刻槽11的一部分，未将蚀刻槽11所有的侧壁示出。如图1所示，以蚀刻槽11的侧壁110为界划分内外，内部为进行蚀刻的环境，外部为一般的正常环境。蚀刻槽11的侧壁110开设一开口112，基板10经由该开口112由外部环境进入蚀刻槽11内进行蚀刻。

在湿蚀刻设备1中，在蚀刻槽11的侧壁110的所述开口112处，设有闸门150。闸门150上有一门板151及与该门板151连结的一扳动轴153，当扳动轴153活动时，可使门板151在一第一位置及一第二位置间移动。门板151的大小略大于蚀刻槽11的所述开口112，当门板151在第一位置时，足可遮蔽该开口112，以免蚀刻槽11内的蚀刻液喷溅或扩散至外部；当门板151在第二位置时，该开口112即暴露出或留有空隙以使基板10通过多个输送滚轮120的传动进入到蚀刻槽11内。

在湿蚀刻设备1中，蚀刻槽11内设有多个蚀刻模块160，其包含一分流器162及一喷嘴164，蚀刻液经由分流器162分流并从喷嘴164喷出以形成如图1所示的圆锥形喷流165，蚀刻液喷洒在基板10并对基板10上涂布的材料进行选择性的蚀刻。

然而，在现有的湿蚀刻设备1中进行蚀刻制程时所使用的蚀刻液，容易在基板10的入口通道处形成结晶，附着在闸门150的门板151上，结晶物在闸门150活动时，容易因振动而掉落在基板10上，影响产品良率，门板151上的结晶物若持续累积形成钟乳石状物，则可能因与基板10接触而造成基板10刮伤。

此外，为清除结晶物，湿蚀刻设备必须停机，如此将缩小湿蚀刻设备的稼动率，而对基板的产出及人力的耗费等生产成本皆有不利的影响。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种具有可除去结晶物功能、减少清除结晶物时所需的人力耗费，提高机台的稼动率以增加基板的产出的湿蚀刻设备。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种湿蚀刻设备，所述湿蚀刻设备包括：

一蚀刻槽，具有一用以供一基板进入所述蚀刻槽内的开口，所述开口位于所述蚀刻槽的一侧壁；

一闸门，设于所述开口处，所述闸门具有一用于遮蔽及暴露出所述开口的门板，且所述门板设置成与水平面之间具有一不为零的夹角；

一提供液体的液滴装置，所述液滴装置设置成使液体顺着所述门板，由高处向低处流动；以及

一用以防止液体流入所述蚀刻槽内的导流片，所述导流片设置于所述开口的下缘。

所述湿蚀刻设备还包括：

多个用于输送所述基板的输送滚轮，排列于所述蚀刻槽的侧壁两侧。

所述闸门包括一用以使所述门板在一第一位置及一第二位置间移动的扳动轴，所述扳动轴与所述门板连接。

所述导流片为长条状且横截面为三角形；所述导流片具有一黏着部，固定于所述开口的下缘；所述导流片具有一用以导引液体的流向，以防止液体流入所述蚀刻槽内的导流部。

一种湿蚀刻设备，所述湿蚀刻设备包括：

一导流片，其包括一黏着部及一导流部，所述导流片利用所述黏着部固定于所述开口的下缘；以及

一提供液体的液滴装置，所述液滴装置设置成使液体顺着门板及导流片的导流部由上往下流动，液体通过导流部的导引，以避免流入所述蚀刻槽内。

所述湿蚀刻设备还包括：

一种湿蚀刻设备，所述湿蚀刻设备包括：

一提供纯水的液滴装置，所述液滴装置设置成使纯水顺着所述门板及导流片的导流部由上往下流动，纯水通过导流部的导引，以避免流入蚀刻槽内。

所述湿蚀刻设备还包括：

本实用新型所提供的湿蚀刻设备，可除去闸门的门板上附着的结晶物，有效解决结晶物容易掉落在基板造成基板上的芯片组件或半导体组件的缺角欠损及断线的问题。应用本湿蚀刻设备不仅可改善产品良率，另一方面可免除停机进行清除结晶物的工作，减少人力耗费，机台的稼动率也因此提高，基板的产出增加。

附图说明

图1是现有技术提供的湿蚀刻设备的结构示意图。

图2是本实用新型提供的湿蚀刻设备的结构示意图。

图3A是本实用新型提供的湿蚀刻设备的闸门的立体图。

图3B是本实用新型提供的湿蚀刻设备中设置于蚀刻槽开口的下缘的导流片的立体图。

图3C是图3B中A部的放大详图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图2，是本实用新型实施例提供的湿蚀刻设备2的结构示意图。在湿蚀刻设备2中，蚀刻制作过程是在蚀刻槽21内进行。需注意的是，图2中仅显示蚀刻槽21的一部分，未将蚀刻槽21所有的侧壁示出。蚀刻槽21内设有多个蚀刻模块260，其包括一分流器262及一喷嘴264，蚀刻液经由分流器262分流并从喷嘴264喷出以形成如图2所示的圆锥形喷流265。如图2所示，以蚀刻槽21的侧壁210为界划分内外，内部为进行蚀刻的环境，外部为一般的正常环境。蚀刻槽21的侧壁210开设一开口212，基板20经由该开口212由外部环境进入蚀刻槽21内进行蚀刻，由蚀刻液形成的圆锥形喷流265喷洒在基板20上并对基板20上涂布的材料进行选择性的蚀刻。

在湿蚀刻设备2中，在蚀刻槽21的侧壁210的所述开口212处，设有闸门250。闸门250上有一门板251及与该门板251连结的一扳动轴253，当扳动轴253活动时，可使门板251在一第一位置及一第二位置间移动。门板251的大小略大于蚀刻槽21的开口212，当门板251在第一位置时，可遮蔽该开口212，以免蚀刻槽21内的蚀刻液喷溅或扩散至外部；当门板251在第二位置时，该开口212即暴露出或留有空隙以使基板20通过多个输送滚轮220的传动进入到蚀刻槽21内。该输送滚轮220，排列在蚀刻槽21的侧壁210两侧，用于输送基板20，以使基板20经蚀刻槽21的开口212进入蚀刻槽21内。

在一实施例中，闸门250可设计为直线扳动式，通过扳动轴253在两定点间直线移动以推或拉的方式带动门板251，使门板251在第一位置时遮蔽该开口212，在第二位置时暴露出该开口212。在另一实施例中，闸门250可设计为转动开关式，当以扳动轴253的轴心转动时，门板251也随之转动，当门板251转动至第一位置时，可遮避开开口212；当门板251转动至第二位置时，该开口212也随之暴露。需注意的是，本实施例也可应用于以其它方式设计的闸门，不仅限于上述两种方式。

请参阅图2及图3A，由于蚀刻液形成的结晶容易累积在闸门250的门板251上，本实施例的湿蚀刻设备2通过加装一液滴装置240提供一易于溶解结晶物的液体，而且通过倾斜式设计的门板251，该液体能够顺着门板251由高处向低处流，与此同时，该液体会有一部份渗入门板251他处，而将门板251上的结晶物溶出，溶出液于后排出。本实施例的湿蚀刻设备2还包括一导流片230设置于开口212的下缘，由于导流片230高度的设计，能够避免该液体流入蚀刻槽21内。请参阅图3A，在湿蚀刻设备2中，闸门250的门板251为倾斜式设计，非平行于水平面，而是与水平面呈一定的角度(θ)。在一实施态样中，该角度(θ)可约略设计为10度上下。因此，当将液滴装置240提供的液体从一输液管242输送至门板251上缘的相对高处时，该液体由高处流向低处，沿图3A所示的P方向流动，同时该液体会有一部份渗入门板251他处，将门板251上邻近蚀刻槽21的开口212一侧的结晶物溶解而后排出。

请进一步参阅图3B及图3C，本实用新型实施例并利用一长条状且其横截面为三角形的导流片230导引该液体的流向，以防止该液体流入蚀刻槽21内，其中导流片230包括一黏着部234及一导流部232(如图3C所示)，黏着部234与蚀刻槽21的开口212下缘贴附黏着，导流部232靠近蚀刻槽21内部的地方为相对高处，该液体通过导流部232的导引，而不会流入蚀刻槽21内，因此溶出液不会流入蚀刻槽21内而影响蚀刻液浓度。本实施例中，由于闸门250的门板251为倾斜式设计，故大部分液体会顺着门板251流动至下方排出，仅小部分液体会渗入门板251他处，渗入的液体将附着在其上的结晶物溶解而后排出。此外，导流片230的材质可为聚氯乙烯(Polyvinyl Chloride，PVC)。

在一实施例中，输液管242可固定于闸门250上，不管闸门250为打开或关闭，输液管242的液体流出口与闸门250的门板251的相对位置皆保持不变。在另一实施例中，可控制液滴装置240输出液体的时点，例如：闸门250打开时输出液体，关闭时不输出液体，或者是闸门250关闭时输出液体，打开时不输出液体。上述的实施态样端视闸门250的活动方式与门板251的设计，液体输出时与其配合达成溶解结晶物的目的即可。此外，液体输出的流量也可视情况需要而做调整，调整适当的流量以避免过大会流入蚀刻槽21内过小则无法完成结晶物清除工作诸类的情况发生。

根据本实用新型实施例的湿蚀刻设备可解决蚀刻液形成的结晶物依附于基板入口通道处造成基板上的芯片组件或半导体组件的缺角欠损或断线的问题。举例而言，在蚀刻槽内使用铬蚀刻液进行铬蚀刻制程时，本实用新型实施例提供的湿蚀刻设备可除去铬蚀刻液附着于闸门或门板上形成的结晶物，有助于产品的良率的提升。本实施例中，可利用纯水来将结晶物溶解，利用纯水的优点是较不易产出额外的物质影响蚀刻槽内部环境，而造成污染。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims

1.一种湿蚀刻设备，其特征在于，所述湿蚀刻设备包括：

2.如权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述湿蚀刻设备还包括：

3.如权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述闸门包括一用以使所述门板在一第一位置及一第二位置间移动的扳动轴，所述扳动轴与所述门板连接。

4.如权利要求1所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述导流片为长条状且横截面为三角形；所述导流片具有一黏着部，固定于所述开口的下缘；所述导流片具有一用以导引液体的流向，以防止液体流入所述蚀刻槽内的导流部。

5.一种湿蚀刻设备，其特征在于，所述湿蚀刻设备包括：

6.如权利要求5所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述湿蚀刻设备还包括：

7.如权利要求5所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述闸门包括一用以使所述门板在一第一位置及一第二位置间移动的扳动轴，所述扳动轴与所述门板连接。

8.一种湿蚀刻设备，其特征在于，所述湿蚀刻设备包括：

9.如权利要求8所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述湿蚀刻设备还包括：

10.如权利要求8所述的湿蚀刻设备，其特征在于，所述闸门包括一用以使所述门板在一第一位置及一第二位置间移动的扳动轴，所述扳动轴与所述门板连接。