CN105022223A - 多级灰度光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法 - Google Patents

多级灰度光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105022223A
CN105022223A CN201410389535.2A CN201410389535A CN105022223A CN 105022223 A CN105022223 A CN 105022223A CN 201410389535 A CN201410389535 A CN 201410389535A CN 105022223 A CN105022223 A CN 105022223A
Authority
CN
China
Prior art keywords
semi
transparent film
multilevel
photomask
photo mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410389535.2A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
金台勲
金成辰
李锡薫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Publication of CN105022223A publication Critical patent/CN105022223A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G03F1/28—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof with three or more diverse phases on the same PSM; Preparation thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
CN201410389535.2A 2014-05-01 2014-08-08 多级灰度光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法 Pending CN105022223A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014094482A JP2015212720A (ja) 2014-05-01 2014-05-01 多階調フォトマスクの製造方法、多階調フォトマスク及び表示装置の製造方法
JP2014-094482 2014-05-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105022223A true CN105022223A (zh) 2015-11-04

Family

ID=54412291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410389535.2A Pending CN105022223A (zh) 2014-05-01 2014-08-08 多级灰度光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2015212720A (ko)
KR (2) KR101640082B1 (ko)
CN (1) CN105022223A (ko)
TW (2) TWI530753B (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107402496A (zh) * 2016-05-18 2017-11-28 Hoya株式会社 光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法
CN107817648A (zh) * 2016-09-13 2018-03-20 Hoya株式会社 光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法
CN108196421A (zh) * 2017-12-14 2018-06-22 深圳市路维光电股份有限公司 灰阶掩膜版制作方法
CN108693697A (zh) * 2017-04-04 2018-10-23 株式会社Sk电子 光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法
CN111367142A (zh) * 2018-12-26 2020-07-03 聚灿光电科技（宿迁）有限公司 一种包含不同透光性的新型光学掩膜版

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201823855A (zh) * 2016-09-21 2018-07-01 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法
JP6259508B1 (ja) * 2016-12-28 2018-01-10 株式会社エスケーエレクトロニクス ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1721960A (zh) * 2004-07-12 2006-01-18 Hoya株式会社 灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法
JP2006018001A (ja) * 2004-07-01 2006-01-19 Dainippon Printing Co Ltd 階調フォトマスクおよびその製造方法
CN1821867A (zh) * 2005-02-18 2006-08-23 Hoya株式会社 灰调掩模的制造方法及灰调掩模
CN101546116A (zh) * 2008-03-28 2009-09-30 Hoya株式会社 多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法
JP2011186506A (ja) * 2011-07-01 2011-09-22 Sk Electronics:Kk 中間調フォトマスク
CN102654730A (zh) * 2005-07-21 2012-09-05 信越化学工业株式会社 光掩模坯、光掩模及其制作方法
CN103383522A (zh) * 2012-05-02 2013-11-06 Hoya株式会社 光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法
CN103383523A (zh) * 2012-05-02 2013-11-06 Hoya株式会社 光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06188270A (ja) * 1992-12-15 1994-07-08 Mitsubishi Electric Corp 電界効果トランジスタの製造方法及びパターン転写マスク
JPH0798493A (ja) * 1993-09-28 1995-04-11 Toppan Printing Co Ltd 位相シフトマスク及びその製造方法
JP4780264B2 (ja) * 2001-05-16 2011-09-28 信越化学工業株式会社 クロム系フォトマスクの形成方法
JP4521694B2 (ja) 2004-03-09 2010-08-11 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスク及び薄膜トランジスタの製造方法
JP4919220B2 (ja) * 2005-02-28 2012-04-18 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスク
JP4693451B2 (ja) * 2005-03-22 2011-06-01 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの製造方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法
JP4968709B2 (ja) * 2006-03-17 2012-07-04 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの製造方法
JP4809752B2 (ja) * 2006-11-01 2011-11-09 株式会社エスケーエレクトロニクス 中間調フォトマスク及びその製造方法
JP2009080421A (ja) * 2007-09-27 2009-04-16 Hoya Corp マスクブランク、及びインプリント用モールドの製造方法
JP2009237491A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Hoya Corp フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法
JP2011159875A (ja) * 2010-02-02 2011-08-18 Hitachi Cable Ltd 半導体装置用テープキャリアの製造方法
JP5739375B2 (ja) * 2012-05-16 2015-06-24 信越化学工業株式会社 ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006018001A (ja) * 2004-07-01 2006-01-19 Dainippon Printing Co Ltd 階調フォトマスクおよびその製造方法
CN1721960A (zh) * 2004-07-12 2006-01-18 Hoya株式会社 灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法
CN100432809C (zh) * 2004-07-12 2008-11-12 Hoya株式会社 灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法
CN1821867A (zh) * 2005-02-18 2006-08-23 Hoya株式会社 灰调掩模的制造方法及灰调掩模
CN102654730A (zh) * 2005-07-21 2012-09-05 信越化学工业株式会社 光掩模坯、光掩模及其制作方法
CN101546116A (zh) * 2008-03-28 2009-09-30 Hoya株式会社 多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法
JP2011186506A (ja) * 2011-07-01 2011-09-22 Sk Electronics:Kk 中間調フォトマスク
CN103383522A (zh) * 2012-05-02 2013-11-06 Hoya株式会社 光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法
CN103383523A (zh) * 2012-05-02 2013-11-06 Hoya株式会社 光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107402496A (zh) * 2016-05-18 2017-11-28 Hoya株式会社 光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法
CN107402496B (zh) * 2016-05-18 2021-05-11 Hoya株式会社 光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法
CN113009777A (zh) * 2016-05-18 2021-06-22 Hoya株式会社 光掩模及显示装置的制造方法
CN107817648A (zh) * 2016-09-13 2018-03-20 Hoya株式会社 光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法
CN108693697A (zh) * 2017-04-04 2018-10-23 株式会社Sk电子 光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法
CN108196421A (zh) * 2017-12-14 2018-06-22 深圳市路维光电股份有限公司 灰阶掩膜版制作方法
CN108196421B (zh) * 2017-12-14 2021-03-05 深圳市路维光电股份有限公司 灰阶掩膜版制作方法
CN111367142A (zh) * 2018-12-26 2020-07-03 聚灿光电科技（宿迁）有限公司 一种包含不同透光性的新型光学掩膜版

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150126263A (ko) 2015-11-11
KR101640082B1 (ko) 2016-07-18
TW201643541A (zh) 2016-12-16
KR101869598B1 (ko) 2018-06-20
JP2015212720A (ja) 2015-11-26
TW201543136A (zh) 2015-11-16
TWI530753B (zh) 2016-04-21
KR20160085741A (ko) 2016-07-18
TWI617876B (zh) 2018-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105022223A (zh) 多级灰度光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法
KR101140027B1 (ko) 위상 시프트 마스크의 제조방법
KR101443531B1 (ko) 포토 마스크의 제조 방법, 포토 마스크, 패턴 전사 방법 및 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법
JP5306507B2 (ja) ブランクマスク及びフォトマスク
CN103383522A (zh) 光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法
KR101895122B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법
KR20130102522A (ko) 패턴 전사 방법 및 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법
JP2015049282A (ja) 表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法
CN105573046A (zh) 光掩模、光掩模的制造方法以及图案的转印方法
CN105467745A (zh) 光掩模和显示装置的制造方法
CN105319831A (zh) 光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法
KR101751605B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법
TW201805718A (zh) 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法
CN106597807A (zh) 光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法
KR20160073922A (ko) 포토마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
CN107817648A (zh) 光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法
KR101742358B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 패턴 전사 방법
JP4029828B2 (ja) 両面マスク用ブランクの製造方法および両面マスクの製造方法
JP2009229893A (ja) 多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法
CN107844026A (zh) 光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法
CN107861334A (zh) 光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20151104