CN105022194A - 光照射装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光照射装置，其包括光源、第一反光镜以及第二反光镜。所述光源设在相对的第一基板以及第二基板之间，分别向所述第一基板和所述第二基板提供第一光以及第二光。所述第一反光镜隔着所述光源与所述第一基板相对配置，所述第二反光镜隔着所述光源与所述第二基板相对配置。

Description

光照射装置

技术领域

本发明涉及光照射装置，具体地，涉及用于制造显示装置时使用的光照射装置。

背景技术

通常，液晶显示装置是在具有用于产生电场的电极的两个基板之间注入液晶物质并向两个电极施加不同电势形成电场，由此改变液晶分子的排列，调整透光率，从而显示图像的装置。上述液晶显示装置具有使上述液晶分子朝预定方向线倾斜的取向膜。

制造上述液晶显示装置时需要进行多个阶段的工序。例如，尤其是对上述取向膜赋予方向性时或者通过光刻使薄膜图案化的工序中包括向基板照射光的曝光工序。

发明内容

本发明要解决的技术问题

本发明的目的在于提供一种能够高效率地向基板照射光的光照射装置。

本发明的目的在于提供一种制造显示装置时使用的光照射装置，具体地，在基板上形成取向膜时，能够短时间内高效率地向上述取向膜照射光的光照射装置。

解决技术问题的技术手段

根据本发明的一实施例的光照射装置，包括光源、第一反光镜以及第二反光镜。所述光源设在相对的第一基板以及第二基板之间，分别向所述第一基板和所述第二基板提供第一光以及第二光。所述第一反光镜隔着所述光源与所述第一基板相对配置，所述第二反光镜隔着所述光源与所述第二基板相对配置。

在本发明的一实施例中，所述第一反光镜以及所述第二反光镜中的至少一个的截面为椭圆的一部分形状。

在本发明的一实施例中，所述第一反光镜的截面可以相当于第一椭圆的一部分，所述第二反光镜的截面可以相当于第二椭圆的一部分。

在本发明的一实施例中，所述第一反光镜和所述第二反光镜的截面能够与穿过所述光源的线中的一个线对称。

在本发明的一实施例中，所述第一反光镜可以具有切除部分第一反光镜的第一开口，以使第二光在所述光源和所述第二基板之间前进，所述第二反光镜可以具有切除部分第二反光镜的第二开口，以使第一光在所述光源和所述第一基板之间前进。

在本发明的一实施例中，所述第一椭圆的多个焦点中的一个和所述第二椭圆的多个焦点中的一个一致，所述光源可以位于所述第一椭圆和所述第二椭圆的一致的焦点上或者其周围。

在本发明的一实施例中，所述第一基板可以设在所述第一椭圆的剩余焦点中的一个上或者其附近，所述第二基板可以设在所述第二椭圆的剩余焦点中的一个上或者其附近。

在本发明的一实施例中，所述光照射装置还可以包括：设在所述第一基板和所述光源之间的第一光学板和设在所述第二基板和所述光源之间的第二光学板。

在本发明的一实施例中，所述第一光学板以及所述第二光学板可以分别包括偏光器。

在本发明的一实施例中，所述第一光学板以及所述第二光学板分别还包括设在所述偏光器的一侧的带通滤波器。

在本发明的一实施例中，所述第一光以及所述第二光可以是紫外线。

在本发明的一实施例中，所述第一光以及所述第二光可以是偏振光。

在本发明的一实施例中，所述第一基板以及所述第二基板可以分别包括基底基板和设在所述基底基板上的取向膜。

在本发明的一实施例中，所述第一基板和所述第二基板可以配置为垂直于地面，所述光源和所述第一以及第二基板中的一个可进行移动。

发明效果

根据本发明的一实施例，光照射装置中的光源的有效照射区域比现有的光照射装置中的光源的有效照射区域更广，从而，与现有的光照射装置相比，能够显著提高光效率。

并且，当利用本发明的光照射装置进行基板的曝光时，能够从光源的两侧同时对基板进行曝光，因此能够显著增加曝光处理数量，同时显著减少制造时间。

附图说明

图1是根据本发明的一实施例的光照射装置立体图。

图2是图1所示的光照射装置的部分截面图。

图3是现有的光照射装置的部分截面图。

具体实施方式

本发明可以有多种变化，可以以多种方式实施本发明，在附图中示出特定的实施例并进行详细说明。但是，这并不是用于将本发明限定于特定的方式，包含在本发明的思想以及技术范围的所有变更、等同物以及代替物均包括在本发明的保护范围内。

在说明各图时，对于类似的构成要素标注了类似的符号。为了明确本发明，在附图中，构成物的尺寸比实际有所扩大示出。第一、第二等术语用于说明多种构成要素，但是，上述构成要素并不限定于所述术语。所述术语仅用于与其他构成要素加以区别。例如，在不脱离本发明的保护范围的情况下，第一构成要素可以命名为第二构成要素，类似地，第二构成要素可以命名为第一构成要素。如果没有明确表示不同，则单数的表述方式包括多个的情况。

在本申请中，“包括”或者“具有”等术语指定存在说明书中记载的特征、数字、步骤、动作、构成要素、部件或者其组合，并不是用于排除存在或者追加一个或一个以上的其他特征或者数字、步骤、动作、构成要素、部件或者其组合的可能性。并且，当记载为层、膜、区域、板等部分位于其他部分的“上面”时，不仅包括位于其他部分的“正上面”的情况，还包括其之间具有另一部分的情况。相反，当记载为层、膜、区域、板等部分位于其他部分的“下面“时，不仅包括位于其他部分的”正下面“的情况，还包括其之间具有另一部分的情况。

图1是根据本发明的一实施例的光照射装置的立体图，图2是图1所示的光照射装置的一部分的截面图。图2是沿平行于地面的面截取时的截面图，为了方便说明，省略了一部分构成要素。

参照图1以及图2，根据本发明的一实施例的光照射装置可以包括发射光的光源LS和反射所述光以使所述光向基板前进的反光镜。所述光照射装置在所述光源LS和所述基板之间还可以包括过滤所述光的一部分的光学板。一对基板彼此相对地配置在所述光源LS的两侧。

根据本发明的一实施例的光照射装置向上述相对的两个基板照射光。

根据本发明的一实施例的光照射装置可用于在制造显示装置的步骤中需要照射光的步骤。尤其是，在制造液晶显示装置的步骤中形成取向膜时可以将根据本发明的一实施例的光照射装置用作紫外线照射装置。但是，根据本发明的一实施例的光照射装置的用途并不限定于此，只要是用于向基板上照射光就可以使用，并不特别限定。例如，通过光刻使特定构成要素图案化时，可以在曝光工序使用根据本发明的一实施例的光照射装置。并且，在制造除了显示装置之外的其他装置时，只要未脱离本发明的概念，可以使用根据本发明的一实施例的光照射装置。从而，从所述光照射装置接收光的被照射基板通常是用于显示装置的基板，但并不限定于此。

下面，以根据本发明的一实施例的光照射装置用于形成液晶显示装置的取向膜时为例子进行说明。

所述基板是用于液晶显示装置的基板，可配置在支座上。可以省略所述支座。可设置一对所述基板，下面，为了方便说明，以所述光源LS为中心，将位于一侧的基板称为第一基板SUB1，位于另一侧的基板称为第二基板SUB2，将支撑所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2的支座分别称为第一支座ST1以及第二支座ST2。并且，在本发明的一实施例中，以地面为标准，构成平行于所述地面的平面的两个方向称为第一方向D1和第二方向D2，分别垂直于所述第一方向D1和所述第二方向D2且远离所述地面的方向称为第三方向D3。

在本发明的一实施例中，所述第一基板SUB1包括第一基底基板BS1和形成在其上面的第一取向膜ALN1。所述第二基板SUB2包括第二基底基板BS2和形成在其上的第二取向膜ALN1。所述第一取向膜ALN1和所述第二取向膜ALN1彼此相对。

所述第一基底基板BS1以及所述第二基底基板BS2分别可以包括绝缘基板以及形成在所述绝缘基板上的布线、薄膜晶体管、电极等元件。

所述第一基底基板BS1以及所述第二基底基板BS2可以分别形成为各种形状。在本发明的一实施例中，所述第一基底基板BS1以及所述第二基底基板BS2具有长方形形状，具有一对长边和一对短边。但是，只要不脱离本发明的概念，所述第一基底基板BS1以及所述第二基底基板BS2可以形成为其他形状，例如，多边形，例如，一般的四边形、直角四边形、平行四边形等形状。并且，所述各多边形的一部分，例如边缘部分可形成为曲线状。或者，所述第一基底基板BS1以及所述第二基底基板BS2还可以形成为不规则形状。根据其用途，所述第一基底基板BS1以及所述第二基底基板BS2可具有不同的厚度。

所述第一取向膜ALN1以及所述第二取向膜ALN1分别包括感光性高分子。所述感光性高分子是照射光时进行二聚反应(dimerizationreaction)、顺反异构化(cis-trans isomerization)或者光分解反应(light-decomposition reaction)的化合物，可按照所述光照射方向或者偏光方向赋予方向性。所述第一取向膜ALN1以及所述第二取向膜ALN1在与包括液晶分子的液晶层接触时，使所述所述第一取向膜ALN1以及所述第二取向膜ALN1附近的液晶分子根据所述第一取向膜ALN1以及所述第二取向膜ALN1的方向性向特定方向预倾。

其中，所述“取向膜”术语是指被照射后具有特定方向的方向性的高分子膜，但在本发明中，将照射光之前的不具有特定方向的方向性的高分子膜也称为取向膜。

所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2可以是具有相同结构的基板。但是，并不限定于此，还可以是不同的基板。例如，所述第一基底基板BS1和所述第二基底基板BS2分别可以是薄膜晶体管基板和和滤色片基板。并且，所述第一取向膜ALN1和所述第二取向膜ALN1所包括的高分子的种类可以不同。

所述支座用于支撑所述基板以便简单地输送所述基板，包括用于支撑所述第一基板SUB1的第一支座ST1和支撑所述第二基板SUB2的第二支座ST2。只要能够实现上述功能，所述第一支座ST1和所述第二支座ST2可以具有各种形状和材料。所述第一支座ST1以及所述第二支座ST2分别可以是载体基板。所述第一支座ST1以及所述第二支座ST2的面积可与所述基板的相同或者更大。或者，所述第一支座ST1以及所述第二支座ST2的面积小于对应的第一基板SUB1以及所述第二基板SUB2的面积。所述第一支座ST1以及所述第二支座ST2各自的面积只要能够稳定地固定及支撑和输送对应的基板即可，并不特别限定其面积。

虽然未图示，但在所述第一基板SUB1以及/或者所述第二基板SUB2的附近，更加具体地，所述第一支座ST1以及所述第二支座ST2的附近可设置用于与所述第一支座ST1和所述第二支座ST2一同输送所述第一基板SUB1以及所述第二基板SUB2的输送部件。所述输送部件能够将所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2分别沿平行于地面的方向，例如所述第一方向D1或者与所述第一方向D1相反的方向输送。这时，所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2配置为各自的基板面与由所述第一方向D1和所述第三方向D3构成的平面平行。

通过所述输送部件可单独输送所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2。例如，所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2可以均沿第一方向D1输送，或者所述第一基板SUB1沿所述第一方向D1输送，所述第二基板SUB2沿与所述第一方向D1相反的方向输送。或者，所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2可以以相同或者不同的速度输送。

所述光源LS向所要照射的基板上提供光。可根据被照射基板的种类，设定不同的所述光。所述光可以是红外线、可视光、紫外线等，可以是朝特定方向圆偏光或者线偏光的光。或者，所述光还可以仅由特定带宽区域的波长构成。如本发明实施例示出的，如所述被照射基板是与液晶显示装置的取向膜相关联的基板，则所述光可以是例如紫外线，还可以是偏振光。在本发明的另一实施例中，被照射基板涉及高分子膜，并且，需要硬化所述高分子膜，则所述光可以是红外线。即，如上所述，根据被照射基板的种类不同，所述光的种类也不同。

根据需要照射的光的种类，设定不同的的所述光源LS。例如，需要照射的光是紫外线时，可以使用高压汞灯或者在汞中添加其他金属的金属卤化物灯(metal halide lamp)。

所述光源LS可形成为各种形状，根据本发明的一实施例，发光部可形成为棒形。例如，所述光源LS可形成为沿一方向延伸的圆柱形。所述光源LS的截面为圆形，以所述圆为中心，呈放射状发射光。所述光源LS可配置成与垂直于地面的方向，即所述第三方向D3平行。这时，所述光源LS可向平行于所述地面的方向发射光。在图1，所述光源LS的发光部的沿第三方向D3的长度比所述第一基板SUB1以及/或者第二基板SUB2的宽度短，但是，还可以与所述第一基板SUB1以及/或者所述第二基板SUB2的第三方向D3的宽度基本相同。

尽管未示出，所述光源LS的附近还可以设置输送部件，用于向第一方向D1或者所述第一方向D1的相反方向输送所述光源LS。

所述反光镜配置成与所述光源LS相邻。所述反光镜形成为包围所述光源LS的至少一部分。所述反光镜包括向不同方向反射来自所述光源LS的光的第一反光镜RF1和第二反光镜RF2。所述第一反光镜RF1用于向第一基板SUB1方向反射所述光，所述第二反光镜RF2用于向所述第二基板SUB2方向反射所述光。

所述第一反光镜RF1隔着所述光源LS与所述第一基板SUB1相对配置，所述第一反光镜RF1设在所述光源LS和所述第二基板SUB2之间，与所述光源LS以及所述第二基板SUB2分离。所述第二反光镜RF2隔着所述光源LS与所述第二基板SUB2相对配置，所述第二反光镜RF2设在所述光源LS和所述第一基板SUB1之间，与所述光源LS以及所述第一基板SUB1分离。

所述第一反光镜RF1的截面可以是第一椭圆的一部分。所述第一椭圆在所述第二方向D2具有长轴。

从而，从所述光源LS发出的光中的朝向所述第一反光镜RF1方向的光通过所述第一反光镜RF1反射，向所述第一基板SUB1方向前进。

在所述第一椭圆中，两个焦点中的一个位于所述光源LS的中心或者所述光源LS附近，剩余焦点中的一个位于所述第一基板SUB1上或者所述第一基板SUB1附近。所述第一反光镜RF1的焦点中的一个配置在所述第一基板SUB1上或者其附近，因此，所述光集中在所述第一基板上或者所述第一基板SUB1附近，从而照射到所述第一基板SUB1上。

所述第一反光镜RF1包括彼此分离的第一副反光镜RF1a和第二副反光镜RF1b。所述第一副反光镜RF1a和所述第二副反光镜RF1b在所述光源LS和所述第二基板SUB2之间的对应于所述椭圆的顶点的部分具有开口，所述第一副反光镜RF1a和所述第二副反光镜分离指定间隔。所述第一副反光镜RF1a和第二副反光镜RF1b之间的开口成为从所述光源LS直接向第一基板SUB1侧前进的光以及被所述第二反光镜RF2反射的光的通道。根据所述开口的形状，通过所述开口发射到所述第一基板SUB1的光具有朝所述第三方向D3延伸的缝隙状。

所述第一反光镜RF1以及所述第二反光镜RF2的截面以穿过所述光源LS的中心的线中的一个线对称。并且，所述第一反光镜RF1和所述第二反光镜RF2隔着穿过所述光源LS的中心且平行于所述第一方向D1的面彼此分离，隔着所述面彼此对称。

所述第二反光镜RF2的截面可以是第二椭圆的一部分。所述第二椭圆在所述第二方向D2具有长轴。

从而，从所述光源LS发出的光中的朝向所述第二反光镜RF2方向发出的光被所述第二反光镜RF2反射，向所述第二基板SUB2方向前进。

在所述第二椭圆中，两个焦点中的一个可位于所述光源LS的中心或者所述光源LS附近，剩余焦点中的一个可位于所述第二基板SUB2上或者所述第二基板SUB2附近。所述第二椭圆可具有与所述第一椭圆相同的形状，只是其位置是沿第二轴移动的椭圆。

所述第二反光镜RF2的焦点中的一个配置在所述第二基板SUB2上或者附近，因此，所述光集中在所述第二基板上或者所述第二基板SUB2附近，从而照射在所述第二基板SUB2上。

所述第二反光镜RF2包括彼此分离的第三副反光镜RF2a和第三副反光镜RF2b。所述第三副反光镜RF2a和所述第四副反光镜RF2b在所述光源LS和所述第一基板SUB1之间的对应于所述椭圆的顶点的部分具有开口，由此，所述第三副反光镜RF2a和所述第四副反光镜RF2b分离指定间隔。所述第三副反光镜RF2a和第四副反光镜RF2b之间的开口成为从所述光源LS直接向第二基板SUB2侧前进的光以及被所述第一反光镜RF1反射的光的通道。根据所述开口的形状，通过所述开口发射到所述第二基板SUB2的光具有朝所述第三方向D3延伸的缝隙状。

在本发明的一实施例中，在所述第一椭圆和所述第二椭圆，所述第一椭圆的多个焦点中的一个和所述第二椭圆的多个焦点中的一个可以一致。这时，所述光源LS可位于所述第一椭圆和所述第二椭圆的一致的焦点上或者其附近。

在本发明的一实施例中，实质上，从所述光源LS发射最终到达所述第一基板SUB1或者所述第二基板SUB2的光是所述第一基板SUB1以及/或者所述第二基板SUB2上表面的法线方向。但是，所照射的所述光与所述第一基板SUB1以及/或者所述第二基板SUB2上表面之间的角度并不限定于此，还可以是锐角。可通过调节所述光源LS与所述第一副反光镜RF1a和第二副反光镜RF1b之间的开口以及/或者所述第三副反光镜RF2a和所述第四副反光镜RF2b之间的开口的位置以及宽度来控制照射的所述光与所述第一基板SUB1以及/或者所述第二基板SUB2的上表面之间的角度。

在本发明的一实施例中，所述第一反光镜RF1和所述第二反光镜RF2的截面均为椭圆形状的一部分，但是并不限定于此，两个反光镜的截面中的一个可以不是椭圆的一部分。例如，所述第一反光镜RF1的截面为椭圆的一部分，而所述第二反光镜RF2的截面为抛物线的一部分。

所述光学板用于改变从所述光源LS发射的光的特性。例如，所述光学板使透过所述光学板的光向特定方向偏光，或者延迟相位，或者遮挡特定波长的光或使其通过，可具有这些功能的组合。

根据被照射基板的种类以及所述光源LS的种类，可省略所述光学板。例如，当所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2的种类不同，且只有一侧需要特定的光的特性时，可以仅在所述一侧设置光学板。

所述光学板可与所述第一基板SUB1或者所述第二基板SUB2的一面实质上平行。即，所述光学板的一面实质上可平行于由所述第一方向D1和所述第三方向D3构成的平面。

在本发明的一实施例中，所述光学板包括设在所述光源LS和所述第一基板SUB1之间用于改变向所述第一基板SUB1前进的光的特性的第一光学板OP1和设在所述光源LS和所述第二基板SUB2之间用于改变向所述第二基板SUB2前进的光的特性的第二光学板OP2。

在本发明的一实施例中，所述第一光学板OP1和所述第二光学板OP2中的至少一个可包括偏光器。当所述第一光学板OP1和所述第二光学板OP2分别具有第一偏光器POL1和第二偏光器POL2时，所述第一偏光器POL1和所述第二偏光器POL2能够使从所述光源LS发射的光向特定方向偏光。在本发明的一实施例中，所述第一偏光器POL1和所述第二偏光器POL2使所述光向相同的方向偏光，但是，并不限定于此，还可以使所述光向不同方向偏光。

在本发明的一实施例中，所述第一光学板OP1和所述第二光学板OP2中的至少一个还可以包括带通滤波器。当所述第一光学板OP1和所述第二光学板OP2分别包括第一带通滤波器BPF1和第二带通滤波器BPF2时，所述第一带通滤波器BPF1以及第二带通滤波器BPF2可分别遮挡特定波长的光或使其通过。在本发明的一实施例中，所述第一带通滤波器BPF1以及所述第二带通滤波器BPF2可分别遮挡相同波长的光或使其通过，但是，并不限定于此，还可以遮挡不同波长的光或使其通过。

在具有上述结构的光照射装置中，所述光源LS或者所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2中的至少任一个进行移动，从而向所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2照射光。所述光源LS和所述第一基板SUB1以及/或者所述第二基板SUB2可通过配置在所述第一基板SUB1以及/或者所述第二基板SUB2附近的输送部件移动。

在本发明的一实施例中，所述光源LS是固定的，无法移动，所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2向所述第一方向D1或者与所述第一方向D1相反的方向移动。在本发明的另一实施例中，所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2是固定的，无法移动，所述光源LS向所述第一方向D1或者与所述第一方向D1相反的方向移动。

这时，所述第一基板SUB1和所述第二基板SUB2通过经由各反光镜内的副反光镜之间的开口发射的光，从一侧向另一侧依次曝光。

根据本发明的一实施例的光照射装置还可以包括用于限制所述光学板和基板之间的照射区域的掩膜(未图示)。通过设置所述掩膜，能够仅使有效的照射光在所述基板的指定区域曝光。

与现有的光照射装置相比，具有上述结构的光照射装置的光源LS的表面有效照射区域明显增加。所述表面有效照射区域是指发射了到达所述第一基板SUB1或者所述第二基板SUB2的光的光源LS的表面。在所述光源LS，从非所述有效照射区域发射的光无法到达所述第一基板SUB1或者所述第二基板SUB2，被丢弃。

下面，参照图2和图3详细说明。其中，图3是示出了现有的光照射装置的一部分的截面图，是沿垂直于地面的面截取时的截面图。

参照图2，将从所述光源LS向所述第一基板SUB1前进的光称为第一光L1，则所述第一光L1是沿光的通路的第一子光L1a、第二子光L1b以及第三子光L1c的和。在所述光源LS，将与所述第一基板SUB1直接相对的区域称为第一发光区域A1，与所述第一副反光镜RF1a相对的区域称为第二发光区域A2，与所述第二副反光镜RF1b相对的区域称为第三发光区域A3，则所述第一子光L1a从所述第一发光区域A1发射，直接向所述第一基板SUB1前进。所述第二子光L1b从所述第二发光区域A2发射，通过所述第一副反光镜RF1a反射之后向所述第一基板SUB1前进。所述第三子光L1c从所述第三发光区域A3发射，通过所述第二副反光镜RF1b反射之后向所述第一基板SUB1前进。

将从所述光源LS向所述第二基板SUB2前进的光称为第二光L2，则所述第二光L2是沿光通路的第四子光L2a、第五子光L2b以及第六子光L2c的和。在所述光源LS，将与所述第二基板SUB2直接相对的区域称为第四发光区域B1，与所述第三副反光镜RF2a相对的区域称为第五发光区域B2，与所述第四副反光镜RF2b相对的区域称为第六区域，则所述第四子光L2a从所述第四发光区域B1发射，直接向所述第二基板SUB2前进。所述第五子光L2b从所述第五发光区域B2发射，通过所述第三副反光镜RF2a反射之后向所述第二基板SUB2前进。所述第六子光L2c从所述第六发光区域B3发射，通过所述第四副反光镜RF2b反射之后向所述第二基板SUB2前进。

如上所述，在根据本发明一实施例的光照射装置的光源LS中，从所述第一发光区域A1到第六发光区域B3发射的光施加在所述第一基板SUB1或者所述第二基板SUB2中的任一个上。从所述光源LS发射的光未能到达所述第一基板SUB1或者所述第二基板SUB2的区域只是所述第一反光镜RF1和所述第二反光镜RF2彼此相邻的区间。

因此，当所述光源LS整个表面的面积为100％时，约90％到约95％的面积相当于所述光源LS中的有效照射区域。

参照图3，现有的光照射装置包括光源LS和向基板SUB反射从所述光源LS发射的光的反光镜RF。可以在所述光源LS和所述基板之间添加有光学板，但是，为了方便说明，未示出。在图3，第一方向D1、第二方向D2以及第三方向D3表示与本发明的一实施例相同的方向。

在现有的光照射装置中，所述基板SUB示出为包括基底基板BS和取向膜ALN。所述基板SUB平行于地面，即与由所述第一方向D1和所述第二方向D2构成的平面平行设置。

所述光源LS形成为沿第一方向D1延伸的圆柱形，设在所述基板SUB上。

所述反光镜RF隔着所述光源LS与所述基板SUB相对配置。其中，所述反光镜RF仅配置在所述光源LS的一侧。

所述反光镜RF的截面可以是椭圆的一部分。所述反光镜RF可包括在相当于所述椭圆的顶点的部分彼此分离的第五副反光镜RFa和第六副反光镜RFb。

在现有的光照射装置中，根据通路，供给所述基板SUB的光分为第七子光L3a、第八子光L3b以及第九子光L3c。在所述光源LS，将与所述基板SUB直接相对的区域称为第七发光区域C1，与所述第五副反光镜RFa相对的区域称为第八发光区域C2，与所述第六副反光镜RFb相对的区域称为第九发光区域C3，则所述第七子光L3a从所述第七发光区域C1发射，直接向所述基板SUB前进，所述第八子光L3b从所述第八发光区域C2发射，通过所述第五副反光镜RFa反射之后向所述基板SUB前进，所述第九子光L3c从所述第九发光区域C3发射，通过所述第六副反光镜RFb反射之后向所述基板SUB前进。

如上所述，在现有的光照射装置的光源LS，除了所述第七发光区域C1到所述第九发光区域C3以外的区域发射的光无法到达所述基板SUB，被丢弃。尤其是，由于从与所述第七发光区域C1相邻的所述光源的表面区域发射的光向与在所述基板SUB上前进的集中的有效光的方向相反的方向前进，因此，实质上，无法用于所述基板SUB的曝光。

因此，当所述光源整个表面的面积为100％时，约40％到约50％的面积相当于所述光源LS中的有效照射区域，与根据本发明的实施例的光照射装置的光源中的有效照射区域相比，其值明显小。

如上所述，根据本发明的一实施例的光照射装置中的光源的有效照射区域是现有的光照射装置中的光源的有效照射区域的约2.05倍，与现有的光照射装置相比，明显提高光效率。

并且，利用本发明的光照射装置对基板进行曝光时，能够从光源的两侧同时对基板进行曝光，因此显著增加曝光处理数量，同时显著减少制造时间。

下表1是使用现有的光照射装置与根据本发明的一实施例的光照射装置进行光配向时的曝光量、曝光速度、每张基板处理速度以及一个月内可处理的基板数量。在下表1中，除了光照射装置之外，其他曝光条件在使用现有的照射装置时和使用本发明的光照射装置时相同。在光照射装置中，使用了两灯式250W的光源。

表1

如所述表1所示，当使用根据本发明的一实施例的光照射装置时，与现有的光照射装置相比，光效率可提高2倍，曝光速度也提高约2倍。因此，当使用根据本发明的实施例的光照射装置时，每张基板的处理速度减少到现有的装置的一半，一个月内可处理的基板的数量增加到2倍。

上面参照本发明的优选实施例进行了说明，但是，本领域技术人员可在不脱离权利要求书中记载的本发明的思想以及技术领域的范围内对本发明进行各种修改以及变更。

例如，在本发明的一实施例中示出了所述光源朝垂直于地面的方向延伸，并且与此对应地配置了基板等，但是并不限定于此。只要能够保持本发明的概念，即两个基板隔着所述光源相对的方式，所述光源的延伸方向还可以平行于地面。

因此，本发明的保护范围不受说明书中详细说明的内容的限定，由权利要求书中记载的内容限定。

附图标记

LS：光源

OP1：第一光学板

OP2：第二光学板

RF1：第一反光镜

RF2：第二反光镜

SUB1：第一基板

SUB2：第二基板。

Claims (17)

1.一种光照射装置，其包括：

光源，设在相对的第一基板以及第二基板之间，分别向所述第一基板和所述第二基板提供第一光以及第二光；

第一反光镜，隔着所述光源与所述第一基板相对配置；以及

第二反光镜，隔着所述光源与所述第二基板相对配置。

2.根据权利要求1所述的光照射装置，其中：

所述第一反光镜以及所述第二反光镜中的至少一个的截面具有椭圆的一部分。

3.根据权利要求2所述的光照射装置，其中，

所述第一反光镜的截面相当于第一椭圆的一部分，所述第二反光镜的截面相当于第二椭圆的一部分。

4.根据权利要求3所述的光照射装置，其中，

所述第一反光镜和所述第二反光镜的截面与穿过所述光源的线中的一个线对称。

5.根据权利要求3所述的光照射装置，其中，

所述第一反光镜具有切除部分所述第一反光镜的第一开口，以使所述第二光在所述光源和所述第二基板之间前进，所述第二反光镜具有切除部分所述第二反光镜的第二开口，以使所述第一光在所述光源和所述第一基板之间前进。

6.根据权利要求3所述的光照射装置，其中，

所述第一椭圆的多个焦点中的一个与所述第二椭圆的多个焦点中的一个一致，所述光源位于所述第一椭圆和所述第二椭圆的一致的焦点上或者其附近。

7.根据权利要求6所述的光照射装置，其中，

所述第一基板设在所述第一椭圆的剩余焦点中的一个上或者其附近，所述第二基板设在所述第二椭圆的剩余焦点中的一个上或者其附近。

8.根据权利要求1所述的光照射装置，还包括：

第一光学板，设在所述第一基板和所述光源之间；以及

第二光学板，设在所述第二基板和所述光源之间。

9.根据权利要求8所述的光照射装置，其中，

所述第一光学板以及所述第二光学板分别包括偏光器。

10.根据权利要求9所述的光照射装置，其中，

所述第一光学板以及所述第二光学板分别还包括设在所述偏光器的一侧的带通滤波器。

11.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，

所述第一光以及所述第二光是紫外线。

12.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，

所述第一光以及所述第二光是偏振光。

13.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，

所述第一基板以及所述第二基板分别包括基底基板以及设在所述基底基板上的取向膜。

14.根据权利要求1所述的光照射装置，还包括：

第一支座以及第二支座，分别支撑所述第一基板和所述第二基板。

15.根据权利要求14所述的光照射装置，其中，

所述第一基板和所述第二基板配置成垂直于地面。

16.根据权利要求14所述的光照射装置，其中，

所述光源被固定，所述第一基板以及所述第二基板能够朝一个方向移动。

17.根据权利要求14所述的光照射装置，其中，

所述第一基板以及所述第二基板被固定，所述光源能够朝一方向移动。