CN105017987A - 一种光学双面胶带 - Google Patents

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施克炜
陈晓东
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Abstract

本发明公开了一种有基材的光学双面胶带，包括一层透明光学薄膜，透明光学薄膜的两个表面各涂布上各设有一层压敏胶，各压敏胶远离所述透明光学薄膜的一面上覆贴设有一层离型膜。本发明还公开了一种光学双面胶带，各压敏胶和透明光学薄膜之间均涂布一层表面处理层。本发明公开的有基材光学双面胶带，具有工艺简单，性能优良，方便后续加工和模切等优点。

Description

一种光学双面胶带
技术领域
本发明涉及一种光学双面胶带，属于光学材料领域。
背景技术
OCA光学胶(Optically Clear Adhesive)是触摸屏的重要原材料之一，其优点是清澈度、高透光性、高黏着力，是目前用于液晶及触控屏幕的主要材料之一。
OCA光学胶通常将光学亚克力胶做成无基材，然后在上下底层再各贴合一层离型薄膜，是一种无基体材料的双面贴合胶带。
OCA无基材光学胶具有优异的各项性能，但在生产、加工、使用过程中存在以下问题需要解决：
1、无基材胶带生产难度大，成品良率低，对设备性能要求高；
2、胶层厚度通常较厚，溶剂不宜挥发，生产车速慢(1-10米/分钟)，产量低；
3、后续加工、模切困难；
4、胶膜强度低，使用时易产生形变，对可操作性要求高。
因此，本领域的技术人员致力于开发一种全新的OCA光学胶，以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的旨在克服上述现有OCA无基材光学胶技术中的不足，提供一种全新的有基材光学双面胶带，具有工艺简便、性能优良、方便后续加工和模切等优点。
为实现上述目的，本发明提供了一种光学双面胶带，包括，一层透明光学薄膜层(104)，所述透明光学薄膜层(104)的两个表面上各设有一层压敏胶层(102,106)，所述各压敏胶层(102,106)远离所述透明光学薄膜层的一面上设有一层离型膜层(101，107)。
优选地，所述压敏胶层(102,106)通过涂布形成在所述透明光学薄膜层(104)上，所述离型膜层(101,107)通过覆贴形成在所述压敏胶层(102，106)上。
优选地，所述压敏胶层，其中一层(102)材料为有机硅类压敏胶、有机氟硅类压敏胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类压敏胶或橡胶类压敏胶，另一层(106)材料为有机硅类压敏胶、有机氟硅类压敏胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类压敏胶或橡胶类压敏胶。
优选地，所述各压敏胶层(102,106)和透明光学薄膜层(104)之间均通过涂布形成一层表面处理层(103,105)。
优选地，所述表面处理层，其中一层(103)材料包括有机硅树脂、有机氟硅树脂、丙烯酸树脂、有机硅改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂，另一层(105)材料包括有机硅树脂，有机氟硅树脂、丙烯酸树脂、有机硅改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂。
优选地，所述表面处理层(103，105)材料还包括光学改性剂，如光学染料、折光率改性剂等。
优选地，所述透明光学薄膜层(104)材料为聚酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜或三醋酸纤维素薄膜。
优选地，所述离型膜层(101,107)材料为有机硅离型膜、无硅离型膜、或氟素离型膜，所述离型膜的基材为PET、PC、PP或合成纸。
本发明提供的光学双面胶带，具有以下有益效果：
1、相对于无基材的光学胶对离型膜要求高，工艺复杂，且胶膜强度低，使用时易产生形变，后续加工和模切困难，本发明提供的有基材的光学胶工艺简单，不易产生形变，方便后续加工和模切；
2、无基材的光学胶只能为一种胶，而本发明提供的有基材的光学胶可根据需要使用两种不同的胶，可满足一些特殊领域需要不同胶贴合不同基材的要求；
3、表面处理层不仅可以增加上下两层的粘合度，还可以通过加入添加剂的方式以此改善光学性能。
以下将结合附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本发明的目的、特征和效果。
附图说明
图1是本发明较佳实施例的光学双面胶带的断面结构示意图；
图2本发明另一较佳实施例的光学双面胶带的断面结构示意图。101、107为离型膜层；102、106为压敏胶层；103、105为表面处理层；104为光学透明薄膜层。
具体实施方式
实施例1：
将丙烯酸压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0.05mm、宽度为1000mm光学聚酯薄膜上，涂胶厚度为0.035mm，涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度，通过总长度15～45m、温度为60～160℃的烘道烘焙，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学聚酯离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层丙烯酸压敏胶，涂胶厚度为0.035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学聚酯离型膜，制得有基材光学双面胶带。
测试项目 测试值 测试标准
A胶粘性 9.5N/in JIS-K6878
B胶粘性 9.3N/in JIS-K6878
透光率 91％ JIS-K7105
雾度 1％ JIS-K7105
实施例2：
将丙烯酸压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0.005mm、宽度为1000mm光学聚酯薄膜上，涂胶厚度为0.035mm，涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度，通过总长度15～45m、温度为60～160℃的烘道烘焙，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学有机硅离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层有机硅压敏胶，涂胶厚度为0.035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学有机硅离型膜，制得有基材光学双面胶带。
测试项目 测试值 测试标准
A胶粘性 9.4N/in JIS-K6878
B胶粘性 0.3N/in JIS-K6878
透光率 91％ JIS-K7105
雾度 1％ JIS-K7105
实施例3：
将有机硅压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0.2mm、宽度为1000mm光学聚酯薄膜上，涂胶厚度为0.035mm，涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度，通过总长度15～45m、温度为60～160℃的烘道烘焙，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学氟素离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层有机硅压敏胶，涂胶厚度为0.035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学氟素离型膜，制得有基材光学双面胶带。
测试项目 测试值 测试标准
A胶粘性 5N/in JIS-K6878
B胶粘性 0.3N/in JIS-K6878
透光率 91％ JIS-K7105
雾度 1％ JIS-K7105
实施例4：
将聚氨酯压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0.01mm、宽度为1000mm光学聚酯薄膜上，涂胶厚度为0.035mm，涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度，通过总长度15～45m、温度为60～160℃的烘道烘焙，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学PE离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层有机硅压敏胶，涂胶厚度为0.035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学PE离型膜，制得有基材光学双面胶带。
测试项目 测试值 测试标准
A胶粘性 0.2N/in JIS-K6878
B胶粘性 4N/in JIS-K6878
透光率 91％ JIS-K7105
雾度 1％ JIS-K7105
实施例5：
将聚氨酯树脂通过涂布方式涂布在厚度为0.05mm、宽度为1000mm光学聚酯薄膜上，再将聚氨酯压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布，涂胶厚度为0.035mm，涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度，通过总长度15～45m、温度为60～160℃的烘道烘焙，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学聚酯离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层有机硅树脂；以及有机硅压敏胶，涂胶厚度为0.035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学聚酯离型膜，制得有基材光学双面胶带。
测试项目 测试值 测试标准
A胶粘性 1N/in JIS-K6878
B胶粘性 5N/in JIS-K6878
透光率 91％ JIS-K7105
雾度 1％ JIS-K7105
实施例6：
将添加有折光率改性剂的丙烯酸树脂通过涂布方式涂布在厚度为0.02mm、宽度为1000mm光学聚酯薄膜上，再将丙烯酸压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布，涂胶厚度为0.035mm，涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度，通过总长度15～45m、温度为60～160℃的烘道烘焙，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学聚酯离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层添加有折光率改性剂的有机硅树脂；以及有机硅压敏胶，涂胶厚度为0.035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0.036mm、宽度为1000mm的光学聚酯离型膜，制得有基材光学双面胶带。
测试项目 测试值 测试标准
A胶粘性 10N/in JIS-K6878
B胶粘性 8N/in JIS-K6878
透光率 91％ JIS-K7105
雾度 1％ JIS-K7105
除非另作定义，本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“一层”或者“一”等类似词语不表示数量限制，而是表示存在至少一个。
以上详细描述了本发明的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。

Claims (8)

1.一种光学双面胶带，其特征在于，包括，一层透明光学薄膜层(104)，所述透明光学薄膜层(104)的两个表面上各设有一层压敏胶层(102，106)，所述各压敏胶层(102，106)远离所述透明光学薄膜层(104)的一面上设有一层离型膜层(101，107)。
2.如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述压敏胶层(102,106)通过涂布形成在所述透明光学薄膜层(104)上，所述离型膜层(101,107)通过覆贴形成在所述压敏胶层(102，106)上。
3.如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述压敏胶层，其中一层(102)材料为有机硅类压敏胶、有机氟硅类压敏胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类压敏胶或橡胶类压敏胶，另一层(106)材料为有机硅类压敏胶、有机氟硅类压敏胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类压敏胶或橡胶类压敏胶。
4.如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述各压敏胶层(102,106)和透明光学薄膜层(104)之间均通过涂布形成一层表面处理层(103,105)。
5.如权利要求4所述的光学双面胶带，其特征在于，所述表面处理层，其中一层(103)材料包括有机硅树脂、有机氟硅树脂、丙烯酸树脂、有机硅改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂，另一层(105)材料包括有机硅树脂，有机氟硅树脂、丙烯酸树脂、有机硅改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂。
6.如权利要求4或5所述的光学双面胶带，其特征在于，所述表面处理层(103，105)材料还包括光学改性剂。
7.如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述透明光学薄膜层(104)材料为聚酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜或三醋酸纤维素薄膜。
8.如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述离型膜层(101,107)材料为有机硅离型膜、无硅离型膜、或氟素离型膜，所述离型膜的基材为PET、PC、PP或合成纸。
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