CN104942443B - 表面处理方法及其产品 - Google Patents
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Abstract
本发明揭示一种表面处理方法及其产品，该方法包括：将需要的图案导入镭射机，然后采用镭射机对产品的表面进行第一次镭射处理；所述第一次镭射处理完后，缩短产品与镜头的距离，再进行第二次镭射处理，所述第二次镭射处理采用的图案与所述第一次镭射处理的相同，所述第二次镭射完毕后，产品表面将形成条状干涉纹。该产品为经所述表面处理方法处理后产生的产品。该方法能够在各种材料表面形成图案，且不受材质的影响；改变第二次镭射产品离镜头的距离可以改变镭射纹路效果；第二次镭射时移动产品的位置，所得镭射纹路也随之移动；采用此方法形成的图案与产品的结合性好、持久性好、不会脱落。得到的产品外观更加精致、质感更加独特且更加抗磨防腐。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种处理方法及其产品，特别涉及一种表面处理方法及其产品。
【背景技术】
一般国内所说的表面处理有两种解释，一种为广义的表面处理，即包括前处理、电镀、涂装、化学氧化、热喷涂等众多物理与化学方法在内的工艺方法；另一种为狭义的表面处理，即只包括喷砂、抛丸等在内的即我们常说的前处理部分。近年来随着技术的发展，不断出现新的表面处理技术，其中镭射加工技术是其中的一大亮点。镭射打标技术是镭射加工最大的应用领域之一。镭射打标是利用高能量密度的镭射对工件进行局部照射，使表层材料汽化或发生颜色变化的化学反应，从而留下永久性标记的一种标记方法。
3C产品通常是指个人计算机产品、通讯产品、数字家电产品。随着PSP、ipad、上网本、智慧手机等数码产品日益丰富人们的日常生活，一些典型的“数码控”时尚一族，除了对功能需求外，对外观要求也是极为挑剔。近来，我们发现许多数码产品除功能更加人性和智能外，外观设计也发生了翻天覆地的变化。
因此，如何使产品的外观更加精致、质感更加独特，且更加抗磨防腐。是对3C产品的外观处理所要解决的问题。
有鉴于此，实有必要开发一种表面处理方法及其产品，以解决产品需要同时具备外观更加精致、质感更独特、更加抗磨防腐的问题。
【发明内容】
因此，本发明的目的是提供一种表面处理方法及其产品，以解决产品需要满足同时具备外观更加精致、质感更独特、更加抗磨防腐的问题。
为了达到上述目的，本发明的表面处理方法，该方法包括以下步骤：
将需要的图案导入镭射机，然后采用镭射机对产品的表面进行第一次镭射处理；
所述第一次镭射处理完后，缩短产品与镜头的距离，再进行第二次镭射处理，所述第二次镭射处理采用的图案与所述第一次镭射处理的相同，所述第二次镭射完毕后，产品表面形成条状干涉纹。
可选的，所述第二次镭射处理与所述第一次镭射处理相比，产品与镭射机镜头间缩短的距离小于或等于2000mm。
可选的，所述两次镭射处理所采用的标记电流为7～20A。
可选的，所述两次镭射的频率为200～80000HZ。
可选的，所述两次镭射的释放时间为2～20μs。
可选的，所述两次镭射的落笔延时为0～999μs。
可选的，所述两次镭射的波长为1.064μm。
可选的，所述两次镭射的功率为0～30W。
可选的，所述两次镭射的刻写速度为0～7000mm/s。
可选的，所述两次镭射的填充线间距为0.01～0.5mm。
本发明还提供一种产品，该产品为经所述表面处理方法处理后产生的产品。
相较于现有技术，利用本发明的表面处理方法及其产品，能够在各种材料表面形成图案，且不受材质的影响；改变第二次镭射产品离镜头的距离可以改变镭射纹路效果；第二次镭射时移动产品的位置，所得镭射纹路也随之移动；采用此方法形成的图案与产品的结合性好、持久性好、不会脱落。同时，所得到的产品外观更加精致、质感更加独特且更加抗磨防腐。
【附图说明】
图1绘示本发明表面处理方法的步骤流程图。
图2绘示本发明表面处理方法的所产生的第一种产品表面效果图。
图3绘示本发明表面处理方法的所产生的第二种产品表面效果图。
图4绘示本发明表面处理方法的所产生的第三种产品表面效果图。
【具体实施方式】
为对本发明的目的、方法步骤及功效有进一步的了解，现结合附图详细说明如下：
请结合参阅图1，图1绘示本发明表面处理方法的步骤流程图。
为了达到上述目的，本发明的表面处理方法，该方法包括以下步骤：
步骤101：将需要的图案导入镭射机，然后采用镭射机对产品的表面进行第一次镭射处理；
步骤102：所述第一次镭射处理完后，缩短产品与镜头的距离，再进行第二次镭射处理，所述第二次镭射处理采用的图案与所述第一次镭射处理的相同，所述第二次镭射完毕后，产品表面形成条状干涉纹。
其中，所述第二次镭射处理与所述第一次镭射处理相比，产品与镭射机镜头间缩短的距离小于或等于2000mm；所述两次镭射处理所采用的标记电流为7～20A；所述两次镭射的频率为200～80000HZ；所述两次镭射的释放时间为2～20μs；所述两次镭射的落笔延时为0～999μs；所述两次镭射的波长为1.064μm；所述两次镭射的功率为0～30W；所述两次镭射的刻写速度为0～7000mm/s；所述两次镭射的填充线间距为0.01～0.5mm。
实施例1：
镭射处理时采用的电流为10A，镭射频率为30000HZ，镭射的释放时间为2μs，镭射的落笔延时为150μs，镭射波长为1.064μm，镭射脉冲的平均功率为12W，镭射的刻写速度为3000mm/s；填充线间距0.1mm，两次镭射离镜头的距离差为760mm，所得干涉条纹的宽度为12.65mm。
实施例2：
镭射处理时采用的电流为18.5A，镭射频率（每秒所释放的光子数量）为3000HZ，镭射的释放时间（所需要光子的释放时间）为2μs，镭射的落笔延时（光子每走完一个轨迹时，在最后一点的缓冲时间）为150μs，镭射波长为1.064μm，镭射脉冲的平均功率为21W，镭射的刻写速度为1000mm/s；填充线间距0.1mm，两次镭射离镜头的高度差为380mm，所得干涉条纹的宽度为6.33mm。
上述方法能够在各种材料表面形成图案，不受材质的影响；改变两次镭射产品离镜头的距离可以改变镭射纹路效果；第二次镭射时移动产品的位置，所得镭射纹路也随之移动；采用此方法形成的图案与产品的结合性好、持久性好、不会脱落。
本发明还提供一种产品，该产品为经所述表面处理方法处理后产生的产品。
请结合参阅图2、图3、图4，其分别绘示本发明表面处理方法的所产生的第一种、第二种、第三种产品表面效果图。
其中，图2为一种阳极处理后的铝合金产品经处理后的表面效果图、图3为另一种阳极处理后的铝合金产品经处理后的表面效果图、图4为一种不锈钢产品经处理后的表面效果图。
可见，利用本发明的表面处理方法所得到的产品外观更加精致、质感更加独特且更加抗磨防腐。
需指出的是，本发明不限于上述实施方式，任何熟悉本专业的技术人员基于本发明技术方案对上述实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，都落入本发明的保护范围内。
Claims (10)
1.一种表面处理方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
将需要的图案导入镭射机，然后采用镭射机对产品的表面进行第一次镭射处理；
所述第一次镭射处理完后，缩短产品与镜头的距离，再进行第二次镭射处理，所述第二次镭射处理采用的图案与所述第一次镭射处理的相同，所述第二次镭射完毕后，产品表面形成条状干涉纹；所述第二次镭射处理与所述第一次镭射处理相比，产品与镭射机间缩短的距离小于或等于2000mm。
2.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射处理所采用的标记电流为7～20A。
3.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射的频率为200～80000HZ。
4.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射的释放时间为2～20μs。
5.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射的落笔延时为0～999μs。
6.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射的波长为1.064μm。
7.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射的功率为0～30W。
8.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射的刻写速度为0～7000mm/s。
9.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述两次镭射的填充线间距为0.01～0.5mm。
10.一种产品，该产品为经权利要求1-9中任一项所述表面处理方法处理后产生的产品。
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